[发明专利]用于制造硅或其他晶体材料的带的装置及制造方法无效
申请号: | 200680040466.8 | 申请日: | 2006-10-19 |
公开(公告)号: | CN101300686A | 公开(公告)日: | 2008-11-05 |
发明(设计)人: | 罗兰·艾因豪斯;弗朗索瓦·利萨尔德;休伯特·劳弗雷 | 申请(专利权)人: | 阿波朗·索拉尔公司;西伯斯塔公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 其他 晶体 材料 装置 方法 | ||
1.一种通过受控结晶化制造晶体材料的带(R)的装置,其特征在于,所述装置包括具有底部(2)和侧壁(3)的坩埚(1),所述坩埚(1)包括水平布置于所述侧壁(3)的底部的至少一个横向狭缝(4),所述横向狭缝(4)具有大于50mm的宽度(L)以及介于50和1000微米之间的高度(H)。
2、根据权利要求1的装置,其特征在于,所述横向狭缝(4)的宽度介于100mm和500mm之间。
3、根据权利要求1或2的装置,其特征在于,所述横向狭缝(4)布置于所述坩埚(1)的所述底部(2)和一个所述侧壁(3)之间。
4、根据权利要求1至3中任一项的装置,其特征在于,所述横向狭缝(4)加工形成于所述侧壁(3)中。
5、根据权利要求1至3中任一项的装置,其特征在于,所述横向狭缝(4)具有可变的高度(H)。
6、根据权利要求1至5中任一项的装置,其特征在于,所述装置包括向所述坩埚(1)供给待结晶化的原料的持续供给装置(7)。
7、根据权利要求1至6中任一项的装置,其特征在于,所述装置包括在所述横向狭缝(4)的水平上局部冷却所述坩埚(1)的所述底部(2)的冷却装置(9、10)。
8、根据权利要求1至7中任一项的装置,其特征在于,所述装置包括在所述横向狭缝(4)的水平上局部加热所述例壁(3)的加热装置(15)。
9、根据权利要求1至8中任一项的装置,其特征在于,所述装置包括通过所述坩埚(1)的所述横向狭缝(4)输出的晶体材料带(R)的夹持装置(12)。
10、根据权利要求1至9中任一项的装置,其特征在于,所述装置包括提拉晶体材料的带(R)的位移装置(11)。
11、根据权利要求1至10中任一项的装置,其特征在于,所述狭缝(4)由一系列孔(18)形成,所述一系列孔(18)间隔布置使得穿过孔(18)的材料丝在孔(18)出口处互相结合形成所述带(R)。
12、一种使用权利要求1至11中任一项的装置,通过沿结晶轴(C)的受控结晶化的晶体材料的带(R)的制造方法,其特征在于,所述结晶轴(C)垂直于所述装置的提拉轴(T)。
13、根据权利要求12的制造方法,其特征在于,所述结晶材料通过所述横向狭缝(4)输出,所述方法包括将结晶化种子(13)与通过所述横向狭缝(4)输出的材料接触的步骤,以及所述带(R)的水平位移步骤(14)。
14、根据权利要求12或13的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括将所述制造装置直接集成到光伏电池生产线中。
15、根据权利要求12至14中任一项的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括使所述坩埚(1)和/或所述带(R)相对于水平面(17)的倾斜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿波朗·索拉尔公司;西伯斯塔公司,未经阿波朗·索拉尔公司;西伯斯塔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的