[发明专利]制造膜的方法和设有这种膜的物体

权利要求书

1.一种用于在物体(2)的开口处用可沉积材料制造膜(3)的方法，其特征在于，

靠着支撑面(4)设置具有限定边缘(8)的开口，该支撑面(4)涂有排斥可沉积材料的层(5)；

将可沉积材料沉积在物体(2)和支撑面(4)上，以形成元件；及

将所述元件与支撑面(4)分离，以使膜(3)与元件成整体。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，通过切除围绕开口的沉积材料和将带有元件的物体(2)移开支撑面(4)而使元件从支撑面(4)分离。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，通过在边缘(8)中布置凹口(9)、靠着支撑面(4)设置凹口(9)，以便使可沉积材料沉积在凹口(9)和支撑面(4)的表面上，在分离之后将孔(6)留在与膜(3)相邻的元件中，而将至少一个孔(6)在元件中制造。

4.根据权利要求1、2或3所述的方法，其中，使可沉积材料通过真空沉积来沉积。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，可沉积材料是聚对二甲苯。

6.根据权利要求4或5所述的方法，其中，排斥层(5)包括蜡涂层。

7.一种物体，其特征在于，在开口上有可沉积材料制造的膜(3)，膜(3)被连接到开口的限定边缘(8)上，并在所述限定的边缘(8)上与沉积在物体(2)上的元件成整体，因此室(10)由沉积的材料形成。

8.根据权利要求7所述的物体，其包括至少一个孔(6)，该至少一个孔(6)通过在边缘(8)中的凹口(9)被制造在与膜(3)相邻的元件中，孔(6)的边缘由凹口(9)的表面上沉积的可沉积材料限定以及由膜(3)限定。

9.根据权利要求7或8所述的物体，其中，可沉积材料是聚对二甲苯。

10.根据权利要求8或9所述的物体，其中，所述物体是超声换能器(11)。

11.根据权利要求10所述的物体，其中，膜(3)形成室(10)的前壁，该室(10)布置在超声晶体(1)与所述壁(3)之间。

12.根据权利要求10所述的物体，其中，膜(3)具有20至30微米范围内的厚度。