[发明专利]具有过电压保护功能的芯片型馈通滤波器无效

专利信息
申请号: 200710163403.8 申请日: 2007-10-24
公开(公告)号: CN101420211A 公开(公告)日: 2009-04-29
发明(设计)人: 巫宜磷;苏圣富;冯辉明 申请(专利权)人: 佳邦科技股份有限公司
主分类号: H03H1/02 分类号: H03H1/02;H03H7/01
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 代理人: 张 应;吴兰柱
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 过电压 保护 功能 芯片 型馈通 滤波器
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种馈通滤波器,特别是涉及一种具有过电压保护功能的芯片型馈通滤波器。

背景技术

如今电子产品讲求的是高速传输讯号,如HDMI讯号频率达742.5MHz,对于静电放电(ESD)所需要的过电压保护装置特性要求更是严格,低容值的过电压保护装置可以避免在速度快的高频讯号有衰减作用。

目前业界有瞬时电压抑制二极管(Transient Voltage Suppress Diode,TVSD)装置、积层式压敏电阻(Multi-Layer Varistor,MLV)装置等。

但上述对于过电压的保护仍有不足,且无馈通滤波的功能。

发明内容

本发明的目的,在于提供一种具有过电压保护功能的芯片型馈通滤波器,结合馈通式滤波与中空气隙过电压保护功能,以解决信号在高传输速度所面臨的ESD(静电防护)与EMI(滤波)的双重问题。

本发明是采用以下技术手段实现的:

本发明的具有过电压保护功能的芯片型馈通滤波器,包含:一下基板;一电极层形成于该下基板的上端表面,此电极层为一十字型电极形式,在其中一方向电极上形成雨个沟槽,该沟槽将该电极层切开且延伸至该下基板之内;一中基板,具有第二沟槽,该第二沟槽与下基板的第一沟槽相对,且具有与该第一沟槽相同的宽度与长度;一第二中基板,其上方形成有一电极层,其电极层方向与下基板具有沟槽的电极线方向一致,该上基板覆盖于中基板之上,然后覆盖下基板,使得上基板、中基板与下基板接合。

本发明与现有技术相比,具有以下明显的优势和有益效果:

上述形成于下基板和第一中基板的沟槽,以切割方式形成,当整体叠合完成之后,沟槽即相当于一中空气室,可用以提供过电压保护。并且,可依照需求及规格而调整尺寸,例如气隙的深度与宽度,不会因为制程而受到限制。

此外,上述由沟槽所切开的电极层,在切开端可分别形成尖端狀,使其具备尖端放电的功能。

附图说明

图1为本发明的立体分解图;

图2为本发明的成品图;

图3为本发明的另一实施例立体分解;

图4为本发明的另一实施例图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的具体实施例加以说明:

如图1所示,本发明的具有过电压保护功能的芯片型馈通滤波器,包含:一个下基板1、一个第一中基板2、一个第二中基板3及一个上基板4;其中,下基板1的上方表面形成一电极层11,该电极层11呈十字型,其包含传输线和接地线作用的电极,其中作为传输线的电极上形成有雨个沟槽121、122,该沟槽121、122不仅将电极层切开,并且延伸至下基板1的内部;

第一中基板2,设于下基板1的上方,其表面相对至下基板1的沟槽121、122的位置,形成有相对的沟槽21、22,沟槽21、22和沟槽121、122的位置相对,宽度和长度也相同。

第二中基板3,设于第一中基板2的上方,其上端表面形成一电极31,该电极31可为直线形或弯曲形,电极31的方向和下基板1上具有沟槽121、122的电极的方向一致;

上基板4,设于第二中基板3的上方。

如图2所示,当下基板1、第一中基板2、第二中基板3及上基板4依序叠合后,在周边的四个边各形成一端电极51、52、53、54,其中端电极51、52作为接地端,端电极53、54作为输出端及输入端。

上述本发明的具有过电压保护功能的芯片型馈通滤波器,其下基板1和上基板4,系以铝元素(例如氧化铝(Al2O3))、钛元素或硅元素等绝缘材料所形成,也可以为积层式薄带(Multi-layer thin film)。

上述的电极层11和电极31,得使用金,银,钯,铂,钨,铜等金属之一,其任意组合的合金,或包含其任意组合的混合材料所形成。

上述形成于下基板1和第一中基板2的沟槽121、122及21、22,以切割方式形成,当整体叠合完成之后,沟槽121、122、21、22即相当于一中空气室,可用以提供过电压保护。并且,可依照需求及规格而调整尺寸,例如气隙的深度与宽度,不会因为制程而受到限制。

请参照图3所示,为本发明的具有过电压保护功能的芯片型馈通滤波器的另一实施例,即本发明的具有过电压保护功能的芯片型馈通滤波器,可以是如图1、图2所示的单一组件,也可如图3所示,形成矩阵结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳邦科技股份有限公司,未经佳邦科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710163403.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top