[发明专利]薄膜的清除方法及其设备

说明书

技术领域

本发明是关于一种薄膜的清除方法及其设备，特别是关于一种在大气状态下使用电浆清除薄膜的方法及设备。

背景技术

传统液晶面板(TFT-LCD)的工序必须在干式及湿式之间反复切换，为了加快工序，目前面板厂都尽量将TFT-LCD的各工序在干式环境中进行，但是光阻的去除仍必须将面板浸泡于去光阻液中。

以浸泡方式去除光阻后，必须将面板加以风干，这样造成工序成本的增加以及工序上的延误，为适应大尺寸面板的需求，上述缺点将随着面板尺寸的增大影响更严重。为了加快面板工序，某些厂商开始利用电浆清除光阻，电浆清除属于干式工序，因此可使面板的整体工序都在干式环境下完成，就提高产量而言，原本以浸泡方式去除光阻的工序一小时可生产75片面板，改用电浆清除光阻后，产能可提高至一小时生产100～120片面板。

然而，电浆去除光阻的过程必须在真空环境下进行，且必须持续导入气体并添加催化剂产生电浆，如此一来，在提高产能的同时也提高了工序成本。

为了降低产生电浆的成本，Dainippon Screen Mfg公司发展出一种在大气下产生电浆进行表面清除的技术，请参阅图1A，电极板1a、1b之间形成电场偏压并在其中引导反应气体A产生电浆，基材10可通过两个电极板之间进行表面清除。基材10可以是要染色的布料或要进行表面接着的材料，基材10也可以是液晶面板，通过电浆的作用清除表面的光阻。

然而，将液晶面板直接通过电场后，经常发现面板上的电子元件遭受电场破坏，因此，Dainippon Screen Mfg公司又针对利用大气电浆进行表面清除方式作了以下改良，请参阅图1B，与图1A的不同之处在于，基材10并非直接通过电极板1a、1b之间，它是使电极板1a、1b垂直于该基材10，并引导电浆垂直射向基材10，通过移动基材10使其完整地与电浆作用。然后可将产生电浆的相关装置模块化，成为一电浆喷嘴设备。

当基材10为表面具有光阻的液晶面板时，垂直射向面板的电浆可将大部份光阻去除，然而部份光阻未能与电浆反应完全，形成微粒状副产物，此副产物会四散飞射，最后因重力原因散布于面板表面，如此一来，将影响面板的优良率。

为了解决电浆反应副产物的问题，有人提出将面板设在电浆产生器上方，将电浆垂直向上射向面板，利用重力使飞射的副产物自然掉落。但是，液晶面板的表面虽然看似平整，但却具有许多微结构，正向射到面板表面的电浆，可轻易地将微结构正面的光阻去除，然而微结构侧向上光阻就难以完全清除。另外，因大尺寸面板的需求与日俱增，在工序中将大尺寸面板翻转会极为不便，必须设计特殊的悬挂机以固定面板，从而使成本增加，且大型面板会因悬空易形成弯曲。美国专利案第6659110号揭示一种将基片设在滚轮上解决电浆反应副产物的方法也有上述缺点。

因此，如何改善上述缺点，已成为业界亟待解决的问题。

发明内容

为克服上述现有技术的缺点，本发明的主要目的在于提供一种可清除电浆反应副产物的薄膜的清除方法及其设备。

本发明的又一目的在于提供一种薄膜的清除方法及其设备，提高液晶面板的优良率。

本发明的次一目的在于提供一种薄膜的清除方法及其设备，节省液晶面板的制造成本。

本发明的另一目的在于提供一种薄膜的清除方法及其设备，可完整清除液晶面板表面的光阻。

为实现上述及其它目的，本发明提供一种薄膜的清除方法，用于清除一基片上的薄膜，该薄膜的清除方法包括：在该基片上方设置一电浆产生器以及一抽气装置；以及调整该电浆产生器，使其喷射出的电浆束斜射于该薄膜上，该抽气装置设在对应该电浆束的反射路径上，吸除该薄膜经电浆反应后，未反应完全而产生的副产物，保持该基片表面的清洁。

为实现上述及其它目的，本发明还揭示一种薄膜的清除设备，清除一基片表面上的薄膜，该薄膜的设备清除包括：电浆产生器，将电浆斜射到该薄膜，从该基片上清除薄膜；以及抽气装置，位于该电浆产生器射出电浆所对应的反射路径上，吸取该薄膜经电浆反应后，未反应完全而产生的副产物，保持该基片表面的清洁。

该基片是液晶面板，该薄膜是光阻，为使电浆产生器完整地清除液晶面板上的光阻，可使该电浆产生器以及抽气装置对称于一旋转轴旋转，且平行移动于该基片，具体而言，可提供一壳体包覆该电浆产生器以及抽气装置一体旋转。