[发明专利]使用早期源极侧升压减少非易失性存储装置中的编程干扰有效

专利信息
申请号: 200780045737.3 申请日: 2007-12-10
公开(公告)号: CN101584004A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 东英达;杰弗里·W·卢策 申请(专利权)人: 桑迪士克股份有限公司
主分类号: G11C16/10 分类号: G11C16/10;G11C16/12;G11C16/04
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 刘国伟
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 使用 早期 源极侧 升压 减少 非易失性 存储 装置 中的 编程 干扰
【权利要求书】:

1.一种用于对NAND型非易失性存储装置进行编程的方法,其包括:

使衬底的第一区升压,一组非易失性存储元件至少部分地形成于所述衬底上,所 述一组非易失性存储元件与一组字线相关联且包含至少一个与所述一组字线中的 选定字线相关联的非易失性存储元件,所述第一区在所述选定字线的源极侧上;以 及

使所述衬底的在所述选定字线的漏极侧上的第二区升压,

其中结合经由所述选定字线对所述至少一个非易失性存储元件的编程而执行所 述第一区和第二区的所述升压,且

其中所述第一区的升压开始与所述第二区的升压开始之间的延迟随选定字线位 置而变化,从而当所述选定字线在所述一组字线的邻近于所述一组非易失性存储元 件的漏极侧的第一字线群组中时,所述第一区的所述升压相对于所述第二区的所述 升压较早地起始;且当所述选定字线不在所述一组字线的邻近于所述一组非易失性 存储元件的所述漏极侧的所述第一字线群组中时,同时起始所述第一区和第二区的 所述升压。

2.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:

在所述第一区和第二区的所述升压期间,将隔离电压施加于所述一组字线中的在 所述选定字线的所述源极侧上的至少一个字线。

3.根据权利要求1所述的方法,其中:

所述第一区的所述升压包括将通过电压施加于所述一组字线中的在所述选定字 线的所述源极侧上的至少一个字线,且所述第二区的所述升压包括将通过电压施加 于所述一组字线中的在所述选定字线的所述漏极侧上的至少一个其它字线。

4.根据权利要求1所述的方法,其中:

所述一组非易失性存储元件提供于至少一个NAND串中,所述NAND串在源极 侧选择栅极与漏极侧选择栅极之间延伸。

5.根据权利要求4所述的方法,其进一步包括:

在所述第一区和第二区的所述升压期间将所述源极侧选择栅极和所述漏极侧选 择栅极维持关闭。

6.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:

在涉及所述第一区和第二区的所述升压的时间周期的至少一部分期间经由所述 选定字线将编程电压施加于所述至少一个非易失性存储元件。

7.根据权利要求6所述的方法,其中:

所述衬底的所述第二区的所述升压在所述将所述编程电压施加于所述选定字线 上期间继续。

8.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:

在所述第一区和第二区的所述升压期间,将隔离电压施加于所述一组字线中的在 所述源极侧上的至少一个字线。

9.根据权利要求1所述的方法,其中:

所述第一字线群组包括所述一组字线中大约25%的所述字线。

10.一种NAND型非易失性存储系统,其包括:

一组非易失性存储元件,其至少部分地形成于衬底上;

一组字线,其与所述一组非易失性存储元件相关联,包含与所述一组非易失性存 储元件中的至少一个非易失性存储元件相关联的选定字线;以及

一个或多个控制电路,其与所述一组非易失性存储元件通信,所述一个或多个控 制电路使所述衬底的在所述选定字线的源极侧上的第一区升压,且使所述衬底的在 所述选定字线的漏极侧上的第二区升压,

其中结合经由所述选定字线对所述至少一个非易失性存储元件的编程而执行所 述第一区和第二区的所述升压,且

其中所述第一区的升压开始与所述第二区的升压开始之间的延迟随选定字线位 置而变化,从而当所述选定字线在所述一组字线的邻近于所述一组非易失性存储元 件的漏极侧的第一字线群组中时,所述一个或多个控制电路相对于所述第二区的所 述升压较早地起始所述第一区的升压;且当所述选定字线不在所述一组字线的邻近 于所述一组非易失性存储元件的所述漏极侧的所述第一字线群组中时,同时起始所 述第一区和第二区的所述升压。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桑迪士克股份有限公司,未经桑迪士克股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780045737.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top