专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]冷场等离子体放电辅助高能磨粉体的应用方法及装置-CN201410815093.3有效
  • 朱敏;曾美琴;鲁忠臣;欧阳柳章;王辉;胡仁宗 - 华南理工大学
  • 2014-12-24 - 2015-04-29 - B02C17/00
  • 本发明提供了一种冷场等离子体放电辅助高能磨粉体的应用方法和应用该冷场等离子体高能磨粉体方法的等离子辅助高能磨装置。本发明利用介质阻挡放电产生等离子体,将介质阻挡放电电极棒引入到高速振动的磨罐中,一方面要求电极棒外层的固体绝缘介质能够同时承受高压放电和磨的机械冲击破坏,另一方面要求高速震动的磨装置可以使粉末处理效果均匀,它基于普通磨技术的基础上,将放电空间气压设置为102~106Pa左右的气压下的非热平衡放电状态,通过引入放电等离子体对所处理的粉体输入另一种有效能量,促使待处理粉体在机械应力效应和外加电场的热效应共同作用下,加速粉体的细化和促进合金进程,从而极大提高了球磨机的加工效率和作用效果。
  • 冷场等离子体放电辅助高能磨粉应用方法装置
  • [发明专利]一种基于等离子场的磨装置及方法-CN202011078423.7在审
  • 陈波 - 深圳市科力纳米工程设备有限公司
  • 2020-10-10 - 2021-02-12 - B02C17/10
  • 本发明适用于磨技术领域。本发明公开一种基于等离子场的磨装置及方法,其中基于等离子场的磨装置包括密封状态的研磨筒,该研磨筒设有分离器和与驱动轴连接的分散器,所述研磨筒设有能使研磨腔产生等离子场的等离子体发生器,该等离子体发生器包括DBD等离子体电源,所述等离子场位于DBD等离子体电源的阳极和阴极之间。研磨时分散装置,使物料与研磨及物料与物料接触碰撞,使物料碎裂或表面形成不规则结构,当表面不规则的物料等处于由气体产生等离子体形成等离子场时,高速运动的物料在等离子场内,物料既与研磨介质间有机械作用力,又能充分与等离子体间产生作用,形成复合作用,从而大幅度提高研磨的效率。
  • 一种基于等离子装置方法
  • [发明专利]一种三电极放电等离子体辅助磨罐-CN202011177316.X在审
  • 朱敏;刘员环;鲁忠臣;高雪;曾美琴;胡仁宗 - 华南理工大学
  • 2020-10-29 - 2021-03-12 - B02C19/18
  • 本发明公开了一种三电极放电等离子体辅助磨罐,包括连接筒体、后盖板、前盖板和并联的三个电极棒。所述电极棒与后盖板内圆孔采用过渡配合联接,电极棒的导电电芯同时接入等离子体电源正极,整个金属筒体接入等离子体电源负极,不同电极棒的放电相互独立。该装置简单实用,在等离子体电源的工作电压范围内,可通过调节功率轻松实现局部高强度放电,极大提高球磨罐中气体离率和磨能效;同时多电极放电还可以有效预防在磨过程中因单个电极棒损坏而出现的放电中断现象,显著降低等离子体辅助球磨机的故障率,推动其在实际生产中的应用。
  • 一种电极放电等离子体辅助球磨罐
  • [发明专利]一种延长等离子射频炬使用寿命的方法及射频炬-CN202210324761.7有效
  • 罗天勇;张茂原;廖颖晴 - 电子科技大学
  • 2022-03-29 - 2023-03-24 - H05H1/00
  • 本发明公开了一种延长等离子射频炬使用寿命的方法及射频炬,属于等离子技术领域,在射频炬的真空腔(1)外设置约束管(2),在所述约束管(2)中设置用于激励真空腔中工作气体电离的加热感应线圈(6),所述加热感应线圈(61)引进射频电源并在另一端通过引出线(62)引出;调整所述引进线(61)的进线方式以及所述引出线(62)的走线方向,降低真空腔(1)中沿径向的感生电场的强度,消除感生电磁场在径向方向的扰乱,降低了等离子点火过程中离子沿径向轰击炬内壁的概率,有效减弱等离子体对约束管管壁的打击力,提高了射频等离子炬的使用寿命,同时改变约束管的结构和材质,进一步延长装置的寿命。
  • 一种延长等离子射频使用寿命方法
  • [发明专利]一种药物涂层囊导管-CN201911314081.1在审
  • 张信华;刘威;游帆;田丰源;王雨晗 - 常州工学院
  • 2019-12-19 - 2020-04-28 - A61M25/10
  • 本发明提供一种药物涂层囊导管,涉及医疗器械技术领域,所述药物涂层囊导管包括囊主体、导管以及低温等离子射流设备,其中,所述囊主体的外壁上负载有药物涂层;所述囊主体的尾部与所述导管的前端相连;所述低温等离子射流设备通过放电产生低温等离子射流,并将所述低温等离子射流喷射于所述囊主体的外壁上。本发明提供的药物涂层囊导管,通过低温等离子射流设备放电产生低温等离子射流,并进一步将产生的低温等离子射流喷射于囊主体的外壁上,一方面增加病变位置释放的药物量,提高治疗效果,另一方面还可减少药物在血管中的残留,避免在血管远端产生堵塞,降低机体的代谢负担,进而提高药物涂层囊导管使用的安全性。
  • 一种药物涂层导管

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