[实用新型]光标轨迹控制器的保洁装置无效
申请号: | 200720144216.0 | 申请日: | 2007-09-28 |
公开(公告)号: | CN201097359Y | 公开(公告)日: | 2008-08-06 |
发明(设计)人: | 林倍鋆 | 申请(专利权)人: | 林倍鋆 |
主分类号: | G06F3/039 | 分类号: | G06F3/039;B08B17/06 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 中国台湾台北县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光标 轨迹 控制器 保洁 装置 | ||
1、一种光标轨迹控制器的保洁装置,该光标轨迹控制器具有一供使用者肢体持续接触的操作面,其特征是,该保洁装置包含一供遮蔽该操作面并覆盖该操作面周缘的薄型挠性基材及一供将该薄型挠性基材结合至该操作面的附着装置。
2、根据权利要求1所述的光标轨迹控制器的保洁装置,其特征是,该保洁装置进一步包括延伸自该薄型挠性基材周缘的揭除部。
3、根据权利要求1所述的光标轨迹控制器的保洁装置,其特征是,该附着装置延伸自该薄型挠性基材周缘的围束带。
4、根据权利要求3所述的光标轨迹控制器的保洁装置,其特征是,该薄型挠性基材包括一本体,该附着装置进一步包括自该薄型挠性基材本体周缘反折、供容置该围束带的环绕部。
5、根据权利要求1所述的光标轨迹控制器的保洁装置,其特征是,该光标轨迹控制器进一步包括一供使用者肢体变换接触位置操控的相对位移控制装置,且该薄型挠性基材形成有对应该相对位移控制装置的贯穿开孔。
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