[发明专利]液晶显示器基板、液晶显示器及制造方法有效
| 申请号: | 200710121729.4 | 申请日: | 2007-09-13 |
| 公开(公告)号: | CN101387799A | 公开(公告)日: | 2009-03-18 |
| 发明(设计)人: | 夏子祺;洪美花 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;H01L27/12;G02F1/1343;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘 芳 |
| 地址: | 100176北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 液晶显示器 制造 方法 | ||
1.一种液晶显示器基板,其特征在于,包括:
一基板;
一栅线和栅电极,形成在所述基板上;
一栅绝缘层,形成在所述基板上,并覆盖所述栅线和栅电极;
一有源层,形成在所述栅电极上方的栅绝缘层上;
一电阻接触层,形成在所述有源层上;
一源漏电极及数据线,形成在所述电阻接触层上方,其中所述数据线与所述栅线交叉定义一像素区域;
一钝化层,形成在所述源漏电极及数据线上方,其中所述钝化层在所述源漏电极的源极上方形成有接触孔;
一黑矩阵层,形成在所述像素区域之外的区域;
一树脂层,形成在所述像素区域的钝化层上,处于薄膜晶体管上方的树脂层被刻蚀出一个空白区域,所述空白区域不存在树脂层,从而露出所述钝化层上的接触孔,所述接触孔的形成只需要贯穿所述钝化层,其中所述薄膜晶体管由所述栅电极、所述栅绝缘层、所述有源层、所述电阻接触层和所述源漏电极组成;以及
一像素电极,形成在所述树脂层上,并通过所述接触孔与所述源漏电极的源极连接。
2.根据权利要求1所述的液晶显示器基板,其特征在于:所述像素电极部分形成在所述栅线上方,与所述栅线及其上方的栅绝缘层和钝化层一起构成存储电容结构。
3.根据权利要求1所述的液晶显示器基板,其特征在于:所述树脂层包含红、绿和蓝三种颜色交错的树脂层。
4.根据权利要求1至3任一所述的液晶显示器基板,其特征在于:所述栅线或栅电极由钕、硅、铜、锑、钨、钽和钪中一种或两种以上材料的铝类合金及在其上方的钛、铬或钼高熔点金属层叠构成。
5.根据权利要求1至3任一所述的液晶显示器基板,其特征在于:所述栅绝缘层的材料为氧化物、氮化物或者氧氮化合物。
6.一种采用权利要求1至3任一所述的基板的液晶显示器,其特征在于,包括:一形成有公共电极的另一基板与所述基板对置贴盒,在其间封入液晶。
7.一种液晶显示器基板的制造方法,其特征在于,包括:
在基板上形成栅线、数据线和薄膜晶体管的阵列结构;
在所述阵列结构上方形成钝化层,并在所述薄膜晶体管的源电极上方形成钝化层接触孔;
在所述阵列结构的上方形成黑矩阵层;
在所述阵列结构的上方形成树脂层,通过蚀刻法将所述薄膜晶体管上方的树脂层刻蚀出一个空白区域,所述空白区域不存在树脂层,从而露出所述钝化层接触孔,所述接触孔的形成只需要贯穿所述钝化层;
在所述树脂层上形成像素电极,所述像素电极通过所述钝化层接触孔与所述薄膜晶体管的源极连接。
8.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于:形成所述像素电极的部分形成在所述栅线上方,且与所述栅线及其上方的栅绝缘层和钝化层一起构成存储电容。
9.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于:形成所述树脂层包含形成红、绿和蓝三种颜色交错的树脂层。
10.一种包含权利要求7至9任一方法形成的基板的液晶显示器的制造方法,其特征在于,包括:
在所述基板上形成取向膜后,与形成有公共电极和取向膜的对置基板贴合在一起,之间注入液晶;
然后,在所述基板和对置基板外侧分别粘贴偏光片。
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