[其他]具有支承结构的高功率电子束处理机窗在审
| 申请号： | 101985000008631 | 申请日： | 1985-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN85108631B | 公开（公告）日： | 1988-04-20 |
| 发明（设计）人： | 特茨维·阿夫纳里 | 申请（专利权）人： | 能源科学公司 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国.马萨*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 支承 结构 功率 电子束 处理 机窗 | ||
1、一种具有支承结构的高功率电子束处理机窗，由一个隔离真空的纵向延伸的金属薄膜和一套或许多套平行且相互靠近布置的导热性肋片组成，其特征在于所说的导热性肋片是弯曲延伸的，该导热肋片由于真空压力而固着在薄膜内表面上，并且弯曲地横越纵向边缘之间的所述内表面。
2、如权利要求1中所述的高功率电子束处理机窗，其中金属肋片的弯曲至少部分为S形或C形。
3、如权利要求2所述的高功率电子束处理机窗，其中肋片的横断面从薄膜朝真空腔内逐渐变尖。
4、如权利要求3所述的高功率电子束处理机窗，其中所述肋片的横断面基本呈抛物线性。
5、如权利要求3所述的高功率电子束处理机窗，其中所述肋片具有基本呈三角形或梯形的横断面。
6、如权利要求1所述的高功率电子束处理机窗，其中那些金属肋片包括具有不同横断厚度的肋片。
7、如权利要求1所述的高功率电子束处理机窗，其中肋片至少有些部分覆盖有一种高原子序数元素，以增加电子束反射性能。
8、如权利要求7所述的高功率电子束处理机窗，其中高原子序数元素是钽。
9、如权利要求1所述的高功率电子束处理机窗，其中肋片的一部分覆盖有一种低原子序数元素，以减少由电子与肋片接触所产生的X射线。
10、如权利要求9所述的高功率电子束处理机窗，其中低原子序数元素是铝。
11、如权利要求1所述的高功率电子束处理机窗，其中金属薄膜面对电子束的表面上覆盖有一种低原子序数元素，以减少由电子与薄膜接触产生的X射线。
12、如权利要求11所述的高功率电子束处理机窗，其中低原子序数元素是铝。
13、如权利要求2所述的高功率电子束处理机窗，其中的金属薄膜是一个双金属薄膜。
14、如权利要求13所述的高功率电子束处理机窗，其中的双金属薄膜包括钛。
15、如权利要求13所述的高功率电子束处理机窗，其中的双金属薄膜包括铜。
16、如权利要求1所述的高功率电子束处理机窗，其中固定在窗口的肋片的表面弯曲地附着在窗口的微弯曲部分。
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