[发明专利]动态侦测静电保护电路结构有效
申请号: | 200710094271.8 | 申请日: | 2007-11-23 |
公开(公告)号: | CN101442046A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 田光春 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L23/60;H02H9/00 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 动态 侦测 静电 保护 电路 结构 | ||
技术领域
本发明涉及一种静电保护电路结构,特别是涉及一种动态侦测静电保护电路结构。
背景技术
在静电泄放电路中,在金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET)的栅极耦合适当的偏置电压,有利于降低MOSFET管寄生三极管的触发电压;而且在多叉指型MOSFET结构中,还有利于各叉指导通的均匀性。图1、2所示电路是目前广泛使用的电阻、电容组成的动态侦测静电泄放电路。在图1所示的电路中,静电可以直接通过电阻、电容(RC)耦合一定的偏置电压到静电泄放MOSFET管的栅极。然而,静电泄放MOSFET管的栅极电容往往可能影响电阻、电容组成的侦测电路中电容值大小的设置。图2所示的电路在图1电路中插入了一级反相器,从而将电阻、电容与静电泄放MOSFET管隔离开来。而反相器的尺寸大小比静电泄放MOSFET管小很多,因此反相器的栅电容对电阻、电容组成的侦测电路中电容值大小的设置影响小得多。图2所示的电路结构,利用PMOS和NMOS的阈值电压控制对静电泄放器件ESDNMOS的栅极电容的充电或放电,从而控制静电泄放器件ESDNMOS的栅极电压,改善各叉指导通均匀性。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种动态侦测静电保护电路结构,不仅可以灵活设置静电泄放器件ESDNMOS的栅极电容的充电或放电控制电压Vref,而且对于侦测电路中电阻和电容的位置设置也可以更灵活。
为解决上述技术问题,本发明的动态侦测静电保护电路结构采用的第一种技术方案是,其包括:并联接在静电端和接地端之间的动态侦测电路、中间隔离电路、静电泄放电路;所述动态侦测电路由电阻和电容串接组成;所述中间隔离电路用于隔离动态侦测电路和静电泄放电路,并驱动静电泄放电路;所述静电泄放电路由ESD NMOS管构成;中间隔离电路的输入端与动态侦测电路电连接,其输出端与静电泄放电路的输入端电连接;其中:所述中间隔离电路由误差放大器构成,利用误差放大器的参考电压Vref来控制对静电泄放电路的栅极电容进行充电或放电;
所述误差放大器的反相输入端与动态侦测电路的电阻R和电容C的节点连接,误差放大器的正相输入端接参考电压Vref;
所述误差放大器的参考电压Vref由串接在静电端与接地端的电阻R1、齐纳二极管Zener或普通二极管Diode形成,误差放大器的正相输入端与电阻R1、齐纳二极管Zener或普通二极管Diode的节点电连接。
所述动态侦测静电保护电路结构采用的第二种技术方案,其与第一种技术方案的不同点在于:所述误差放大器的参考电压Vref由串接在静电端与接地端的电阻R1、PNP三极管或NPN三极管形成,误差放大器的正相输入端与电阻R1、PNP三极管或NPN三极管的节点电连接。
所述动态侦测静电保护电路结构采用的第三种技术方案是,其包括:并接在静电端和接地端之间的动态侦测电路、中间隔离电路、静电泄放电路;所述动态侦测电路由电阻和电容串接组成;所述中间隔离电路用于隔离动态侦测电路和静电泄放电路,并驱动静电泄放电路;所述静电泄放电路由ESD NMOS管构成;中间隔离电路的输入端与动态侦测电路电连接,其输出端与静电泄放电路的输入端电连接;其特征在于:所述中间隔离电路由误差放大器构成,利用误差放大器的参考电压Vref来控制对静电泄放电路的栅极电容进行充电或放电;
所述误差放大器的正相输入端与动态侦测电路的电阻R和电容C的节点连接,误差放大器的反相输入端接参考电压Vref;
所述误差放大器的参考电压Vref由串接在静电端与接地端的电阻R1、齐纳二极管Zener或普通二极管Diode形成,误差放大器的反相输入端与电阻R1、齐纳二极管Zener或普通二极管Diode的节点电连接。
所述动态侦测静电保护电路结构采用的第四种技术方案,其与第三种技术方案的不同点在于:所述误差放大器的参考电压Vref由串接在静电端与接地端的电阻R1、PNP三极管或NPN三极管形成,误差放大器的反相输入端与电阻R1、PNP三极管或NPN三极管的节点电连接。
由于采用上述结构,所述误差放大器不仅可以将静电泄放器件ESDNMOS与动态侦测电路隔离开,减小尺寸较大的静电泄放器件ESDNMOS的栅电容对动态侦测电路中电容值选取的影响,还利用误差放大器的参考电压Vref来控制对静电泄放器件ESDNMOS的栅极电容的充电或放电,从而控制静电泄放器件ESDNMOS的栅极电压,改善各叉指导通均匀性。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司,未经上海华虹NEC电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710094271.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种分块曝光的方法及其装置
- 下一篇:一种抗体标记信号放大方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的