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- [实用新型]液相沉积生产装置-CN01224833.9无效
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梁沐旺;蒋邦民;陈朝明;黄振荣;叶清发
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财团法人工业技术研究院
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2001-05-28
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2002-03-06
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C23C18/00
- 本实用新型系有关于一种液相沉积(LPD)生产装置,其主要构造包括一组饱和反应设备、一组稳流过饱和循环反应设备、一组溶液化学浓度自动监控设备,及一组废液回收处理设备。其中饱和反应设备包含一只混合槽、两只以上的原物料供给装置、搅拌器、过滤装置。稳流过饱和循环反应设备含一只过饱和反应槽、一只液位控制槽、两只以上的反应剂供给装置、搅拌器、过滤循环装置。由于本实用新型采用单槽密闭、双出入口暨两侧溢流式稳流循环设备进行低温液相沉积,可使饱和反应液过滤、循环、加热使用,达到良好的沉积薄膜可靠度。
- 沉积生产装置
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