[发明专利]焊垫刻蚀的方法无效

申请号：	200710039195.0	申请日：	2007-04-06
公开（公告）号：	CN101281868A	公开（公告）日：	2008-10-08
发明（设计）人：	蒋巍;王宏玲;石小兵	申请（专利权）人：	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
主分类号：	H01L21/321	分类号：	H01L21/321;H01L21/3213;H01L21/60;H01L21/28
代理公司：	上海智信专利代理有限公司	代理人：	王洁
地址：	2012***	国省代码：	上海;31
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摘要：
搜索关键词：	刻蚀方法
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【权利要求书】：

1. 一种焊垫刻蚀的方法，其包括如下步骤：清洗焊垫表面，依次刻蚀氮化物层，氧化物层以及氮化钛以使铝暴露出来；其特征在于：该方法在刻蚀氧化物层时同时充入产生聚合物较少的气体。

2. 如权利要求1所述的一种焊垫刻蚀的方法，其特征在于：所述产生聚合物较少的气体为四氟化碳。

3. 如权利要求2所述的一种焊垫刻蚀的方法，其特征在于：刻蚀氧化物层时需要充入氩气，氧气，四氟化碳以及八氟化四碳的混合气体，以去除焊垫上的氧化物层。

4. 如权利要求3所述的一种焊垫刻蚀的方法，其特征在于：刻蚀氧化物层时降低八氟化四碳的浓度以便四氟化碳充入。

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