[发明专利]氧化镁单晶蒸镀材料及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200680005522.4 申请日: 2006-02-21
公开(公告)号: CN101124347A 公开(公告)日: 2008-02-13
发明(设计)人: 东淳生;川口祥史;国重正明 申请(专利权)人: 达泰豪化学工业株式会社
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 氧化镁 单晶蒸镀 材料 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种氧化镁单晶蒸镀材料,其特征在于,蒸镀材料由氧化镁单晶形成,将所述蒸镀材料的最大投影面的等效圆直径设为D(m)、将与所述最大投影面垂直的方向的厚度设为t(m)、将蒸镀材料的体积设为V(m3)时,D/t为4以上,t为0.4×10-3m以上,V为5×10-9m3以上,并且,所述最大投影面的总面积的90%以上是由(100)面、(110)面及(111)面中的至少一种构成。

2.根据权利要求1所述的氧化镁单晶蒸镀材料,其中,所述D为20×10-3m以下。

3.根据权利要求1或2所述的氧化镁单晶蒸镀材料,其中,所述最大投影面的总面积的90%以上由(100)面构成。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的氧化镁单晶蒸镀材料,其中,所述氧化镁单晶是由电弧电熔法制造的,并且,氧化镁单晶的纯度在99.9质量%以上。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的氧化镁单晶蒸镀材料,所述氧化镁单晶蒸镀材料是用于电子束蒸镀的蒸镀材料。

6.一种根据权利要求1~5中任一项所述的氧化镁单晶蒸镀材料的制造方法,该氧化镁单晶蒸镀材料的制造方法包括破碎氧化镁单晶的工序,所述破碎工序包括以下工序,即,在加工成由氧化镁(100)面、(110)面及(111)面中任意一面构成的大致长方体形状后,沿着所述大致长方体形状的氧化镁单晶的与所期望的最大投影面垂直的方向的厚度解理,接着,破碎成所期望的等效圆直径。

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