[发明专利]研磨布及研磨方法无效
申请号: | 01804562.6 | 申请日: | 2001-11-30 |
公开(公告)号: | CN1398213A | 公开(公告)日: | 2003-02-19 |
发明(设计)人: | 田中学;铃木义行;北胁秀亮;三村正久 | 申请(专利权)人: | 帝人株式会社 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;G11B5/84;D06M15/70;D06M15/564 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张天安 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 方法 | ||
1.一种研磨布,以由纤维母材和在其中填充高分子弹性体而成的复合布构成,其特征是,所说纤维母材(1)由20~3000根极细纤维结束而成的纤维束构成,(2)所说纤维束,其存在于从垂直于长度方向的截面的中心至半径的1/2的周围为止的中心部的极细纤维的平均直径(D1)为0.3~10μm,存在于从半径的1/2的周围至外周为止的外周部的极细纤维的平均直径(D2)为0.05~1μm,并且,D1/D2的比值为1.5以上。
2.如权利要求1所说的研磨布,所说研磨布,其高分子弹性体/纤维母材的比例按照重量在10/90~60/40的范围内。
3.如权利要求1所说的研磨布,所说研磨布,在构成所说纤维母材的纤维束之间所存在的空隙中实质性地存在高分子弹性体。
4.如权利要求1所说的研磨布,所说纤维母材是由50~2000根极细纤维结束而成的纤维束构成。
5.如权利要求1所说的研磨布,所说纤维束,其存在于中心部的极细纤维的平均直径(D1)为0.5~2μm且存在于所说外周部的极细纤维的平均直径(D2)为0.1~0.7μm。
6.如权利要求1所说的研磨布,所说纤维母材是由所说纤维束构成的无纺布结构体。
7.如权利要求1所说的研磨布,所说高分子弹性体,其100%伸长模量为9~40MPa。
8.如权利要求1所说的研磨布,所说纤维束以由聚酰胺形成的极细纤维构成。
9.如权利要求1所说的研磨布,厚度为0.3~1.2mm且厚度的标准差值(CV)为3以下。
10.如权利要求1所说的研磨布,具有宽度为5~300mm的带状形态。
11.如权利要求1所说的研磨布,抗拉强度在10N/cm以上。
12.如权利要求1所说的研磨布,具有在施加5N/cm载荷时宽度减小20%以下的带状形态。
13.如权利要求1所说的研磨布,至少一个表面的吸水速度为80秒以下。
14.如权利要求1所说的研磨布,另一个表面具有亲水性层且该层的厚度为500μm以下。
15.如权利要求1所说的研磨布,一侧表面的吸水高度为20mm/小时以上,其相反一侧表面的吸水高度为5mm/小时以下。
16.如权利要求1所说的研磨布,一侧表面经过起毛处理。
17.一种研磨布,以由纤维母材和在其中填充高分子弹性体而成的复合布构成,其特征是,所说纤维母材(1)由20~3000根极细纤维结束而成的纤维束构成,(2)所说纤维束,其存在于从垂直于长度方向的截面的中心至半径的1/2的周围为止的中心部的极细纤维的平均直径(D1)为0.3~10μm,存在于从半径的1/2的周围至外周为止的外周部的极细纤维的平均直径(D2)为0.05~1μm,并且D1/D2的比值为1.5以上,所说研磨布,(a)一侧表面的吸水高度为20mm/小时以上,其相反一侧表面的吸水高度为5mm/小时以下,并且(b)一侧表面经过起毛处理。
18.一种磁记录盘片的研磨方法,其特征是,在将含有从氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氮化硅、单晶和多晶金刚砂构成的组中选择的至少一种磨粒且含有直径为0.05~0.5μm的磨粒的研磨膏向磁记录盘片表面供给的同时使用权利要求1所说的研磨布对该盘片的表面进行研磨。
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