[发明专利]微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液

权利要求书

1.一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：包括磨料I、磨料II、表面活性剂、PH调节剂以及去离子水；各种组分所占的重量百分比为：磨料I为10％至40％，磨料II为5％至20％，表面活性剂为0.01％至0.6％，PH调节剂为1％至6％，去离子水为余量；

所述磨料I是粒径为0.1至200nm的水溶性二氧化硅溶胶液体，该硅溶胶的重量百分比浓度在10％至40％；所述磨料II是粒径为0.1至200nm的二氧化硅粉末。

2.根据权利要求1所述的微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述磨料I的粒径10至80nm；所述磨料II的粒径50至150nm。

3.根据权利要求1所述的微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为非离子型表面活性剂；所述非离子型表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、三乙醇胺油酸皂、十二烷基二甲基氧化胺或失水山梨醇油酸单脂中的一种或它们的组合。

4.根据权利要求3所述的微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述脂肪醇聚氧乙烯醚是脂肪醇聚氧乙烯(3)醚、脂肪醇聚氧乙烯(5)醚、脂肪醇聚氧乙烯(7)醚、脂肪醇聚氧乙烯(9)醚、脂肪醇聚氧乙烯(15)醚、脂肪醇聚氧乙烯(20)醚、脂肪醇聚氧乙烯(25)醚或脂肪醇聚氧乙烯(40)醚；所述烷基酚聚氧乙烯醚是壬基酚聚氧乙烯(4)醚、壬基酚聚氧乙烯(6)醚、壬基酚聚氧乙烯(7)醚、壬基酚聚氧乙烯(9)醚、壬基酚聚氧乙烯(10)醚、壬基酚聚氧乙烯(13)醚、辛基酚聚氧乙烯(20)醚、辛基酚聚氧乙烯(100)醚或十二烷基酚聚氧乙烯(10)醚，括号内的数字表示所述物质的聚合度。

5.根据权利要求1所述的微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述PH值调节剂为无机碱、有机碱或它们的组合。

6.根据权利要求5所述的微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述有机碱为多羟多胺和胺中的一种或它们的组合。

7.根据权利要求6所述的微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述无机碱为氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钾、碳酸钠或氨水；所述有机碱为三乙醇胺、四羟基乙二胺、六羟基丙基丙二胺、乙二胺或四甲基氢氧化铵。

8.权利要求1所述的微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，其特征在于，先将所需重量的磨料II均匀分散于放置在容器罐内的去离子水中，然后在至少千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将溶解的磨料I输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料II进行混合并充分搅拌，混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌，混合均匀即制备成成品抛光液。

9.根据权利要求8所述的微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，其特征在于：所述至少千级净化室的环境温度为20至25摄氏度；所述真空压力为10^-1至0Mpa。