专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种化工研磨设备-CN201721006655.5有效
  • 杜辉;张彦青;王广伟;王永;王利军;刘永昌;吴庆军;王文霞;安玉斌;阳丽 - 杜辉
  • 2017-08-13 - 2018-04-27 - B02C4/02
  • 本实用新型涉及一种化工研磨设备,尤其涉及一种化工研磨设备。本实用新型要解决的技术问题是提供一种研磨彻底和能防止粘内壁的现象发生的化工研磨设备。为了解决上述技术问题,本实用新型提供了这样一种化工研磨设备,包括有研磨箱等;研磨箱左右两壁最上部均开有第一通孔,研磨箱顶部连接有驱动机构,研磨箱内连接有研磨机构,研磨机构与驱动机构连接。本实用新型通过设置有驱动机构和研磨机构,来实现完成对倒入进研磨箱内的原料进行研磨的目的,为了在研磨的过程中,可以更好的对原料全部研磨完成再进行收集,通过将挂钩挂在挂环上,来对挡板进行固定。
  • 一种化工研磨设备
  • [实用新型]废旧轮胎修补研磨平台-CN201220247558.6有效
  • 许吉科 - 安进轮胎再生资源(上海)有限公司
  • 2012-05-29 - 2013-01-09 - B24B5/50
  • 本实用新型废旧轮胎修补研磨平台,包括:电气箱,在所述电气箱内设有传动设备;支撑平台,所述支撑平台通过所述传动设备与所述电气箱连接;研磨设备,所述研磨设备与所述支撑平台连接。所述研磨设备包括:支架,所述支架的一端与所述支撑平台连接;研磨电机,所述研磨电机安装在所述支架上;砂轮,所述砂轮安装在所述支架上。所述废旧轮胎修补研磨平台还进一步包括一控制设备,所述控制设备与所述电气箱及所述研磨设备连接。本实用新型废旧轮胎修补研磨平台结构简单、安全性好、效率高。
  • 废旧轮胎修补研磨平台
  • [发明专利]化学机械研磨的控制方法、设备和存储介质-CN202310354154.X在审
  • 张佳豪;李松 - 华虹半导体(无锡)有限公司
  • 2023-04-04 - 2023-08-08 - B24B37/10
  • 本申请公开了一种化学机械研磨的控制方法、设备和存储介质,该方法包括:获取本次研磨前晶圆的第一厚度;根据第一厚度和化学机械研磨设备研磨垫的生命周期计算得到本次研磨研磨量,该生命周期用于指示研磨垫的使用时间;根据本次研磨研磨量计算得到本次研磨研磨时间。本申请在化学机械研磨工艺中,通过获取本次研磨前晶圆的第一厚度,根据第一厚度、化学机械研磨设备研磨垫的生命周期计算得到本次研磨研磨量,根据本次研磨研磨量计算得到本次研磨研磨时间,由于在计算本次研磨研磨量的过程中考虑了研磨垫的生命周期对研磨速率的影响,因此得到的研磨量更为准确,降低了过研磨现象,在一定程度上提高了生产效率和产品良率。
  • 化学机械研磨控制方法设备存储介质
  • [发明专利]一种陶瓷粉体生产加工工艺-CN201810361420.0有效
  • 何明松;李西 - 高安美迪陶瓷有限公司
  • 2018-04-20 - 2020-07-21 - B02C21/00
  • 本发明涉及陶瓷加工领域,具体的说是一种陶瓷粉体生产加工工艺,该生产加工工艺包括以下步骤:S1,将陶瓷放入篮筐中,然后将装有陶瓷的篮筐放入抛丸机中;S2,抛丸机对篮筐中的陶瓷进行初步破碎;S3,将篮筐中的陶瓷放入研磨设备中进行破碎,破碎后的陶瓷进入研磨设备中的研磨机构进行研磨,将从篮筐中掉落下来的陶瓷直接放入研磨设备中的研磨机构中进行研磨;S4,将陶瓷粉进行筛分。本工艺首先利用抛丸机对陶瓷进行粗破碎,以减小研磨设备的磨损,然后将破碎后的陶瓷放入研磨设备中进行研磨,最后对研磨后的陶瓷粉进行筛分,该种生产工艺采用的研磨设备能够充分实现对陶瓷粉的研磨,可大大降低陶瓷粉的生产周期
  • 一种陶瓷生产加工工艺
  • [发明专利]基于齿轮变速原理实现充分研磨的化工研磨设备-CN202011162693.6在审
  • 张红社 - 张红社
  • 2020-10-27 - 2021-03-16 - B02C19/22
  • 本发明涉及化工设备技术领域,提供基于齿轮变速原理实现充分研磨的化工研磨设备,包括化工研磨设备,所述化工研磨设备的顶端固定连接有入料架,所述化工研磨设备的中央通过转速调节器活动连接有重物粉碎架,所述化工研磨设备的左右两侧均固定连接有固定架,该基于齿轮变速原理实现充分研磨的化工研磨设备,通过将化工材料从化工研磨设备的顶端通入至入料架中,材料下压压板,使压板下压其底端的开关,则粉碎转轮转动,对化工材料进行研磨,根据离心力的公式,相同加速度,
  • 基于齿轮变速原理实现充分研磨化工设备
  • [实用新型]一种高效稳定三辊研磨-CN202123324158.9有效
  • 许杰;刘欢欢;赵益满;凌树勋 - 惠州市百时达化工有限公司
  • 2021-12-24 - 2022-09-20 - B02C4/02
  • 本实用新型公开了一种高效稳定三辊研磨机,包括设备主体,设置于所述设备主体上端的第一研磨辊,第二研磨辊,第三研磨辊,所述第三研磨辊的外部设置有出料槽,可移动的挡板,设置于所述第一研磨辊与所述第二研磨辊的上方,连接板连接于所述挡板背离所述设备主体内壁的一侧,且所述连接板通过推动装置与所述设备主体的内壁相连接。该装置对于易分散的油墨可以通过调节液压杆使两组挡板向中间移动,使油墨能够更集中地处于第一研磨辊与第二研磨辊之间,增加研磨的效率,避免由于研磨辊的移动导致挡板与研磨辊产生摩擦,影响整个设备的正常工作,同时相较于现有的装置,调节的速度快,不会耽误油墨的研磨时间。
  • 一种高效稳定研磨机
  • [发明专利]化学机械研磨设备及使用该化学机械研磨设备研磨方法-CN201010228224.X无效
  • 江志琴;李芳 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2010-07-08 - 2012-01-11 - B24B37/00
  • 本发明公开了一种化学机械研磨设备(CMP)及使用该CMP的研磨方法,其中CMP包括:用于固定待研磨的晶片的研磨头;旋转台和固定在所述旋转台表面的研磨垫,所述旋转台旋转研磨垫使得研磨垫与研磨头之间相对运动,以对晶片进行研磨;用于供给磨料至研磨垫上的磨料供给装置;用于调节供给至研磨垫上的磨料的分布的研磨垫整理器;以及用于检测研磨垫整理器与研磨头之间的距离的检测器,以防止研磨垫整理器与研磨头接触。本发明中的化学机械研磨设备在晶片研磨过程中能够降低研磨垫整理器和研磨头发生碰撞的几率,提高研磨头及研磨垫整理器的使用寿命,同时提高了CMP设备的使用寿命。
  • 化学机械研磨设备使用方法
  • [实用新型]一种酶制剂生产的研磨装置-CN202120839171.9有效
  • 杨洵;郑星 - 金堂佰信维科技有限公司
  • 2021-04-22 - 2021-11-16 - B02C15/00
  • 本实用新型涉及酶制剂生产加工设备技术领域,提供了一种酶制剂生产的研磨装置,包括研磨箱体,该研磨箱体内上部固定连接有研磨盒体,该研磨盒体内设置有研磨杵,该研磨杵和该研磨盒体之间留有间隙,该研磨杵转动连接于该研磨箱体的内顶壁,还包括若干研磨球,若干该研磨球相抵于该研磨盒体的内侧壁和该研磨杵的外侧壁之间,若干该研磨球沿该研磨杵的外侧壁周向滚动。本实用新型旨在解决现有的研磨设备捣碎质量不高且不够均匀,不能将原材料被全部均匀捣碎,影响后续的工艺流程加工。本实用新型设计合理,对现有的研磨设备结构进行改进,利用能够滚动的研磨球对原材料进行充分研磨,提高研磨质量和使研磨更加均匀。
  • 一种酶制剂生产研磨装置

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