[发明专利]光元件用光学器件和用该光元件用光学器件的设备有效
申请号: | 01141212.7 | 申请日: | 2001-09-28 |
公开(公告)号: | CN1345097A | 公开(公告)日: | 2002-04-17 |
发明(设计)人: | 大角吉正;松井明;清本浩伸 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01S5/00;G02B1/04;G02B3/00;G02B5/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 元件 用光 器件 设备 | ||
1.一种光元件用光学器件,是控制从光元件到外部的出射光、或者从外部到前述光元件的入射光的光路的光元件用光学器件,其特征在于,
由光反射构件、和覆盖前述光反射构件的至少光反射面的树脂构件组成,
前述树脂构件具有几乎使离开前述光元件前方的规定区域的光全反射的树脂界面,
前述树脂界面或前述光反射构件的配置确定为,使离开前述光元件前方的规定区域的光的、连接前述光元件和前述光元件用光学器件的外部的光路径在前述树脂界面和前述光反射构件的各处,经由至少一次以上反射路径,
在前述光反射构件与树脂的边界上,设置缓冲件。
2.权利要求1中所述的光元件用光学器件,其特征在于,前述树脂构件具有出射或聚焦达到前述光元件前方的规定区域的光的透镜部。
3.权利要求1中所述的光元件用光学器件,其特征在于,前述缓冲件设在因前述光反射构件和树脂的热收缩或膨胀而发生的应力的集中部。
4.权利要求1中所述的光元件用光学器件,其特征在于,前述缓冲件设在前述光反射构件的至少光反射侧。
5.权利要求1中所述的光元件用光学器件,其特征在于,前述缓冲件为硬度低的软质层,或者气体,或者流体层,或者通过收缩出现的空洞层。
6.权利要求1中所述的光元件用光学器件,其特征在于,前述缓冲件的在JIS K 6249中所规定的硬度为50以下。
7.权利要求1中所述的光元件用光学器件,其特征在于,前述缓冲件具有一样、或者基本上一样的厚度。
8.权利要求1中所述的光元件用光学器件,其特征在于,前述缓冲件的厚度为100μm以下。
9.权利要求1中所述的光元件用光学器件,其特征在于,前述缓冲件的厚度为30μm以上,100μm以下。
10.一种光元件用光学器件阵列,其特征在于排列有多个 1中所述的光元件用光学器件。
11.一种光学装置,具有权利要求10中所述的光元件用光学器件阵列和光元件,其特征在于,
前述光元件配置在确定的位置上,以便使离开前述光元件前方的规定区域的光的、连接前述光元件和前述光元件用光学器件的外部的光路径在前述树脂界面和前述光反射构件的各处,经由至少一次以上反射路径。
12.一种光学装置,具有:光元件、以及控制从前述光元件到外部的出射光,或者从外部到前述光元件的入射光的光路的光元件用光学器件的光学装置,其特征在于,
前述光元件用光学器件由光反射构件、和覆盖前述光反射构件的至少光反射面的树脂构件组成,
前述树脂构件具有几乎使离开前述光元件前方的规定区域的光全反射的树脂界面,
前述树脂界面或前述光反射构件的配置确定为,使离开前述光元件前方的规定区域的光的、连接前述光元件和前述光元件用光学器件的外部的光路径在前述树脂界面和前述光反射构件的各处,经由至少一次以上反射路径,
在前述光反射构件与树脂的边界上,设置缓冲件。
13.权利要求12中所述的光学装置,其特征在于,前述光元件是由发光元件芯片或者把前述发光元件芯片密封在模塑树脂中的发光元件模块组成的发光元件。
14.权利要求13中所述的光学装置,其特征在于,前述树脂界面,具有从前述发光元件所出射的第1光被全反射的前述树脂界面上的全反射点,与从前述发光元件所出射并比前述全反射点更接近于前述发光元件的前述树脂界面上的点处被全反射的第2光被前述光反射构件反射并向外部出射时通过前述树脂界面的通过点,是同一个的区域。
15.权利要求12中所述的光学装置,其特征在于,前述光元件是由受光元件芯片或者把前述受光元件芯片密封在模塑树脂中的受光元件。
16.权利要求15中所述的光学装置,其特征在于,具有从外部入射到前述树脂界面而被前述光反射构件反射的第1光在前述树脂界面的全反射点被全反射而入射到前述受光元件的光路径,和从外部通过前述全反射点入射到前述树脂界面并被前述光反射构件反射的第2光被前述树脂界面在比前述全反射点更接近于前述受光元件的点处被全反射而入射到前述受光元件的光路径。
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