[发明专利]用集成到西门子型工艺中的流化床反应器生产硅无效
| 申请号: | 200780032303.X | 申请日: | 2007-06-14 |
| 公开(公告)号: | CN101541678A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
| 发明(设计)人: | A·N·阿维德森;M·莫尔纳 | 申请(专利权)人: | 赫姆洛克半导体公司 |
| 主分类号: | C01B33/035 | 分类号: | C01B33/035;C01B33/03 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 孙 爱 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 集成 西门子 工艺 中的 流化床 反应器 生产 | ||
1.一种方法,包括:1)将来自一个或多个西门子反应器的排放 气流进料到一个或多个流化床反应器中。
2.权利要求1的方法,其中所述排放气流包含氢气和氯硅烷。
3.权利要求1的方法,其中所述排放气流包含氢气和硅烷。
4.权利要求2的方法,进一步包括用额外的氯硅烷补充所述排放 气流。
5.权利要求4的方法,其中所述额外的氯硅烷包含三氯硅烷、四 氯化硅或它们的组合。
6.权利要求1的方法,进一步包括将通过所述西门子反应器生产 的硅用于集成电路、太阳能电池或两者。
7.权利要求1的方法,进一步包括将通过所述流化床反应器生产 的硅用于太阳能电池。
8.权利要求2的方法,其中所述排放气流包含三氯硅烷、四氯化 硅、氢气、氯化氢和硅粉,和所述方法进一步包括在将所述排放气流进 料到所述流化床反应器前从所述排放气流中除去硅粉。
9.权利要求2的方法,其中任选地用额外的三氯硅烷补充所述排 放气流以形成到所述流化床反应器的进料气流,并且到所述流化床反应 器的所述进料气流包含浓度为20摩尔%-50摩尔%的氯硅烷。
10.权利要求2的方法,进一步包括:2)将来自所述流化床反应 器的第二排放气流进料到回收系统。
11.权利要求10的方法,其中所述第二排放气流包含:氢气、三 氯硅烷、四氯硅烷和氯化氢。
12.权利要求10的方法,进一步包括:3)回收氢气、三氯硅烷或 两者,并将所述氢气、三氯硅烷或两者进料到步骤1)中的西门子反应 器中。
13.权利要求10的方法,进一步包括:3)回收四氯硅烷,将所述 四氯硅烷转化成三氯硅烷,并将所述三氯硅烷进料到步骤1)中的西门 子反应器中。
14.一种方法,包括:i)将来自多个西门子反应器的排放气流直 接进料到一个或多个流化床反应器中而没有中间处理步骤。
15.权利要求14的方法,其中所述排放气流包含氢气和氯硅烷。
16.权利要求14的方法,其中所述排放气流包含氢气和硅烷。
17.权利要求14的方法,进一步包括将通过所述西门子反应器生 产的硅用于集成电路、太阳能电池或两者。
18.权利要求14的方法,进一步包括将通过所述流化床反应器生 产的硅用于太阳能电池。
19.权利要求15的方法,其中所述排放气流包含三氯硅烷、四氯 化硅、氢气、氯化氢和硅粉。
20.权利要求15的方法,进一步包括:ii)将来自所述流化床反 应器的第二排放气流进料到回收系统。
21.权利要求20的方法,其中所述第二排放气流包含:氢气、三 氯硅烷、四氯硅烷和氯化氢。
22.权利要求20的方法,进一步包括:iii)回收氢气、三氯硅烷 或两者,并将所述氢气、三氯硅烷或两者进料到步骤i)中的西门子反 应器中。
23.权利要求20的方法,进一步包括:iii)回收四氯硅烷,将所 述四氯硅烷转化成三氯硅烷,并将所述三氯硅烷进料到步骤i)中的西 门子反应器中。
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