[发明专利]无接触基材输送装置

说明书

本发明涉及一种无接触基材输送装置，特别是一种沿路径为螺旋形而与基材无接触的无接触基材输送装置，其可减小基材的偏压和弯曲，稳定基材的输送。

由公开号为48-44151的日本专利公开的无接触输送装置，沿螺旋路径而不与基材接触的输送基材，它至少包括两个支承基材的缸形气室，所述基材沿螺旋路径通过气膜和换向管运行，使得基材10进入和离开螺旋路径。

沿螺旋路径稳定地输送基材是很重要的。公开号为61-2676的日本实用新型专利和临时公开号为6-144663的日本发明专利公开了一种无接触输送装置，其中换向管可以倾斜，运行基材的位置可被测定，换向管可以倾斜到基材总是处于中间的位置，以使基材的输送稳定。

然而在公开号为61-2676的日本实用新型专利和临时公开号为6-144663的日本发明专利公开的无接触输送装置中，换向管子总是倾斜的，这样，会使基材蜿蜒前行并导致基材弯曲。

针对上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种减小基材弯曲和偏压，以稳定基材输送的无接触输送装置。

为达到上述目的，本发明提供了一种无接触基材输送装置，其包括：至少两个沿螺旋路径通过气膜支承基材的缸形气室，通过从至少两个缸形气室的外周形成的喷口喷出的气体使所述缸形气室与基材不接触，至少两个缸形气室基本平行；当基材进入和离开至少两个缸形气室的螺旋路径时，通过气膜支承基材的换向气室(其气膜由在换向气室外周上形成的喷口喷出的气体形成)，以改变基材的运行方向，换向气室在至少两个缸形气室的两端成排设置；张力测定装置，在基材进入至少两个缸形气室的螺旋路径之前，测定基材两边缘的张力，张力测定装置设置在至少两个缸形气室的上面；倾斜装置，它按照张力测定装置的测定结果使换向气室倾斜。

设置在缸形气室上面的张力测定装置在基材进入缸形气室螺旋路径之前，测定基材两边缘的张力，然后，倾斜装置根据测定结果以预定的角度使换向气室倾斜。在基材运行时，换向气室保持在所述的倾斜角，因此减小了基材的弯曲和偏压，并使基材平稳运行。

为了达到上述目的，本发明提供了一种无接触基材输送装置，其包括：至少两个沿螺旋路径通过气膜支承基材的缸形气室，通过从至少两个缸形气室的外周形成的喷口喷出的气体使所述缸形气室与基材不接触，至少两个缸形气室基本平行；当基材进入和离开至少两个缸形气室的螺旋路径时，通过气膜支承基材的换向气室(其气膜由在换向气室外周上形成的喷口喷出的气体形成)，以改变基材的运行方向，换向气室在至少两个缸形气室的两端成排设置，每排具有三个换向气室；张力测定装置，在基材进入至少两个缸形气室的螺旋路径之前，测定基材两边缘的张力，张力测定装置设置在至少两个缸形气室的上面；倾斜装置，它按照张力测定装置的测定结果使换向气室倾斜，使三个换向气室每排的中间换向气室倾斜。

设置在缸形气室上面的张力测定装置在基材进入缸形气室螺旋路径之前，测定基材两边缘的张力，然后，倾斜装置根据测定结果以预定的角度使换向气室倾斜。在基材运行时，换向气室保持在所述的倾斜角，因此减小了基材的弯曲和偏压，并使基材平稳运行。

缸形气室可以分别通过封闭部件进行封闭；L/A在0.1～2.0的范围内，其中A是通过部件封闭的空间的横断面，L是两个缸形气室的长度。

由于缸形气室采用所述部件封闭，可以容易地控制用于干燥基材的气体温度和湿度。L/A越小，空间越大，这样，装置的成本高，空间的利用率低；而如果L/A过大，则回气的流速大，这样会引起基材的偏压和弯曲。L/A的优选范围是0.1～2.0，特别优选的范围是0.2～1.5。

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。

图1为本发明第一实施例无接触输送装置用于感光材料涂敷和干燥设备的结构示意图。

图2为图1的平面图。

图3为换向装置的结构立体图。

图4为换向装置工作的示意图。

图5为倾斜机构的结构前视图。

图6(A)和6(B)为基材上出现弧形伸展和单边缘伸展的平面图。

图7为张力测定装置的结构立体图。

图8为第二实施例无接触输送装置的结构侧视图。

图9为本发明第二实施例无接触输送装置基本部分的透视图。