[发明专利]等离子体显示面板用基板构造体的制造方法无效

专利信息
申请号: 200710107428.6 申请日: 2007-05-11
公开(公告)号: CN101178995A 公开(公告)日: 2008-05-14
发明(设计)人: 鸟成达也 申请(专利权)人: 富士通日立等离子显示器股份有限公司
主分类号: H01J9/00 分类号: H01J9/00;H01J9/20
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 显示 面板 用基板 构造 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种等离子体显示面板用基板构造体的制造方法,其特征在于,具有如下工序:

使得激光吸收物质存在于覆盖基板上的电极的电介质层表面的突起部上,该激光吸收物质与所述电介质层的材料相比更易于吸收激光,

对所述激光吸收物质照射所述激光,利用由该照射而在所述激光吸收物质中产生的热量使所述突起部熔融而进行平坦化。

2.如权利要求1所述的等离子体显示面板用基板构造体的制造方法,其特征在于:

所述电介质层由二氧化硅构成;

所述激光吸收物质由含有铬粉末的糊构成。

3.如权利要求1所述的等离子体显示面板用基板构造体的制造方法,其特征在于:

具有,在照射所述激光之前,对位于所述突起部上的所述激光吸收物质进行烧结并固化的工序;

所述激光吸收物质由糊构成,该糊由低熔点玻璃粉末、粘合剂树脂、溶剂、和与所述电介质层的材料相比更易于吸收所述激光且与所述电介质层的测量的熔点相比其沸点更高的金属粉末构成。

4.如权利要求3所述的等离子体显示面板用基板构造体的制造方法,其特征在于:

所述金属具有,与所述电介质层的材料的熔点相比较高的熔点。

5.如权利要求4所述的等离子体显示面板用基板构造体的制造方法,其特征在于:

所述金属,由铬构成。

6.如权利要求3~5中任何一项所述的等离子体显示面板用基板构造体的制造方法,其特征在于:

所述电介质层的材料,由氧化硅构成。

7.如权利要求1~5中任何一项所述的等离子体显示面板用基板构造体的制造方法,其特征在于:

所述激光,由YAG激光构成。

8.如权利要求1~5中任何一项所述的等离子体显示面板用基板构造体的制造方法,其特征在于:

所述激光吸收物质为液体状或糊状;

在针的前端附着所述激光吸收物质,并将该针接近所述突起部使所述激光吸收物质与所述突起部相接触而附着在所述突起部上,由此,使所述激光吸收物质存在于所述突起部上。

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