[发明专利]基片抛光设备和基片抛光方法有效
| 申请号： | 200480017029.5 | 申请日： | 2004-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN1809444A | 公开（公告）日： | 2006-07-26 |
| 发明（设计）人： | 户川哲二;深谷孝一;多田光男;高桥太郎;须藤康成 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 蔡洪贵 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 设备 方法 | ||
【权利要求书】：
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