[发明专利]对光不稳化合物、低聚物探针阵列和基片、及其制造方法无效
申请号: | 200810009721.3 | 申请日: | 2008-02-13 |
公开(公告)号: | CN101298464A | 公开(公告)日: | 2008-11-05 |
发明(设计)人: | 池圣敏;夏政焕;金京善;金媛善;柳万馨 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | C07H19/16 | 分类号: | C07H19/16;C07H19/06 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 黄启行;穆德骏 |
地址: | 韩国京畿道水*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对光 不稳 化合物 物探 阵列 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明公开涉及一种包括对光不稳的保护基团的对光不稳化合物、用于与对光不稳的保护基团偶联的低聚物探针阵列的基片、及其制造方法。
背景技术
在固体载体上,例如,在硅晶片衬底上,低聚物探针阵列是一种高密度的低聚物探针阵列。
通过在低聚物探针阵列上集成不同的有机高聚物,例如低聚物探针,有几种方法来形成低聚物探针阵列,并且已经提出了新方法。
在附着有受到对光不稳的保护基团保护的官能团的衬底上用光照射、移除特定区域的保护基团、暴露官能团之后,通过在该衬底上偶联低聚物探针例如寡核苷酸、多肽、肽核酸(PNA),能够制造低聚物探针阵列。还可以通过,例如,用光刻法合成原位单体,或者通过偶联之前在衬底上定点合成的低聚物探针,而制造该低聚物探针阵列。
该对光不稳的保护基团是能够保护反应性官能团直到它被一定量曝光去保护的基团。众所周知的对光不稳的保护基团包括,例如,硝基藜芦基氧基羰基(NVOC),硝基胡椒基氧基羰基(NPOC),α-甲基硝基藜芦基氧基羰基(MeNVOC),1-芘基甲基氧基羰基(PyMOC),α-甲基硝基胡椒基氧基羰基(MeNPOC),2-(3,4-亚甲二氧基-2-硝基苯基)丙氧基羰基,二硝基苯基烷基磺酰基,2-(2-硝基苯基)丙氧基羰基(NPPOC)。
在制造低聚物探针阵列期间,可以使用对光不稳的保护基团,而且对光不稳的反应速度会根据对光不稳的保护基团的类型而变化。因此,为了提高反应收率,已经致力于开发一种对光不稳化合物,其能够提供一种适合制造低聚物探针阵列的对光不稳的保护基团。
发明内容
本发明的示范性实施方式提供一种促进对光不稳的反应速度的新颖的对光不稳化合物。
本发明的示范性实施方式还提供一种用于低聚物探针阵列的基片和反应收率改善的低聚物探针阵列。
本发明的示范性实施方式还提供一种制造该对光不稳化合物、用于该低聚物探针阵列的基片和该低聚物探针阵列的方法。
根据本发明的示范性实施方式,提供一种包括由以下化学式1表示的化合物的对光不稳化合物。
<化学式1>
(其中X是
R1是氢、烷基或乙酰基,
R2是氢、甲基、乙基、丙基或苯基,
Y是卤素、羟基,
B是腺嘌呤、胞嘧啶、鸟嘌呤、胸腺嘧啶或尿嘧啶,
R3是氢、氨基、烷基或膦,
R4是氢、羟基、-OR5,或-SR5,
R5是烷基、烯基、缩醛(acetal)或甲硅烷基醚基团,
R6是烷基、苯基或硫,
p在0到5范围内,且
q在0到10范围内。)
根据本发明的示范性实施方式,提供一种用于低聚物探针阵列的基片。该用于低聚物探针阵列的基片包括衬底和直接或通过接头与该衬底偶联的由下面的化学式2表示的对光不稳保护基团。
<化学式2>
(其中X是
R1是氢、烷基或乙酰基,
R2是氢、甲基、乙基、丙基或苯基,且
Y是直接或通过接头与衬底偶联的偶联位置。)
根据本发明的示范性实施方式,提供一种低聚物探针阵列。该低聚物探针阵列包括:低聚物探针,包括偶联低聚物探针的活性区和没有偶联低聚物探针的非活性区的衬底,以及由下面化学式2表示的且与衬底在非活性区偶联的对光不稳的保护基团。
<化学式2>
(其中X是
R1是氢、烷基或乙酰基,
R2是氢、甲基、乙基、丙基或苯基,且
Y是直接或通过接头与衬底偶联的偶联位置。)
根据本发明的示范性实施方式,提供一种由下面的化学式1表示的对光不稳化合物的制造方法。该方法包括将和光气衍生物与Y偶联。
<化学式1>
其中X是
R1是氢、烷基或乙酰基,
R2是氢、甲基、乙基、丙基或苯基,
Y是卤素、羟基,
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