[发明专利]除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置及方法

权利要求书

1.一种除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置，包括：

一激光光源；

一透镜组；以及

一平台，其与该透镜组保持一适当的距离，并供容纳与放置具有护膜的掩模，其中从该激光光源发出的激光经过该透镜组投射至该平台上，且投射至该平台的激光穿过该护膜并除去位于该掩模上的杂质。

2.如权利要求1所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置，其中，该装置还包括用于观测该掩模的一观测元件。

3.如权利要求2所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置，其中，该观测元件为一光耦合器。

4.如权利要求2所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置，其中，该观测元件通过穿过该掩模的任意波长范围的光源来观测位于该掩模上的杂质。

5.如权利要求2所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置，其中，该观测元件通过从该掩模反射的任意波长范围的光源来观测位于该掩模上的杂质。

6.如权利要求1所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置，其中，该激光光源为脉冲激光或连续光波激光。

7.如权利要求1所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置，其中，该透镜组包括多个透镜，所述透镜的放大倍率均不相同，激光通过所述透镜中的一个透镜投射至该平台上。

8.一种除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的方法，该方法包括下列步骤：

提供一激光光源以及一平台；

将具有护膜的掩模放置于该平台上；以及

使激光从该激光光源投射至该平台，并穿过该护膜，从而除去位于该掩模上的杂质。

9.如权利要求8所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的方法，其中，该方法还包括下列步骤：

提供一透镜组，该透镜组具有多个透镜，所述透镜具有不同的放大倍率；

根据该杂质的尺寸调整激光的能量大小，使激光通过所述透镜中的一个透镜投射至该平台。

10.如权利要求9所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的方法，其中，该方法还包括下列步骤：

提供一观测元件；

利用该观测元件观测该掩模。

11.如权利要求10所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的方法，其中，该方法还包括下列步骤：

利用穿过该掩模的任意波长范围的光源来观测该掩模。

12.如权利要求10所述的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的方法，其中，该方法还包括下列步骤：

利用从该掩模反射的任意波长范围的光源来观测该掩模。