[发明专利]一种制备含硅羟基磷酸钙涂层的仿生溶液及仿生方法无效

专利信息
申请号: 200810012661.0 申请日: 2008-08-06
公开(公告)号: CN101642586A 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: 张二林;邹鹑鸣;杨柯 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: A61L27/32 分类号: A61L27/32;A61L27/06;A61F2/28
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 代理人: 张志伟
地址: 110016辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 羟基 磷酸钙 涂层 仿生 溶液 方法
【权利要求书】:

1.一种制备含硅羟基磷酸钙涂层的仿生方法,其特征在于,在钛或钛合金表 面制备含硅羟基磷酸钙涂层,该工艺由以下几步组成:Ca(OH)2+NaOH混合碱处 理、热处理、仿生溶液中浸泡和后续热处理;

所述仿生溶液是在常规的模拟体液中添加SiO32-;按毫摩尔每升计,溶液中 的各离子浓度为:HPO42-,1.0;Ca2+,2.5;Na+,142;HCO3-4.2;Cl-,147;SiO32-, 0.5-20.0;SO42-,0.5;Mg2+1.5;K+,5.0;

Ca(OH)2+NaOH混合碱处理中,饱和Ca(OH)2的体积浓度在1-140mL/L,溶 液温度在60-90℃,处理时间6-48小时;

仿生溶液浸泡中,温度在37±1℃,溶液酸碱度pH值8.0-9.0,浸泡时间在 1-7天。

2.按照权利要求1所述的仿生方法,其特征在于:热处理中,温度在400-800 ℃,处理气氛为空气,处理时间在0.5-3.0小时。

3.按照权利要求1所述的仿生方法,其特征在于:后续热处理中,温度在 200-1000℃,处理气氛为空气,处理时间在0.5-48小时。

4.按照权利要求1所述的仿生方法,其特征在于:SiO32-的浓度优选为1.0-10.0 毫摩尔/升。

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