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[发明专利]液状组合物及其制造方法以及玻璃物品-CN201280013816.7有效
发明人：小平广和;速水裕;朝长浩之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2012-03-22 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： C09D201/00 文献下载
摘要：本发明提供能形成在具有足够的紫外线吸收功能和红外线吸收功能的同时确保无色透明性、而且耐候性也优异的被膜的液状组合物及其制造方法，以及具备在具有足够的紫外线吸收功能和红外线吸收功能的同时确保无色透明性、而且耐候性也优异的被膜的玻璃物品。本发明是一种液状组合物，该液状组合物是含有红外线吸收剂、紫外线吸收剂、具有酸值和/或胺值的分散剂、粘合剂成分和液状介质的被膜形成用的液状组合物，其中，所述红外线吸收剂选自掺锡氧化铟、掺锑氧化锡和复合钨氧化物，所述紫外线吸收剂选自二苯酮类化合物、三嗪类化合物和苯并三唑类化合物；其中，以分散剂的酸值和胺值的总和(mgKOH/g)与分散剂相对于红外线吸收剂的质量比之积为2～30(mgKOH/g)的含量含有分散剂。
液状组合及其制造方法以及玻璃物品

[发明专利]碳化硅单晶基板及研磨液-CN201510176570.0在审
发明人：吉田伊织;竹宫聪;朝长浩之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2012-10-02 - 公布日： 2015-10-14 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明涉及碳化硅单晶基板，其具备具有包含来源于结晶结构的原子台阶和平台的原子台阶-平台结构的主面，所述原子台阶-平台结构中，所述原子台阶的前端线部的平均线粗糙度相对于所述原子台阶的高度的比例为20％以下。
碳化硅单晶基板研磨

[发明专利]碳化硅单晶基板及研磨液-CN201280049471.0有效
发明人：吉田伊织;竹宫聪;朝长浩之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2012-10-02 - 公布日： 2014-06-11 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及碳化硅单晶基板，其具备具有包含来源于结晶结构的原子台阶和平台的原子台阶-平台结构的主面，所述原子台阶-平台结构中，所述原子台阶的前端线部的平均线粗糙度相对于所述原子台阶的高度的比例为20%以下。
碳化硅单晶基板研磨

[发明专利]研磨剂及研磨方法-CN201280043222.0无效
发明人：吉田伊织;竹宫聪;朝长浩之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2012-08-23 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明以高研磨速度对碳化硅单晶基板等非氧化物单晶基板进行研磨，得到平滑的表面。本发明提供一种研磨剂，其中含有氧化还原电位为0.5V以上的含过渡金属的氧化剂、平均二次粒径为0.2μm以下的二氧化硅粒子、分散介质；所述氧化剂的含有比例为0.25质量％以上5质量％以下，且所述二氧化硅粒子的含有比例为0.01质量％以上且小于20质量％。
研磨剂研磨方法

[发明专利]研磨剂及研磨方法-CN201280020737.9有效
发明人：吉田伊织;竹宫聪;朝长浩之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2012-05-28 - 公布日： 2014-01-08 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种用于以高研磨速度对碳化硅单晶基板等非氧化物单晶基板进行研磨、得到平滑的表面的研磨剂。该研磨剂的特征在于，含有氧化还原电位为0.5V以上的含过渡金属的氧化剂、氧化硅粒子和氧化铈粒子以及分散介质，所述氧化硅粒子的含量和所述氧化铈粒子的含量的质量比的值为0.2～20。
研磨剂研磨方法

[发明专利]非氧化物单晶基板的研磨方法-CN201280020186.6有效
发明人：吉田伊织;竹宫聪;朝长浩之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2012-04-19 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种用于以高研磨速度对碳化硅单晶基板等非氧化物单晶基板进行研磨、得到平滑且表面性状优异的高品质的表面的研磨方法。该研磨方法是向不包含磨粒的研磨垫供给研磨液、使非氧化物单晶基板的被研磨面和所述研磨垫接触、通过两者间的相对运动进行研磨的方法，其特征在于，所述研磨液含有氧化还原电势为0.5V以上的含过渡金属的氧化剂、和水，且不含磨粒。
氧化物单晶基板研磨方法

[发明专利]紫外线吸收膜形成用涂布液和紫外线吸收玻璃物品-CN201180023662.5无效
发明人：小平广和;朝长浩之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2011-05-13 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： C09D183/00 文献下载
摘要：本发明提供用于形成具有耐磨损性等机械耐久性、并充分确保无色透明性、且长时间曝光导致的紫外线吸收能力劣化少的紫外线吸收膜的涂布液，以及具备使用该涂布液形成的具有耐磨损性等机械耐久性、并充分确保无色透明性、且长时间曝光导致的紫外线吸收能力劣化少的紫外线吸收膜的紫外线吸收玻璃物品。含有由选自水解性硅化合物类中的至少1种构成的氧化硅系基体原料成分、紫外线吸收剂、第一质子的pKa为1.0～5.0的酸、和水的紫外线吸收膜形成用涂布液以及使用它得到的紫外线吸收玻璃物品。
紫外线吸收形成用涂布液玻璃物品

[发明专利]紫外线吸收膜形成用涂布液及紫外线吸收用玻璃物品-CN201080020925.2有效
发明人：小平広和;朝长浩之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2010-05-14 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： C09D183/06 文献下载
摘要：本发明提供用于形成具有耐磨损性等机械耐久性且长期使用而引起的紫外线吸收能力下降少的紫外线吸收膜的涂布液以及具备使用该涂布液形成的具有耐磨损性等机械耐久性且长期使用而引起的紫外线吸收能力下降少的紫外线吸收膜的紫外线吸收用玻璃物品。包含来源于含环氧基的有机氧基硅烷化合物的成分、来源于含羟基的二苯酮类化合物和含环氧基的有机氧基硅烷化合物的反应生成物的成分、来源于除所述两种有机氧基硅烷化合物以外的有机氧基硅烷化合物的成分的紫外线吸收膜形成用涂布液，以及使用该涂布液得到的紫外线吸收用玻璃物品。
紫外线吸收形成用涂布液玻璃物品

[发明专利]研磨浆料、其制造方法、研磨方法及磁盘用玻璃基板的制造方法-CN200980101730.8无效
发明人：酒井智弘;别府义久;朝长浩之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2009-09-16 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明提供在采用氧化铈结晶微粒或氧化铈-氧化锆固溶体结晶微粒时也可以高速地研磨玻璃基板主表面的研磨浆料的制造方法。一种pH为2～7的研磨浆料的制造方法，其特征在于，制成包含由氧化铈粒子或氧化铈-氧化锆固溶体粒子形成的研磨颗粒、由2-吡啶羧酸或谷氨酸形成的分散剂、水的研磨浆料原液，以研磨颗粒的微晶径的减少比例在10％以下的条件对该研磨浆料原液的研磨颗粒进行分散，然后加水，再添加与所述分散剂相同的材料。
研磨浆料制造方法磁盘玻璃

[发明专利]研磨玻璃衬底的方法和制造玻璃衬底的方法-CN200980000302.6无效
发明人：堀江满;朝长浩之;伊藤正文;下平宪昭 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2009-06-19 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明涉及研磨玻璃衬底的方法和制造玻璃衬底的方法，其减少了研磨步骤之后在玻璃衬底上产生的斑点。本发明的研磨玻璃衬底的方法包括在玻璃衬底的最终研磨步骤中注入二氧化硅研磨剂和高沸点溶剂。所述高沸点溶剂优选为分子量300以下且沸点150℃以上的溶剂。作为分子量300以下且沸点150℃以上的高沸点溶剂的实例，包括乙二醇、丙二醇和丙三醇。
研磨玻璃衬底方法制造

[发明专利]附有红外线阻挡层的玻璃板及其制造方法-CN200710006360.2无效
发明人：小平广和;朝长浩之;砂原一夫 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2007-01-31 - 公布日： 2008-08-06 - 主分类号： C03C17/23 文献下载
摘要：本发明提供了附有红外线阻挡层的玻璃板及其制造方法，该附有红外线阻挡层的玻璃板可见光透过性、电波透过性优良，红外线透射率低，并且可应用于汽车用窗玻璃板等要求机械耐久性的部位。其特征在于，在玻璃基板的表面上具有层厚为100～1500nm的红外线阻挡层，所述红外线阻挡层具有在含氧化硅和氧化钛的基底中分散有平均一次粒径在100nm以下的ITO微粒的结构。
附有红外线阻挡玻璃板及其制造方法

[发明专利]涂敷有红外屏蔽膜的玻璃板及其制造方法-CN200710096805.0无效
发明人：小平广和;朝长浩之;砂原一夫;山本雄一;小林大介 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2007-04-03 - 公布日： 2007-10-10 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：一种涂敷有红外屏蔽膜的玻璃板，其包括玻璃基板和形成于其上的红外屏蔽膜，所述红外屏蔽膜包含分散在基质中的平均初级粒径最大为100纳米的细小ITO微粒，所述基质包含氧化硅作为主要组分，以Si的量为基准计，基质还包含至少2原子％的氮，所述红外屏蔽膜的膜厚度为200－3,000纳米。
涂敷有红外屏蔽玻璃板及其制造方法

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