[发明专利]HCFC 225ca/cb混合物至HFC 245cb和HFC 1234yf的直接转化

权利要求书

1.一种选择性还原卤代烃共混物的方法，其包括如下步骤：

(a)提供包含1，3-二氯-1，1，2，2，3-五氟丙烷和至少一种其它氯取代的C2～C4卤 代烃化合物的卤代烃共混物，所述至少一种其它氯取代的C2～C4卤代烃化合物包 含除1，3-二氯-1，1，2，2，3-五氟丙烷以外的一种或多种二氯五氟丙烷异构体；和

(b)使所述共混物与选自氢气或甲酸铵的还原剂接触以还原至少大部分的所 述至少一种其它氯取代的C2～C4卤代烃化合物，而不还原大部分的所述1，3-二氯 -1，1，2，2，3-五氟丙烷，其中所述接触步骤在选自钯碳或四(三苯基膦)钯的催化剂的 存在下进行和在30-150℃的温度进行。

2.权利要求1所述的方法，其中所述其它氯取代的C2～C4卤代烃化合物包含 3，3-二氯-1，1，1，2，2-五氟丙烷。

3.权利要求1所述的方法，其中所述共混物基本由二氯五氟丙烷异构体组成。

4.权利要求3所述的方法，其中所述共混物基本由1，3-二氯-1，1，2，2，3-五氟丙 烷和3，3-二氯-1，1，1，2，2-五氟丙烷组成。

5.权利要求4所述的方法，其中所述共混物基本由1～99重量％的3，3-二氯 -1，1，1，2，2-五氟丙烷和1-99重量％的1，3-二氯-1，1，2，2，3-五氟丙烷组成。

6.权利要求4所述的方法，其中所述共混物基本由45～60重量％的3，3-二氯 -1，1，1，2，2-五氟丙烷和40～55重量％的1，3-二氯-1，1，2，2，3-五氟丙烷组成。

7.权利要求4所述的方法，其中至少50％的所述3，3-二氯-1，1，1，2，2-五氟丙烷 在所述接触步骤中被还原。

8.权利要求1所述的方法，其中所述接触步骤生成包含一种或多种C3卤代 烃的组合物。

9.权利要求1所述的方法，其中所述至少一种其它氯取代的C2～C4卤代烃 化合物包含至少一种C3氢氯氟烃，所述至少一种C3氢氯氟烃包含除1，3-二氯 -1，1，2，2，3-五氟丙烷以外的一种或多种二氯五氟丙烷异构体，而且其中所述接触步 骤将至少一部分所述至少一种C3氢氯氟烃转化为选自C3氢氟烃、C3氢氯氟烃 和它们的组合的化合物。

10.权利要求1所述的方法，其中所述至少一种由所述转化步骤生成的化合物 包含卤化C3脂族化合物。

11.权利要求9所述的方法，其中所述至少一种由所述转化步骤生成的化合物 包含至少一种C3氢氟烃。

12.权利要求11所述的方法，其中所述至少一种C3氢氟烃包含至少一种五 氟化C3氢氟烃。

13.权利要求12所述的方法，其中所述至少一种五氟化C3氢氟烃至少包含 CF₃CF₂CH₃。

14.权利要求9所述的方法，其中所述至少一种由所述转化步骤生成的化合物 包含至少一种C3氢氟烯烃。

15.权利要求14所述的方法，其中所述至少一种C3氢氟烯烃选自三氟化C3 氢氟烯烃、四氟化C3氢氟烯烃和五氟化C3氢氟烯烃，以及它们的组合。

16.权利要求14所述的方法，其中所述至少一种C3氢氟烯烃至少包含 CF₃CF＝CH₂。

17.权利要求14所述的方法，其中所述至少一种C3氢氟烯烃至少包含 CF₃CF＝CFH。

18.权利要求9所述的方法，其中所述至少一种由所述转化步骤生成的化合物 包含至少一种C3氢氯氟烃。

19.权利要求18所述的方法，其中所述至少一种C3氢氯氟烃是式C₃F₅H₂Cl 的化合物。