[发明专利]利用微柱检验精细图案和形态的检验设备

说明书

技术领域

本发明总体涉及在制造过程中对大面积半导体晶片图案或者大面积LCD和PDP面板(以下称为样品)进行检验的检验设备。该检验设备用于检查样品中的模块的精细电路(例如薄膜晶体管阵列)、分隔壁和/或各像素形态中的故障。其利用多微柱系统检验是否存在故障，然后分析并修复这些故障。

背景技术

传统LCD模块检验设备通过题为“薄膜晶体管阵列测试器”的韩国专利待决公报No.1999-017650中提出的方法，或者通过其中将电子束(E-beam)照射到TFT的各像素的阵列上以确认电流正常通过像素这样的方法来检查各TFT像素中是否存在故障。然而，由于电子束发射设备的尺寸较大，从而传统LCD检验系统的空间安装受到限制。因此，不能将大量电子束发射装置组装在一个检验系统中，这带来例如需要活动结构以及在样品的不同扫描域相继进行扫描的缺点。因此，传统检验设备需要花大量时间进行检验，而且其安装和维护不方便。因此，传统检验设备仅可用于在TFT-LCD或PDP制造过程中进行简单的检验来应对大规模生产。此外，必须在单独的检查过程中而不是在制造过程中检查对象的预计有故障的部分。

发明内容

技术问题

因此，考虑到上述问题而作出本发明。本发明提供一种检验设备，其快速检查面积相对较大的半导体晶片图案或者面积相对较大的显示设备(例如LCD或PDP)的模块的精细电路、分隔壁和/或各像素形态中存在的故障，并检查问题。

本发明的另一目的是提供还可分析并修复出故障部分的检验设备。

技术方案

为了实现上述目的，本发明提供一种检验设备，该检验设备包括多个微柱；杆，所述杆结合有所述微柱，并且沿着与对象运动方向垂直的方向布置；以及电子检测单元，所述电子检测单元用于检测从所述微柱辐射到对象上的电子束以确定对象中是否存在故障。

此外，本发明的检验设备还可包括可沿X和Y轴方向运动的活动杆以及与相应活动杆结合的微柱，从而精确检验、分析和修复存在故障的部分。

本发明提供一种检验设备，该检验设备可包括：多个微柱；至少一个第一检验单元，所述第一检验单元用于高速检验对象并包括杆以及电子检测单元，所述杆结合有所述微柱，并且沿着与对象运动方向垂直的方向布置，所述电子检测单元用于检测从所述微柱辐射到对象上的电子束以确定对象中是否存在故障；以及至少一个第二检验单元，所述第二检验单元设置在所述第一检验单元后方以精确检验对象的存在故障的部分，并包括可沿X和Y方向运动的活动杆以及结合到该活动杆上的微柱。

本发明是用于快速检验诸如显示器的TFT之类的精细电路是否正常运行的设备。在TFT电路处理方法中，可通过光学检验装置解决故障问题，但是在TFT电路驱动方法中，不能通过光学检验装置解决电子故障问题。因此，本发明的检验设备利用至少两个微柱检验TFT是否正常运行，所述微柱检验面积相对较大的显示器的TFT面板中是否存在电驱动故障。

此外，本发明的检验设备可精确地检验存在故障的部分并分析和修复该具有故障的部分。

作为根据本发明的检验设备的应用实施例，电子束从微柱辐射到TFT驱动电路上。通过检测从样品发射的二次电子在与驱动电路相连的电路中发生的变化来检查故障的存在。

有益效果

根据本发明的利用微柱的检验设备可进行利用传统光学检验设备不能进行的对精细电路的检验。此外，本发明的检验设备可快速检验显示器，即使显示器具有相对较大的面积也是如此。

此外，由于微柱低能量的特性，可使对对象的损害最小化。此外，本发明可检查待检对象的图案和形态。即，与利用几keV能量的传统光束发射设备相比，本发明的微柱可利用仅为1到2keV或更低的能量而获得高束流图像。因此，本发明利用高效电子束解决了对对象造成损害的传统问题。

此外，与传统检验设备相比，本发明的检验设备可利用微柱的电子束快速检验对象。而且，本发明可克服空间限制的问题。

附图说明

图1是图示本发明原理的立体图；

图2是根据本发明用于利用微柱检验精细图案和形态的设备的一实施方式的示意立体图；

图3是根据本发明用于利用微柱检验精细图案和形态的设备的另一实施方式的示意立体图；

图4是根据本发明用于利用微柱检验精细图案和形态的设备的另一实施方式的示意立体图；

图5是根据本发明用于利用微柱检验精细图案和形态的设备的另一实施方式的示意立体图；以及

图6是沿着图3的线A-A剖取的、图示电子束辐射对象的剖视图。

具体实施方式