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- [实用新型]二合一记忆卡连接器-CN200420001489.6无效
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张金喜
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张金喜
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2004-03-01
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2005-04-13
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H01R27/00
- 本实用新型涉及一种二合一记忆卡连接器,至少包括一供SMC与XD记忆卡插设应用的板形基座,以及基座上覆设有一上盖所组成,选定基座板面凹设有SMC记忆卡插槽,预留该插槽一端为开放状插入口,于其插槽底面设有匹配SMC记忆卡的端子;并选定SMC记忆卡插槽槽底面凹设有一XD记忆卡插槽,令二插槽形成相叠连通状,并预留XD记忆卡插槽一端为开放状插入口,且选定其插槽底面设有匹配XD记忆卡的端子。
- 二合一记忆连接器
- [发明专利]光刻工艺中的曝光场的尺寸选择方法-CN201410061115.1有效
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栾会倩
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无锡华润上华科技有限公司
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2014-02-21
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2017-07-11
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G03F7/20
- 一种光刻工艺中的曝光场的尺寸选择方法,用于选择扫描式光刻机和步进式光刻机的曝光场尺寸,包括获取待生产的芯片尺寸xd×yd;获取待光刻的晶圆的半径R;定义横轴方向上的两个shot的中心距离晶圆中心的距离为纵轴方向上的两个shot的中心距离晶圆中心的距离为Y、晶圆的去边长度d;扫描式光刻机的最大曝光场尺寸为xsc_max×ysc_max,步进式光刻机的最大曝光场尺寸为xst_max×yst_max;xsc=ax×xd、ysc=ay×yd、xst=bx×xd、yst=by×yd;根据以下约束条件计算ax、bx、ay、by的值(1)kx×ax×xd=lx×bx×xd=X,同时ky×ay×yd=ly×by×yd=Y;(2
- 光刻工艺中的曝光尺寸选择方法
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