[发明专利]静电夹盘、使用该夹盘的基板处理设备及基板处理方法

说明书

技术领域

本公开涉及一种静电夹盘，其中该夹盘上的静电荷可被快速消除。

背景技术

基板处理设备通常用于用来形成半导体晶片和液晶显示器的各种工艺中。这些处理步骤可以包括蚀刻步骤、沉积步骤等。传统的基板处理设备通常包括：室，其中可以形成真空状态；基座，具有能够支撑室内的基板的支撑表面；气体供应线，用来向室内供应处理气体；电场发生器，用于在室内产生电场，以便通过放电而从处理气体中获得等离子体；以及排气单元，用于在完成处理步骤之后清除残留在室内的处理气体。

图1是示出了传统基板处理设备1的截面图。该设备包括室10，该室内可以形成真空环境，以便在基板处理设备内部获得等离子体。室10内的基板支撑件20支撑待处理的基板S。基板支撑件20安装在室10内的下部处，并且具有能够支撑待处理基板S的支撑表面。当产生等离子体时，基板支撑件20还用作下部电极。

气体供应线(未示出)用来向室10的内部供应处理气体，该处理气体用来产生用于进行各种处理步骤的等离子体。通常，气体供应线设置在室10的上部中，从而从室的上部供应处理气体。还可以使用各种扩散件以便在室10内均匀地供应处理气体。

电场发生器产生用于从由气体供应线所供应的处理气体中获得等离子体所需要的电场。电场发生器通常具有设置在产生电场的空间的上侧和下侧处的电极。这些电极中的至少一个被施加有高频电，以产生电场。通常，板支撑件20用作下部电极，而上部电极30安装在室10的上部处。

排气单元用于当处理气体已在处理步骤中使用过之后将其从室10内清除。使用后的处理气体应当被完全清除，以避免影响下一处理步骤。因此，对于排气单元来说，将处理气体完全排出是很重要的。

基板处理设备1进一步包括基板支撑件20上的静电夹盘22，如图2所示。静电夹盘22用来将基板S牢固地保持于基板支撑件20。静电夹盘22构造成使得电极24被介电或电绝缘件26包围，如图2所示。介电件26通常由具有极好的等离子阻抗的陶瓷制成。用于向电极24施加直流(DC)电力的供电线28连接于电极24的中心。供电线28连接于安装在室外部的DC发电机29。所施加的电力产生将基板S保持于支撑件20上的静电力。

在类似于图2所示的静电夹盘中，即使在切断DC电力之后，静电夹盘22上也可能残留有残余电荷。残留在电极中的电荷与玻璃基板产生残余静电力，该残余静电力趋向于保持基板S。当有人试图将基板S从夹盘上移除时，该力可以导致基板破裂。

发明内容

提出本发明以便解决现有技术的上述问题，并且因此，本发明提供一种静电夹盘，该静电夹盘有助于确保其电极上的任何残余电荷被快速消除，从而方便将基板从静电夹盘上移除。

根据本发明的一个方面，提供了一种静电夹盘，该静电夹盘包括：电极；DC电源，向电极施加DC电力，以产生静电保持力；以及AC电源，当DC电源被切断时向电极施加AC电力，以中和残留在电极上的残余电荷。

根据本发明的另一方面，提供了一种基板处理设备，该设备包括：基板处理室；静电夹盘，安装于基板处理室内；DC电源，向静电夹盘的电极施加DC电力，以产生静电保持力；以及AC电源，当DC电源被切断时向电极施加AC电力，以便中和残留在电极上的残余电荷。

根据本发明的又另一方面，提供了一种处理设置在静电夹盘上的基板的方法，该方法包括：向静电夹盘的电极施加DC电力，以产生将基板保持在夹盘上的静电保持力；在基板上进行处理步骤；当要将基板从夹盘上移除时，切断DC电力；以及在切断DC电力之后，向电极施加AC电力，以中和残留在夹盘上的残余电荷。

本发明的上述和其它方面及优点将在下面的描述中部分地阐述，并且通过该描述而部分地变得显而易见，或者可以通过实施本发明而获知。

附图说明

下面将参照附图详细描述实施例，附图中，相同参考标号表示相同元件，并且附图中：

图1是示出了传统基板处理设备的侧视图；

图2是示出了传统静电夹盘的侧视图；

图3是示出了改进后的静电夹盘的第一实施例的侧视图；

图4是示出了施加于图3所示静电夹盘的电力幅度(amplitude)的曲线图；

图5是示出了具有图3所示静电夹盘的基板处理设备的侧视图；以及

图6是示出了处理基板的方法的流程图。

具体实施方式

下面，将参照附图详细描述根据本发明的优选实施例。在整个附图中，相同参考标号用来表示相同元件。

如图3所示，根据本发明实施例的静电夹盘122包括电极124、介电件126、DC电源127，以及AC电源129。