[发明专利]用于生产太阳能电池的方法有效
| 申请号: | 200780036644.4 | 申请日: | 2007-08-06 |
| 公开(公告)号: | CN101523616A | 公开(公告)日: | 2009-09-02 |
| 发明(设计)人: | 奈杰尔·安托尼·凯杰 | 申请(专利权)人: | 太阳化学公司 |
| 主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L21/308;H01L21/3213;C09D11/00 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 郭国清;樊卫民 |
| 地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 生产 太阳能电池 方法 | ||
1.一种生产太阳能电池的方法,所述方法包括下述步骤:
i)将碱可去除的水不溶性热熔喷墨油墨喷墨印刷到含有硅片的基 材上,以便在所述基材上形成抗蚀油墨图像,所述油墨具有不超过 20mPas的粘度;
ii)在含水酸性介质中,蚀刻或者镀所述基材;和
iii)用碱水溶液除去所述抗蚀油墨图像,
其中所述太阳能电池包含蚀刻过的或镀过的硅片;和
所述油墨包含:
30至99wt%的一种或多种碱溶性蜡,该碱溶性蜡具有至少 80%的碱可洗性。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述基材是硅片,该硅片在其 至少一个表面上具有二氧化硅钝化层,和其中,在步骤i)中,所述喷墨 油墨被印刷到所述钝化层上,和在步骤ii)中蚀刻所述钝化层。
3.如权利要2所述的方法,其中使用氟化氢和/或氟化铵的水溶液 蚀刻所述钝化层。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述基材包括表面金属层,和 其中在步骤i)中所述喷墨油墨被印刷到所述金属层上。
5.如权利要求4所述的方法,其中所述金属层是铜、钛-钨、或者 铝层。
6.如权利要求1、4或5中任一项所述的方法,其中在步骤ii)中 将选自铜和锡的金属电镀到所述基材上。
7.如权利要求1、4或5中任一项所述的方法,其中步骤ii)是电 镀方法,和其中步骤ii)涉及将所述基材浸入到硫酸和金属盐的水浴液 中。
8.如权利要求4或5中所述的方法,其中在步骤ii)中所述金属层 被蚀刻。
9.如权利要求8所述的方法,其中使用包含硫酸和过氧化氢的水 溶液进行所述蚀刻。
10.如权利要求8所述的方法,其中使用包括磷酸、乙酸、水和 硝酸的蚀刻溶液进行所述蚀刻。
11.如权利要求1所述的方法,其中在步骤i)后,所述抗蚀油墨图 像通过用于检测不完整性的自动化评价装置进行评价。
12.如权利要求11所述的方法,其中所述油墨包含着色剂或荧光 剂,并且自动化评价涉及所述图像的照片检测。
13.如权利要求1所述的方法,其中在步骤iii)中所述碱水溶液是 含水氢氧化钾。
14.如权利要求1所述的方法,其中在所述除去步骤iii)中,所述 抗蚀油墨图像分散在所述碱水溶液中形成溶液,在该溶液中,低于 5wt%的所述抗蚀油墨图像是将被10微米过滤器保留的微粒形式。
15.如权利要求1所述的方法,其中所述油墨基本上不含微粒。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





