[发明专利]玉脂白工艺品及其制备工艺无效
申请号: | 200810029346.9 | 申请日: | 2008-07-10 |
公开(公告)号: | CN101362854A | 公开(公告)日: | 2009-02-11 |
发明(设计)人: | 温强 | 申请(专利权)人: | 温强 |
主分类号: | C08L67/06 | 分类号: | C08L67/06;C08K3/22;B29C70/58;B44C5/00;B44C3/04;B29L31/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510000广东省广州市天河区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 玉脂白 工艺品 及其 制备 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及树脂工艺品领域,具体涉及一种玉脂白工艺品,还涉及所述工艺品的制作工艺。
背景技术
目前市面上普通树脂工艺品的胚体质感较差,没有美感,只能起到造型的作用,必须成型后进行色彩处理,才能真正成为一件工艺品,且工序复杂,档次不高;虽有一些仿石仿玉等仿真类树脂工艺品出现,但由于其着重仿真,局限性太大,且同样制作工艺复杂,应用性不高,如与玉脂白有点类似的仿玉雕产品,其过于追求仿玉雕产品的仿真度,产品都是仿制经过精雕细琢的玉器,亮度及透明度均极高,造成其只能仿制传统的玉器造型,并不适合现代家居追求简洁、艺术、个性的要求,且其选用材料要求很高,主要材料必须用特种的树脂油材料,且后期的制作工艺复杂,必须经过严格复杂的打磨抛光等工艺,成本高,因此限制了其大量的推广与使用。
发明内容
本发明的目的正是针对现有技术存在的技术缺陷,提出一种玉脂白工艺品及其制备工艺。
为达到上述目的,本发明通过以下技术方案予以实现:本发明的第一目的在于提供一种玉脂白工艺品,其原料组成至少包括有:不饱和树脂油、氢氧化铝(俗称玛瑙粉)、固化剂、促进剂以及钛白粉或白色膏。
按重量百分比计算,上述各组分的原料配比为:
不饱和树脂油 40%-50%
氢氧化铝 50%-60%
固化剂 0.15%-0.6%
促进剂 0%-0.3%
钛白粉或白色膏 0%-0.1%
本发明进一步地,述中各组份的优选配比采用:
不饱和树脂油 45%
氢氧化铝 55%
固化剂 0.23%
促进剂 0.1%-0.3%(气温较低如15摄氏度以下,可加入微量)
钛白粉或白色膏 0.01%-0.1%(根据白度及透明度的要求,可加入微量)
本发明的第二目的在于提供上述玉脂白工艺品的制作工艺流程,其主要由以下步骤完成:
(1)、按不饱和树脂油及氢氧化铝的配比调配好浆料,混和搅拌均匀,制成不饱和聚酯树脂溶液;
(2)、根据外形设计要求,采用软塑料或硅橡胶或矽胶或其它方便脱模又不渗漏的材料制作好模具备用,并优选矽胶材料制作的模具;
(3)、根据产品的造型大小,取适量浆料,再按所述配比加入固化剂,搅拌均匀后注入制作好的模具当中;
(4)、根据产品的造型要求抽真空,然后进行或不进行摇浆工序;
(5)、成型后立即脱模;
(6)、对成型后的初品进行修胚以及磨底;
(7)、进行碱洗,清除产品表面的酸性油迹并洗净产品;
(8)、视产品需要进行彩绘;
(9)、产品完成,包装即得本发明的工艺品。
以上在室温下即可操作,并保持工作环境的清洁即可。
本发明创造了一种全新的材质用于制作工艺品,此材质的最大特点是其温润天然的白色,且有未经雕琢的天然玉石的质感,故此本申请人为此材质命名为:玉脂白。
依照本发明制作方法制备的玉脂白工艺品,质感佳,质地白润而纯净,细腻柔和,略微有点透明感,具备良好的透光度,其质感不是后期漆油或其它现有材质所能表现出来的,质感近似一种稀有的玉石——荔枝冻,用其制作工艺品,不用任何后期加工,成型后就是一件高档、极具美感的产品,也可以根据造型及图案要求,后期适当地进行彩绘图案,以更突出作品设计的意境。
本发明的玉脂白可广泛应用于各种工艺品的制作,产品经久耐用,仿真度高,美观大方,装饰性强,应用范围广阔,适用于家居、办公等各种场合,而且材料普及、获取容易、制作简便、成本低廉。
具体实施方式
下面以本案的具体实施方式对本发明加以具体的阐释。
实施例一:
本发明玉脂白工艺品的制取流程为:在室温条件并保持清洁的工作环境下进行本工艺品的制作流程,首先按照重量百分比将42%的不饱和树脂油和51%的氢氧化铝调配好浆料,混和搅拌均匀后制成聚酯树脂溶液;根据外形设计要求,准备好模具,采用方便脱模又不渗漏的矽胶材料制作模具备用;根据产品的造型大小,取适量浆料,加入0.15%的固化剂,搅拌均匀后注入模具;并根据产品的造型要求进行抽真空,然后进行摇浆工序;成型后立即脱模;修胚及磨底;碱洗,清除产品表面的酸性油迹并洗净产品;视需要对产品进行彩绘;产品完成,包装即得本发明的工艺品。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于温强,未经温强许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810029346.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电介质隔离型半导体装置
- 下一篇:半导体器件的制造方法