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[实用新型]一种硅磷晶罐-CN202020757342.9有效
发明人：白如涛;韩涛;刘叶翠;任美玲 -专利权人：禹城茵瀚环保科技有限公司
申请日： 2020-05-10 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： C02F5/08 文献下载
摘要：本实用新型提供一种硅磷晶罐，涉及硅磷晶罐技术领域。该硅磷晶罐，包括罐体，罐体顶部设有活动盖，罐体内侧底部设有第一过滤桶，第一过滤桶顶部固定连接有第二过滤桶，第二过滤桶顶部固定连接有第三过滤桶，第三过滤桶顶部与罐体滑动连接，罐体中部外侧固定连接有环形板，该硅磷晶罐通过设置升降机构来拉动罐体内侧的第三过滤桶将其取出，避免了在对硅磷晶球体进行清洗时需要工人将手伸入罐体中将滤网取出而导致存在一定安全隐患，提高了该硅磷晶罐使用的安全性，操作更加方便快捷，提高了该硅磷晶罐的实用性，同时避免了硅磷晶球体的体积缩小从滤网中直接漏出而对出水口产生堵塞难以清理。
一种硅磷晶罐

[实用新型]晶圆旋转清洗装置-CN202021686394.8有效
发明人：李佳森;裴文龙;陈晨;张少阳;谷晓东 -专利权人：苏州芯矽电子科技有限公司
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本实用新型揭示了一种晶圆旋转清洗装置，包括基座以及开设在其上的容置空间，所述容置空间内配置有用以容置晶圆的承载组件，所述承载组件的下方设有枢轴设置在所述基座上用以驱动所述晶圆转动和震荡的转辊组件，所述转辊组件的外表面承靠所述晶圆的边缘本实用新型的有益效果主要体现在：驱动电机依次通过驱动齿轮、主动齿轮和从动齿轮驱动转辊转动，从而通过转辊带动晶圆旋转清洗的效果，该装置结构精巧，装配要求低，能够降低晶圆转速防止容置空间内的液体因摩擦而升温另外，转辊上开设有的缺口，可增加晶圆震荡的幅度，便于晶圆表面附着的污染物和细小微粒被强制除去，提高良品率。
旋转清洗装置

[实用新型]一种晶舟盒料盒缓冲固定结构-CN202021960665.4有效
发明人：付波 -专利权人：上海赛瑾精密科技有限公司
申请日： 2020-09-08 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： B65D25/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶舟盒料盒缓冲固定结构，包括外壳、压紧机构、晶舟盒和底座，所述晶舟盒的底部固定连接有底座，所述晶舟盒的上方套接连接有外壳，所述外壳的内壁的顶部固定连接有压紧机构，所述压紧机构包括固定架本实用新型通过在晶舟盒的表面套接连接有带压紧机构的外壳，方便在纵向方向对晶舟盒进行压紧、固定，且能够在运输晶舟盒的过程中起到缓冲的作用，减小晶舟盒在运输中产生的晃动。
一种晶舟盒料盒缓冲固定结构

[实用新型]晶圆电镀设备用搅拌装置-CN202023220598.5有效
发明人：黄雷 -专利权人：昆山成功环保科技有限公司
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： C25D21/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶圆电镀设备用搅拌装置，晶圆电镀设备包括电镀槽、供电电源、电镀阳极、遮蔽板和晶圆挂具，电镀阳极、晶圆挂具以及遮蔽板三者相平行地设置于电镀槽内，搅拌装置包括搅拌板、导引轮、行进轨道和驱动电机，搅拌板设置于遮蔽板与晶圆挂具之间且搅拌板与待加工的晶圆的电镀面相平行，导引轮可转动地与搅拌板相连，导引轮设置在行进轨道中并在驱动电机带动下沿行进轨道移动，其中，行进轨道为具有至少一个波峰和至少一个波谷的曲线型轨道本申请通过搅拌板结合曲线型轨道的设计，使得搅拌板在驱动电机的作用下做不规则的运动，使得晶圆电镀面处的电镀液浓度更为均匀，从而使得晶圆电镀面厚度一致，保证电镀效果，提高产品良品率。
电镀备用搅拌装置

[实用新型]一种晶圆芯片产品测试编带设备-CN202120434811.8有效
发明人：李辉;王体;李俊强 -专利权人：深圳市诺泰芯装备有限公司
申请日： 2021-03-01 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆芯片产品测试编带设备，包括用于为整个设备提供电源动力的设备电箱机柜，所述设备电箱机柜包括工作台，龙门立臂机构，龙门立臂机构的底端螺栓连接在工作台的两侧表面，用于固定其底端活动设置的真空转塔模组，晶圆盘升降机构，所述晶圆盘升降机构设置在工作台表面远离龙门立臂机构的一侧。本实用新型通过晶圆上料系统、真空转塔系统和关芯片处理系统进行合理布局组成，通过其之间的密切配合，可以使晶圆芯片产品在同一台设备上进行高速、精准、可靠的空间位置转移，实现了对晶圆芯片产品快速从晶圆蓝膜中拾取和测试，避免在过程中对晶圆芯片产品造成暗裂、划伤、损伤等问题，节省人力，且提高了生产效率。
一种芯片产品测试设备

[实用新型]一种用于吸附易碎晶圆的旋转卡盘-CN202120294033.7有效
发明人：钟敏 -专利权人：上海图双精密装备有限公司
申请日： 2021-02-02 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于吸附易碎晶圆的旋转卡盘，涉及到半导体技术领域，包括卡盘主体、负压装置、橡胶圈、激光探头、旋转机构、氮气喷送模组和主控制器，其中，卡盘主体的中部开设有晶圆卡槽，晶圆卡槽的下侧内壁中部设有旋转机构，晶圆卡槽的下侧内壁外缘开设有环形凹槽，橡胶圈设于环形凹槽内，晶圆卡槽的内周壁的下侧开设有安装槽，激光探头安装于安装槽内，安装槽内还设有氮气喷送模组，卡盘主体的内部设有负压装置和主控制器，晶圆卡槽的下侧内壁上开设有若干第一吸附孔其能够吸附翘曲变形的晶圆，也能够防止晶圆出现碎裂情况。
一种用于吸附易碎旋转卡盘

[实用新型]真空吸附式环形末端夹持器-CN202023091696.3有效
发明人：何瑞;郭梅;刘丹;韩浚源 -专利权人：昀智科技（北京）有限责任公司
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： B25J15/06 文献下载
摘要：通过实施本实用新型的技术方案，环形吸盘通过三个触盘与晶圆片的边缘区域接触，形成三点的稳定接触，可以有效提高吸盘对晶圆片整个表面的支撑，避免晶圆片的变形，提高夹持晶圆片的稳定性；三个沟槽通过各自的抽气孔与气道连通，共同使用相同的气源，形成稳定均匀的吸附力从晶圆片的边缘区域来吸附晶圆；在环形吸盘上还设置有限位块，在搬运过程中因事故或意外导致晶圆片与吸盘松脱时，对晶圆片起到限位和保护的作用。
真空吸附环形末端夹持

[实用新型]一种基于APCVD技术的薄膜沉积装置-CN202023214270.2有效
发明人：刘鹏;徐文立;余圣杰;潘建栋 -专利权人：宁波恒普真空科技股份有限公司
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种基于APCVD技术的薄膜沉积装置，涉及常压化学沉积技术领域，包括加热体组件、进气箱、扩散头、真空系统和排气机构；加热体组件设于晶圆上方，扩散头设于晶圆下方，排气机构设于扩散头下方；进气箱出气口与扩散头进气口相连通；无需大量惰性气体作屏障，可节省保护气体；通过真空吸附晶圆背面，将晶圆因成膜温度和膜应力而引发的弯曲矫正，可防止背面成膜，并提高薄膜均匀性；晶圆成膜面向下，杂质颗粒因重力下落后被气流带走，不会掉落在晶圆上；沉积范围较大，沉积面一次性完成薄膜沉积，沉积面内薄膜均匀性较好；成膜后，膜厚均匀性的实际值在±2％以下；加热体组件可带动晶圆摆动，可使得晶圆沉积面上薄膜的均匀性进一步改善。
一种基于 apcvd 技术薄膜沉积装置

[实用新型]一种晶圆的去胶清洗装置-CN202022865762.1有效
发明人：冯嘉荔 -专利权人：冯嘉荔
申请日： 2020-12-03 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型为一种晶圆的去胶清洗装置，包括箱体，所述箱体内设置有空腔，所述空腔内设置有工作台，所述工作台上设置有支架，所述支架上设置有固定有震动器，所述箱体上方固定有储水箱，所述储水箱通过连接管与所述喷头连接，所述箱体侧面固定有鼓风机，所述鼓风机通过通风孔与所述空腔连接，所述箱体正面固定有控制器，所述控制器与所述鼓风机连接，所述控制器与所述喷头连接，所述控制器与所述震动器连接，该晶圆的去胶清洗装置，晶圆被放置在密封的环境中清洗，放置晶圆受到污染，在对晶圆清洗之后通过震动器震动，使放置台中的晶圆表面的清洗液从晶圆上掉落并从沥水孔中流出，通过鼓风器和加热片配合使用对晶圆进行烘干。
一种清洗装置

[实用新型]一种固晶机邦头组件-CN202121167087.3有效
发明人：汤志鹏;殷海涛 -专利权人：苏州聚进顺自动化科技有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： H01L33/62 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种固晶机邦头组件，包括：固晶机取晶臂，控制固晶机取晶臂竖直运动的第一驱动控制装置以及控制固晶机取晶臂周向旋转的第二驱动控制装置，所述第一驱动控制装置包括：升降装置以及受升降装置驱动的升降轴通过本实用新型的公开，简化了邦头驱动控制装置的结构，降低了成本，提高了固晶机运行的稳定性。
一种固晶机邦头组件

[实用新型]钛白粉水解工序全自动控制装置-CN202120294801.9有效
发明人：安宇华 -专利权人：内蒙古国城资源综合利用有限公司
申请日： 2021-02-02 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： C01G23/053 文献下载
摘要：本实用新型公开了钛白粉水解工序全自动控制装置，包括：晶种钛液预热槽、浓碱计量槽、晶种制备槽、浓钛液预热槽和常压水解槽，所述晶种钛液预热槽通过输液管与晶种制备槽进行贯通连接，所述晶种钛液预热槽与晶种制备槽之间的输液管螺纹安装有调节阀本实用新型通过在晶种钛液预热槽、浓钛液预热槽和常压水解槽内分别设有设有液位计和温度计，能够实时对反应的液体进行液位和温度观测，可以控制各个反应段达到良好的预热效果，从而对钛液水解工序全部实现自动，可以提高晶种钛液
钛白粉水解工序全自动控制装置

[实用新型]晶棒防坠装置和晶体生长设备-CN202023342674.X有效
发明人：苗江涛;汪佳;李楚克 -专利权人：徐州晶睿半导体装备科技有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： C30B15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶棒防坠装置和晶体生长设备，晶棒防坠装置适于设在晶体生长装置的副室的底部，以阻挡晶棒坠落，晶棒防坠装置包括：防护盘和连接件。根据本实用新型实施例的晶棒防坠装置，在副室旋位过程中，该晶棒防坠装置可以阻挡晶棒坠落，方便取棒过程中不干涉、不影响原有取棒驱动的功能，并且该晶棒防坠装置可反复使用。
晶棒防坠装置晶体生长设备

[实用新型]一种新型无机晶须干法改性装置-CN202121308828.5有效
发明人：罗新峰 -专利权人：上海峰竺复合新材料科技有限公司
申请日： 2021-06-11 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： B01J19/26 文献下载
摘要：本实用新型属于晶须改性技术领域，尤其为一种新型无机晶须干法改性装置，包括改性筒，改性筒的上表面圆心位置固定设置有搅拌电动机，本实用新型的无机晶须干法改性装置采用改性剂以喷淋和低速搅拌方式进行分散，均匀包覆在无机晶须表面然后改性剂在反应温度下进行反应与无机晶须以化学反应和物流吸附的形式结合；本实用新型的无机晶须干法改性装置可控制改性剂温度达到最佳反应活性温度。使用本装置，对碱式硫酸镁晶须用重量比1％的KH‑550改性，活化指数由一般粉体干法改性装置的75％提升至89％；本实用新型的无机晶须干法改性装置出料口采用气动泵辅助出料，对比一般高混机出料口出料速度更快
一种新型无机晶须干法改性装置

[实用新型]一种用于微晶玉石加工用抛光装置-CN202120005382.2有效
发明人：徐海潮;熊德华;程金树;谢永开;李伟 -专利权人：安徽火凤凰新材料科技有限公司
申请日： 2021-01-04 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及微晶玉石加工技术领域，公开了一种用于微晶玉石加工用抛光装置，为了提高微晶玉石的抛光效率，所述输送架的内侧位于前后两端位置处对称连接有输送丝杆，所述输送丝杆的外侧对称套接有传动件，所述输送丝杆通过传动件与夹固机构连接本实用新型通过夹固机构对微晶玉石的夹固定位，在输送丝杆的循环输送下，能够对不同大小的微晶玉石进行主动定位输送抛光工作，进而提高抛光装置的灵活使用性，降低工作人员的操作强度，且在抛光过程中，通过抛光机构对微晶玉石的对称式抛光工作，能够提高微晶玉石的抛光能力，同步的加强微晶玉石的抛光效率。
一种用于玉石工用抛光装置

[实用新型]一种洁净室专用晶圆自动上下料设备-CN202021659040.4有效
发明人：龚昱;王伟忠;李耀孟;赵超;刘红军 -专利权人：华芯（嘉兴）智能装备有限公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型公开一种洁净室专用晶圆自动上下料设备，晶圆自动上下料设备包括上料机台，所述上料机台一侧设有缓存机台，缓存机台一侧设有下料机台，下料机台与上料机台左右对称，金属烤架前方设有RFID红外射频设备，安装框架一侧设有二维码读头，缓存组件包括镜像分布的晶圆缓存提升机构，晶圆缓存提升机构一侧设有入口导向装置，晶圆缓存提升机构之间设有皮带输送机构，皮带输送机构内设有晶圆定位对中机构，吸盘型真空抓手一端设有吸盘组件，晶圆预对准器上同样设有轴向分布的吸盘组件。本实用新型采用特殊的真空吸盘，预对准器上同样设有真空吸盘，设有多种工作模式，兼容多种晶圆料盒，能自动识别放置料盒种类，减少了人工误操作带来的风险。
一种洁净室专用自动上下设备