专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多层聚酰亚胺薄膜-CN202180060432.X在审
  • 秋永隆宏;斋藤隼平 - 株式会社钟化
  • 2021-06-18 - 2023-05-16 - B32B27/34
  • 多层聚酰亚胺薄膜(10)具有热塑性聚酰亚胺层(11)和在热塑性聚酰亚胺层(11)的至少单面配置的热塑性聚酰亚胺层(12)。热塑性聚酰亚胺层(11)中所含的热塑性聚酰亚胺具有四羧酸二酐残基和二胺残基。二胺残基包括具有联苯骨架的二胺残基、4,4’‑二氨基二苯基醚残基和对苯二胺残基。相对于构成热塑性聚酰亚胺的全部二胺残基,具有联苯骨架的二胺残基的含有率为20摩尔%以上且35摩尔%以下。
  • 多层聚酰亚胺薄膜
  • [发明专利]覆金属聚酰亚胺-CN200680028151.1有效
  • 金城永泰;菊池刚;藤本省吾 - 株式会社钟化
  • 2006-08-03 - 2008-07-30 - B32B15/088
  • 本发明的目的在于提供长期粘附可靠性、各种尺寸稳定性优异,且适用于COF等这样的高密度装配用线路板的覆金属聚酰亚胺膜。通过以下的覆金属聚酰亚胺膜可解决上述课题:其是在热塑性聚酰亚胺膜的单面或两面上不介由粘接剂而直接形成有金属层的覆金属聚酰亚胺膜,其中,该热塑性聚酰亚胺膜包含具有热塑性聚酰亚胺嵌段成分的热塑性聚酰亚胺树脂
  • 金属聚酰亚胺
  • [发明专利]具有高粘接性的聚酰亚胺薄膜的制造方法-CN201210097682.3有效
  • 金城永泰;菊池刚 - 株式会社钟化
  • 2005-09-20 - 2012-09-19 - C08G73/10
  • 具有前体溶液的高贮存稳定性并且在不进行高价的表面处理的情况下显现高粘接性的热塑性聚酰亚胺薄膜的制造方法。热塑性聚酰亚胺薄膜的制造方法,是由具有来自热塑性聚酰亚胺的嵌段成分的热塑性聚酰亚胺形成的聚酰亚胺薄膜的制造方法;包括:(A)在有机极性溶剂中形成末端具有氨基或酸酐基的预聚物的工序,(B)使用上述的预聚物及酸酐成分和二胺成分,使总工序中二胺成分和酸酐成分基本上为等摩尔,合成聚酰亚胺前体溶液的工序,(C)将包含前述聚酰亚胺前体溶液的制膜胶浆液流延,进行化学酰亚胺化和/或热酰亚胺化的工序;选择(A)工序中使用的二胺成分和酸酐成分以使将它们等摩尔反应而得到的聚酰亚胺热塑性聚酰亚胺,并且(B)工序中得到的聚酰亚胺前体为热塑性聚酰亚胺的前体。
  • 具有高粘接性聚酰亚胺薄膜制造方法
  • [发明专利]具有高粘接性的聚酰亚胺薄膜的制造方法-CN200580032118.1有效
  • 金城永泰;菊池刚 - 株式会社钟化
  • 2005-09-20 - 2007-08-29 - C08G73/10
  • 具有前体溶液的高贮存稳定性并且在不进行高价的表面处理的情况下显现高粘接性的热塑性聚酰亚胺薄膜的制造方法。热塑性聚酰亚胺薄膜的制造方法,是由具有来自热塑性聚酰亚胺的嵌段成分的热塑性聚酰亚胺形成的聚酰亚胺薄膜的制造方法;包括:(A)在有机极性溶剂中形成末端具有氨基或酸酐基的预聚物的工序,(B)使用上述的预聚物及酸酐成分和二胺成分,使总工序中二胺成分和酸酐成分基本上为等摩尔,合成聚酰亚胺前体溶液的工序,(C)将包含前述聚酰亚胺前体溶液的制膜胶浆液流延,进行化学酰亚胺化和/或热酰亚胺化的工序;选择(A)工序中使用的二胺成分和酸酐成分以使将它们等摩尔反应而得到的聚酰亚胺热塑性聚酰亚胺,并且(B)工序中得到的聚酰亚胺前体为热塑性聚酰亚胺的前体。
  • 具有高粘接性聚酰亚胺薄膜制造方法
  • [发明专利]树脂层叠体、层叠板、电路基板、电子元件及电子设备-CN202211666149.4在审
  • 池田知弥;王宏远 - 日铁化学材料株式会社
  • 2022-12-23 - 2023-06-30 - B32B27/28
  • 本发明提供一种兼具优异的耐热性、热膨胀系数所代表的尺寸稳定性、柔软性、接着性、高透明性并且特别是雾度的上升得到抑制的聚酰亚胺树脂的树脂层叠体、覆金属层叠板、电路基板、电子元件及电子设备。树脂层叠体的特征在于满足下述的a)~c):a)厚度为12μm以上且200μm以下的范围内;b)总光线透过率为80%以上;c)雾度为2%以下;树脂层叠体具有以其厚度方向的中心为基准在厚度方向上对称的层结构,包含包括热塑性聚酰亚胺的至少两个热塑性聚酰亚胺层及包括热塑性聚酰亚胺的至少三个热塑性聚酰亚胺层,热塑性聚酰亚胺层层叠在两个热塑性聚酰亚胺层之间,树脂层叠体的最外层包含玻璃化转变温度为250℃以上的热塑性聚酰亚胺层。
  • 树脂层叠路基电子元件电子设备
  • [发明专利]覆金属层叠板及电路基板-CN202010198978.9在审
  • 橘髙直树;安藤智典;安藤敏男 - 日铁化学材料株式会社
  • 2020-03-20 - 2020-10-09 - B32B27/28
  • 所述覆金属层叠板,其包括绝缘树脂层及层叠于所述绝缘树脂层的单面的金属层,且绝缘树脂层具有由热塑性聚酰亚胺构成的热塑性聚酰亚胺层、及与热塑性聚酰亚胺层的至少一面相接设置的由热塑性聚酰亚胺构成的热塑性聚酰亚胺热塑性聚酰亚胺层介隔存在于金属层与热塑性聚酰亚胺层之间,绝缘树脂层的厚度为2μm以上且15μm以下的范围内,并且厚度方向的双折射Δn(xy‑z)为0.080~0.140的范围内。
  • 金属层叠路基
  • [发明专利]电路基板-CN202210294957.6在审
  • 安藤智典;西山哲平 - 日铁化学材料株式会社
  • 2022-03-24 - 2022-09-30 - H05K1/02
  • 本发明提供一种具有介电特性与长期耐热粘接性优异的聚酰亚胺绝缘层的电路基板。电路基板(1A)包括配线层(10)以及聚酰亚胺绝缘层(100A),聚酰亚胺绝缘层(100A)具有与配线层(10)直接相接的热塑性聚酰亚胺层(120A)、以及与配线层(10)间接相接的热塑性聚酰亚胺层(聚酰亚胺绝缘层(100A)满足:(i)热膨胀系数为10ppm/K~30ppm/K的范围内;(ii)氧透过率为1.8×10‑12mol/(m2·s·Pa)以下;(iii)相对于由构成热塑性聚酰亚胺层及热塑性聚酰亚胺层的全部单体成分衍生的全部单体残基,具有联苯骨架的单体残基的比例为50mol%以上;(iv)热塑性聚酰亚胺层(110)的酰亚胺基浓度为33重量%以下。
  • 路基

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