[发明专利]应用于透明导电玻璃基板的非平衡磁控镀射法无效
| 申请号： | 200710128438.8 | 申请日： | 2007-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN101343728A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 曾子峻;林煌琦 | 申请（专利权）人： | 仕贯真空科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/52;C23C14/08;C03C17/245 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周长兴 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 应用于 透明 导电 玻璃 平衡 磁控镀射法 | ||
【权利要求书】：
1、一种应用于透明导电玻璃基板的非平衡磁控镀射法，该玻璃基板放入真空环境并加热，该玻璃基板以该镀源的非平衡磁场，产生具高动能氧化物粒子，该镀源外围设有高电流电磁场，该高电流电磁场迭设于溅射靶极上，形成非平衡磁场并产生辉光放电区，该氧化物粒子沉积披覆于玻璃基板上，该非平衡磁场在玻璃基板表面附近产生大量具高温的带电粒子，该带电粒子直接浸润该披覆有氧化物的玻璃基板，产生排列组合整齐的结晶。
2、依权利要求1所述的应用于透明导电玻璃基板的非平衡磁控镀射法，其中，该氧化物为氧化铝锌或氧化铟锡透明导电氧化材料。
3、依权利要求1所述的应用于透明导电玻璃基板的非平衡磁控镀射法，其中，加热温度为100-200℃。
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