专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种红外碳硫分析仪测定含量的方法-CN202310189942.8在审
  • 沈云峰;沈永水 - 无锡杰博仪器科技有限公司
  • 2023-03-02 - 2023-06-30 - G01N21/3563
  • 本发明涉及含量检测技术领域,具体提供了一种红外碳硫分析仪测定含量的方法,所述方法包括坩埚预处理、准备测定用备品和分析测定步骤,具体包括:1)坩埚预处理:S1、将陶瓷坩埚放入马弗炉灼烧;S2、取出陶瓷坩埚,待冷却后置于放入变色硅胶的干燥器;S3、陶瓷坩埚投入使用;2)准备测定用备品:试样、低标样;3)分析含量;本方法中选择了最佳助熔剂,采用钢中标准样品作为低标样进行标准化校正,配合钨助熔剂使用,解决了快速测定含量的问题,本方法分析步骤简便、分析速度快,结果准确度高等特点,为的冶炼、应用及质量控制提供可靠的技术保障,有效配合了科研及专项生产工作的进行。
  • 一种红外分析测定纯铜中硫含量方法
  • [发明专利]一种高元素分析方法-CN201410037569.5有效
  • 黄桂华;任发强 - 上海新阳半导体材料股份有限公司
  • 2014-01-26 - 2014-04-16 - G01N5/00
  • 本发明公开了一种高元素分析方法,该方法包含:步骤1,对高样品进行前处理;步骤2,上机测试:记录所称取的高样品质量m和所用助溶剂的质量m1,包含样品与助溶剂的总质量为>0及助溶剂的碳含量C1含量C1;步骤3,样品的碳含量C按公式(1)计算:其中,样品含量C按公式(2)计算:从而完成碳元素分析。本发明提供的分析方法所用的仪器常规普通,检测成本低,周期短,能够准确检测出低含量(如小于1μg/g)的高的碳含量,能够很好地控制高的质量,可以满足日益发展的半导体产业需求。
  • 一种高纯铜中碳硫元素分析方法
  • [发明专利]一种硫酸微量铁的检测方法-CN201110146895.6无效
  • 廖悦鉴;张素娟;吴阳东 - 广州科城环保科技有限公司
  • 2011-06-02 - 2012-01-18 - G01N21/78
  • 本发明公开了一种硫酸微量铁的检测方法,是采用氰酸铵分光光度法,用不含铁的优级硫酸进行扣除本底,以氰酸铵作为显色剂测定铁含量。本发明的检测方法把硫酸的铁离子氧化成三价铁,将溶液调至酸性时用氰酸铵作为显色剂,使得Fe3+能够完全与氰酸铵络合,测定结果更为准确;并且用等量的优级硫酸作为样品扣除本底离子的颜色进行测定,消除了因硫酸自身带有蓝色而对样品溶液光吸收产生的误差,增加了检测的精确度;此外本发明的检测方法无需沉淀、过滤分离再溶解测定等步骤,大大降低了因步骤繁琐而产生的误差,使检测结果更为可靠。
  • 一种硫酸铜微量检测方法
  • [发明专利]一种低银低超高提纯真空熔炼工艺-CN202210931578.3在审
  • 刘佩瀛;陈志阳;程昌家 - 江苏鑫瑞崚新材料科技有限公司
  • 2022-08-04 - 2022-11-22 - C22B15/00
  • 本发明公开了一种低银低超高提纯真空熔炼工艺,具体包括以下步骤:S1、废杂的处理:预先去除废杂的表面锈蚀以及进行清洗处理,然后将预处理后的废杂投入破碎机,通过破碎机将废杂破碎至直径≤150mm,使用筛分机对破碎后的物料进行筛分,筛下物料等待备用,筛上物料则重新投入破碎机中进行破碎,直至通过筛分即可;S2、物料热处理:将步骤S1筛分后的物料放入烘烤机内部进行热处理,本发明涉及提纯技术领域该低银低超高提纯真空熔炼工艺,采用真空熔炼提纯工艺能够得到纯度≥99.9995%且晶粒均匀、晶粒取向一致的超高,克服了传统工艺融化效率低以及纯度不高的问题,工艺流程短,生产成本低。
  • 一种低银低硫超高纯提纯真空熔炼工艺
  • [发明专利]一种低银低超高提纯的电解方法-CN202210960644.X在审
  • 杜正强;陈梦婷;邱佩 - 江苏鑫瑞崚新材料科技有限公司
  • 2022-08-11 - 2022-10-18 - C25C1/12
  • 本发明公开了一种低银低超高提纯的电解方法,具体包括以下步骤:S1、电解液的配置;S2、阴阳极的布置;S3、电解操作;S4、电解液的净化处理;S5、的后期处理;S6、阳极泥的处理;本发明涉及提纯技术领域该低银低超高提纯的电解方法,通过可以有效除去电解液的杂质,提高电解液的温度,有利于降低电解液的粘度,使飘浮的阳极泥容易沉降,增加各种离子的扩散速度,减少电解液电阻,从而提高电解液的电导率、降低电解槽的电压降,以减少电解生产的电能消耗,对电解液进行净化和调整,可以维持电解液的、酸含量及杂质浓度都在规定的范围内,以保证电解过程的正常进行。
  • 一种低银低硫超高纯提纯电解方法
  • [发明专利]一种绑定单靶溅射制备Cu3-CN201810958677.4有效
  • 韦雷凯;沈韬;朱艳 - 昆明理工大学
  • 2018-08-22 - 2020-07-31 - C23C14/35
  • 本发明将预处理衬底放置到磁控溅射腔室内的样品架上,将绑定靶的三元靶材安装于磁控溅射腔室内,调整绑定靶的三元靶材和溅射腔体内基底之间的靶基距为80~90mm;将溅射室内本底真空度抽至2.0/base:Sup>Pa,设定工作真空度为0.4~0.5Pa,衬底温度为80~320℃、样品旋转速度为10~20r/min,工艺气体的流量为20~30sccm;预溅射除去靶材表面杂质;在衬底上采用绑定靶的三元靶直流溅射沉积(Cu3SnS4)前驱体层薄膜,其中溅射功率为30~70w,Cu3SnS4前驱体层薄膜厚度为790~810nm;在氮气氛围下,将(Cu3SnS4
  • 一种定单溅射制备cubasesub

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