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- [发明专利]发光材料Cu2(etmp)4及合成方法-CN201610171153.1有效
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张淑华;杨金武;张海洋
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桂林理工大学
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2016-03-23
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2018-09-11
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C07D249/14
- 本发明公开了一种发光材料Cu2(etmp)4及合成方法。发光材料Cu2(etmp)4的分子式为：C44H44Cu2N16O8，相对分子质量为：1052.05,Hetmp为2‑乙氧基‑6‑(1,2,4)‑三氮唑‑4‑亚氨甲基苯酚。三氮唑希夫碱和0.040‑0.080g分析纯乙酸铜混合，溶于5‑10mL分析纯N,N’‑二甲基甲酰胺溶液中，搅拌20分钟后加入分析纯乙腈5‑10mL，继续搅拌20分钟后，室温下静置3天后，得到Cu2(etmpCu2(etmp)4在301nm的入射光照射下产生153.3a.u.强度的465nm的荧光；在900V的光电倍增管，3倍的放大系数下，过硫酸钾溶液中，产生了850a.u.强度且稳定的发光。
- 发光材料cusubetmp合成方法
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