[发明专利]无接触基材输送装置无效
申请号: | 00134141.3 | 申请日: | 2000-12-06 |
公开(公告)号: | CN1357485A | 公开(公告)日: | 2002-07-10 |
发明(设计)人: | 藤仓大介 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B65H20/14 | 分类号: | B65H20/14;F26B13/20;G03C1/74 |
代理公司: | 北京北新智诚专利代理有限公司 | 代理人: | 鲁兵 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接触 基材 输送 装置 | ||
1、无接触基材输送装置,包括:至少两个沿螺旋路径通过气膜支承基材的缸形气室,通过从至少两个缸形气室的外周形成的喷口喷出的气体使所述缸形气室与基材不接触,至少两个缸形气室基本平行;
当基材进入和离开至少两个缸形气室的螺旋路径时,通过气膜支承基材的换向气室,其气膜通过在换向气室外周上形成的喷口喷出的气体形成,以改变基材的运行方向,换向气室在至少两个缸形气室的两端成排设置;
张力测定装置,在基材进入至少两个缸形气室的螺旋路径之前,测定基材两边缘的张力,张力测定装置设置在至少两个缸形气室的上面;
倾斜装置,它按照张力测定装置的测定结果使换向气室倾斜。
2、根据权利要求1所述的无接触输送装置,其特征在于:至少两个缸形气室分别通过部件封闭;
L/A在0.1~2.0的范围内,其中A是通过部件封闭的空间的横断面,L是至少两个缸形气室的长度。
3、无接触基材输送装置,包括:至少两个沿螺旋路径通过气膜支承基材的缸形气室,通过从至少两个缸形气室的外周形成的喷口喷出的气体使所述缸形气室与基材不接触,至少两个缸形气室基本平行;
当基材进入和离开至少两个缸形气室的螺旋路径时,通过气膜支承基材的换向气室,其气膜通过在换向气室外周上形成的喷口喷出的气体形成,以改变基材的运行方向,换向气室在至少两个缸形气室的两端成排设置,每排具有三个换向气室;
张力测定装置,在基材进入至少两个缸形气室的螺旋路径之前,测定基材两边缘的张力,张力测定装置设置在至少两个缸形气室的上面;
倾斜装置,它按照张力测定装置的测定结果使换向气室倾斜,使三个换向气室每排的中间换向气室倾斜。
4、根据权利要求3所述的无接触输送装置,其特征在于:至少两个缸形气室分别通过部件封闭;
L/A在0.1~2.0的范围内,其中A是通过部件封闭的空间的横断面,L是至少两个缸形气室的长度。
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