[发明专利]一种纳米硒化锡的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810032418.5 申请日: 2008-01-08
公开(公告)号: CN101214932A 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 李珍;吴明红;吴超;刘岩岩;丁颖;焦正 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C01B19/04 分类号: C01B19/04
代理公司: 上海上大专利事务所 代理人: 王正
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 硒化锡 制备 方法
【说明书】:

技术领域:

发明涉及一种纳米硒化锡的制备方法,属于辐射化学制造纳米材料工艺技术领域。

背景技术:

纳米晶态半导体粒子因其具有大的表面体积比、高的活性、特殊的电学性质和独特的光学性质引起了科学界的广泛关注。基于半导体纳米粒子的量子尺寸效应和表面效应。半导体纳米粒子在发光材料、非线性光学材料、光敏传感器材料、光催化材料等方面具有广阔的应用前景。硒化锡(SnSe)作为IV-VI族半导体化合物,有着非常广阔的应用前景。SnSe是一种重要的半导体材料,禁带宽度约为0.9eV,各向异性,结构类似于空间群,具有优异的电学、光学性质,广泛应用于红外光电仪器和记忆切换开关、热电冷却材料、滤光片、光学刻录材料、太阳能电池材料、超离子材料、传感器和激光材料、全息图的固相介质等;片状SnSe还可用作锂离子电池的阴极材料。

目前已有多种制备纳米硒化锡的方法,包括Bridgman法、固相反应、水热法、溶剂热法、有机金属前驱体法、电化学沉积法等。这些方法通常有工艺复杂,需要高温,反应时间长。而且大多数有机金属前驱物有毒等缺点。本发明方法采用辐射法制备纳米硒化锡,该发明工艺流程简单,生产周期短,无污染及安全性好。

发明内容:

本发明的目的在于提供一种纳米硒化锡的制备方法。

为达到上述目的,本发明采用如下技术方案:

一种纳米硒化锡的制备方法,其特征在于该方法具有以下工艺步骤:

a.首先,用电子天平称取一定量的硒粉,将其溶于乙二胺中并充分搅拌,配制硒浓度为0.005-0.01mol/100ml的硒乙二胺溶液;然后用电子天平称取一定量的SnCl2·2H2O,溶解于蒸馏水中,配制浓度为0.005-0.01mol/100ml Sn2+的溶液。将硒的乙二胺溶液缓慢倒入Sn2+的溶液中,不断搅拌使其充分分散,得到清澈透明混合溶液,加入作为氧化性自由基清除剂的异丙醇,加入量为3-5ml/100ml,然后将溶液装入容器中并密封;

b.将上述盛有配制好的溶液的密封容器放在2MeV,10mA的地那米电子加速器产生的电子束的辐照下进行辐照处理,其辐照剂量为300-400KGy;

c.然后用无水乙醇洗涤经辐照的试样,再用蒸馏水清洗,并在高速离心机中离心分离,反复数次,以去除溶液中未反应的离子以及乙二胺;

d.将沉淀物在烘箱中干燥,温度为60℃,烘干时间为3-5小时,最终可以得到黑色的纳米硒化锡粉末。

本发明提出了电子束辐射法制备纳米硒化锡,以硒粉和SnCl2·2H2O为原料,乙二胺为表面活性剂,使用电子束加速器产生的电子束进行辐照处理,将辐照后的溶液清洗、分离、烘干,即可得到高纯度的纳米硒化锡。该方法辐射合成过程中无污染,能快速制备出纳米尺度均匀的硒化锡颗粒,同时工艺简单,无任何中间产物,操作方便,可以实现工业化生产。

同现有技术相比,本发明方法由于将电子束辐射技术运用于纳米硒化锡的制备,因而具有制备工艺简单,可在常温下操作,不加入任何催化剂和化学引发剂,制备周期短;产物粒度可控及产率高、安全性好,无污染等特点。采用本发明方法得到的纳米硒化锡纯度高,光学性能优越,粉末颗粒细小均匀,形状完整。因而该方法具有极其广阔的研究和应用前景。

附图说明

图1电子束辐照法制备的纳米SnSe的XRD图

具体实施方式

现结合实施例将本发明进一步叙述于后:

实施例1

本实施例的具体制备步骤如下:

a.用电子天平称取一定量的硒粉,将其溶于乙二胺中充分搅拌,其中硒浓度达0.005mol/100ml;然后电子天平称取一定量的SnCl2·2H2O,溶解于蒸馏水中,配制浓度为0.005mol/100ml Sn2+的溶液。将硒的乙二胺溶液缓慢倒入Sn2+的溶液中,不断搅拌使其充分分散,得到清澈透明混合溶液,加入作为氧化性自由基清除剂的异丙醇,加入量为3ml/100ml,然后将溶液装入容器中密封;

b.将上述盛有配制好的溶液的密封容器放在2MeV,10mA的地那米电子加速器产生的电子束的辐照下进行辐照处理,其辐照剂量为350KGy;

c.然后用无水乙醇洗涤经辐照的试样,再用蒸馏水清洗,并在高速离心机中离心分离,反复多次,以去除溶液中未反应的离子以及乙二胺;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810032418.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top