[发明专利]背光产品的干涉纹处理工艺无效
| 申请号： | 200710028231.3 | 申请日： | 2007-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN101311790A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | 陈武昌 | 申请（专利权）人： | 星磊电子（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000广东省深圳市宝安区沙井*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 背光 产品 干涉 处理 工艺 | ||
【权利要求书】：
1、一种背光产品的干涉纹处理工艺，其特征在于：包括根据与背光相组合的LCD角度将增光膜的角度由常规的6度、94度调整设为15度、30度或45度，或者选择90/20、90/50的锯距的增光膜，以使其与LCD偏光片的角度相搭配，消除透过LCD后所产生的干涉纹。
2、根据权利要求1所述的背光产品的干涉纹处理工艺，其特征在于：所述的增光膜为两层组装，且厚度相同，均为0.065毫米。
3、根据权利要求1所述的背光产品的干涉纹处理工艺，其特征在于：组装后上下两层的增光膜相交叉的角度为90度。
4、根据权利要求1所述的背光产品的干涉纹处理工艺，其特征在于：单张增光膜的角度为15度、30度、45度、105度、120度或135度。
5、根据权利要求1所述的背光产品的干涉纹处理工艺，其特征在于：所述增光膜的锯齿面顺着出光方向朝上。
6、根据权利要求1所述的背光产品的干涉纹处理工艺，其特征在于：所述的处理工艺还包括通过组合LCD以检测干涉纹的消除情况。
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