[发明专利]含无机颗粒的光敏性树脂组合物、光敏性薄膜和无机图案的形成方法有效
申请号: | 200710098163.8 | 申请日: | 2007-04-20 |
公开(公告)号: | CN101059656A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | 工藤和生;增子英明 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G03F7/028 | 分类号: | G03F7/028;G03F7/20;G03F7/26 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 无机 颗粒 光敏 树脂 组合 薄膜 图案 形成 方法 | ||
1.一种显示器部件形成用的含无机颗粒的光敏性树脂组合物, 含有无机颗粒、碱可溶性树脂、1分子中具有至少2个(甲基)丙烯 酰基且具有选自缩醛键、半缩醛酯键和单硫缩醛键的至少1个键 的光固化剂、和光聚合引发剂,其特征在于:
上述碱可溶性树脂是选自甲基丙烯酸2-羟基乙基酯、甲基丙 烯酸和2-甲基丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸酯的单体(i)与选自甲基 丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸苄酯和甲基丙烯酸十二烷基酯的单体(ii) 的共聚物,
上述碱可溶性树脂满足下述条件(1)~(3):
(1)重均分子量为5000~100000;
(2)玻璃化转变温度为0℃~120℃;
(3)在热重分析中,当以达到无重量变化时作为重量减少率为 100%时,重量减少率为10%时的温度为150℃以上,且450℃下的 重量减少率为90%以上,
上述光固化剂具有选自下式(1)和(2)表示的基团的至少1个基 团,或为由下式(3)表示的化合物与具有羟基、巯基和/或羧基的化 合物在酸催化剂的存在下进行加成反应所制得的化合物,
式(1)中,R1表示氢原子或者甲基,R2表示有机残基、R3表示 氢原子或者有机残基,*表示与分子骨架键合的部位,
式(2)中,R4表示氢原子或者甲基,R5表示有机残基、R6表示 氢原子或者有机残基,*表示与分子骨架键合的部位,
式(3)中,R7表示氢原子或者甲基,R8表示有机残基、R9表示 氢原子或者有机残基,
上述式(1)中的R2、式(2)中的R5和式(3)中的R8均为聚合度为 1~15的聚乙二醇骨架、聚丙二醇骨架或聚丁二醇骨架。
2.一种光敏性薄膜,其特征在于:具有由权利要求1所述的显 示器部件形成用的含无机颗粒的光敏性树脂组合物制得的含无机 颗粒的光敏性树脂层。
3.一种无机图案的形成方法,其特征在于包括:
在基板上形成由权利要求1所述的显示器部件形成用的含无 机颗粒的光敏性树脂组合物构成的含无机颗粒的光敏性树脂层的 工序、
将该含无机颗粒的光敏性树脂层进行曝光处理形成图案潜像 的工序、
将该含无机颗粒的光敏性树脂层进行水显影处理形成图案的 工序、和
将该图案进行焙烧处理的工序。
4.一种无机图案的形成方法,其特征在于包括:
采用权利要求2所述的光敏性薄膜,将构成该光敏性薄膜的 含无机颗粒的光敏性树脂层转印至基板上的工序、
将该含无机颗粒的光敏性树脂层进行曝光处理形成图案潜像 的工序、
将该含无机颗粒的光敏性树脂层进行水显影处理形成图案的 工序、和
将该图案进行焙烧处理的工序。
5.一种平板显示器的制造方法,其特征在于包括通过权利要求 3或4所述的无机图案的形成方法,形成选自电介质、电极、电阻 体、荧光体、隔板、滤色器和黑色矩阵的至少一种显示部件的工 序。
6.权利要求5所述的平板显示器的制造方法,其特征在于上述 平板显示器为等离子显示面板。
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