专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]废气洗涤方法-CN202111346380.0在审
  • 柴青;王毅;张新党;龚丽芳 - 江苏三贵资源再生有限公司
  • 2021-11-15 - 2022-01-04 - B01D53/14
  • 本发明属于废气处理技术领域,具体涉及废气洗涤方法,包括沸点溶剂淋洗步骤、分离沸点溶剂步骤和双氧水淋洗步骤;沸点溶剂淋洗步骤用于将废气中的VOC吸收;分离沸点溶剂步骤用于将沸点溶剂从高沸点溶剂淋洗步骤输送的气体中分离回收;双氧水淋洗步骤用于对分离沸点溶剂步骤输送的气体进行氧化处理,达到排放标准。本发明提供的废气洗涤方法,通过高沸点溶剂将废气中疏水和亲水气体均能吸收,从而避免水溶液作为洗涤剂时的洗涤效率的底下。沸点溶剂作为洗涤液可以节约成本,提高效率,同时沸点溶剂在回收的过程中也可以回收吸收的有机溶剂,并重复利用,从而不会增加废水处置负担。
  • 废气洗涤方法
  • [发明专利]被干燥物的干燥方法及其装置-CN201080027301.3无效
  • 内野正英 - 日本原野株式会社
  • 2010-08-11 - 2012-05-23 - F26B5/04
  • 在本发明中,使在被干燥物的干燥作业中使用的沸点溶剂沸腾蒸发并从被干燥物表面去除,由此,能够安全地从装置中取出被干燥物,并且,能够回收沸点溶剂,能够减轻针对环境的负荷并降低运转成本。在导入了沸点比水沸点溶剂(2)的溶剂导入槽(1)内,使被干燥物(25)与加热到水的沸点以上的沸点溶剂(2)接触,使附着于被干燥物(25)的水分沸腾蒸发,然后,在密闭空间内将被干燥物(25)移送到真空干燥槽(10),在切断了溶剂导入槽(1)与真空干燥槽(10)之间的连通的状态下,对真空干燥槽(10)内进行减压并加热到沸点溶剂(2)的沸点以上,使附着于被干燥物(25)表面的沸点溶剂(2)蒸发,对被干燥物
  • 干燥方法及其装置
  • [发明专利]一种适用于照片打印的喷墨墨水及其制备方法-CN201910038206.6有效
  • 梁日军;刘颐中;梁晓伟 - 深圳市墨库图文技术有限公司
  • 2019-01-16 - 2022-01-11 - C09D11/033
  • 本发明公开了一种适用于照片打印的喷墨墨水及其制备方法,该喷墨墨水包括如下重量百分数的原料:20~40%染料色浆、2~10%沸点溶剂、10~30%中沸点溶剂、1~5%低沸点溶剂、0.2~3%表面活性剂、0.1~0.2%杀菌剂、20~40%去离子水;其中,沸点溶剂沸点大于或等于250℃的溶剂,中沸点溶剂沸点大于120℃且小于250℃的溶剂,低沸点溶剂沸点大于70℃且小于或等于120℃的溶剂。通过以上方式,本发明喷墨墨水通过采用特定配比、不同沸点溶剂与其他原料搭配,各原料协同配合,可使产品墨水打印流畅性好,不堵塞喷嘴,在相纸上的色彩表现力好,不会出现晕色现象,适用于照片打印。
  • 一种适用于照片打印喷墨墨水及其制备方法
  • [发明专利]打印装置和打印方法-CN201811365531.5有效
  • 大西胜 - 株式会社御牧工程
  • 2018-11-16 - 2020-11-06 - B41J11/00
  • 一种以喷墨方式进行打印的打印装置(10),该打印装置(10)包括:喷墨头(102c~102k),其喷出至少含有沸点互不相同的两种溶剂的墨;以及紫外线照射部(104),其为通过照射紫外线而加热介质(50)上的墨的能量射线照射部,墨分别包含:20重量%以上的低沸点溶剂,其为沸点较低的溶剂;以及20重量%以上的沸点溶剂,其为沸点较高的溶剂,在到墨中的溶剂完全蒸发为止的期间的至少一部分的时间段内,紫外线照射部(104)使介质(50)上的墨的温度上升到低沸点溶剂沸点以上、且低于沸点溶剂沸点的温度。
  • 打印装置方法
  • [发明专利]一种生长二维有机单晶的方法-CN201911038621.8有效
  • 李荣金;姚佳荣;胡文平 - 天津大学
  • 2019-10-29 - 2021-07-06 - C30B7/14
  • 本发明公开了一种生长二维有机单晶膜的方法,包括以下步骤:在黏性液体基底上加入低沸点溶剂,于10~25℃放置1min,再加入沸点溶剂,于10~25℃放置8~10小时,得到二维有机单晶膜,黏性液体基底为丙三醇,沸点溶剂沸点为110‑150℃。本发明的方法通过以黏性液体基底起到延缓溶剂挥发的作用,在低沸点溶剂上覆盖一层沸点溶剂,利用低沸点溶剂先诱导出微晶颗粒,沸点溶剂起到将小晶粒聚集并获得均匀平整的二维有机单晶,从而制备大面积二维有机单晶膜
  • 一种生长二维有机方法

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