专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有改进温度范围的模拟存储器-CN201780052709.8有效
  • 小约瑟夫·T·埃文斯;卡尔文·B·沃德 - 拉迪安特技术公司
  • 2017-08-28 - 2023-01-17 - G11C11/22
  • 公开了一种存储器以及一种用于操作存储器的方法。所述存储器包括具有电容器的存储器单元,所述电容器由最大剩余电荷Q最大来表征。写入电路接收具有两个以上状态的数据值以存储在所述电容器中。所述写入电路测量所述电容器的Q最大,确定作为要存储在所述电容器中的所测量Q最大的分数的电荷,所述分数是由所述数据值确定的所述写入电路使得等于所述分数乘以Q最大的电荷存储在所述电容器中。读取电路通过以下方式来确定存储在所述电容器中的值:测量存储在所述电容器中的电荷;测量所述电容器的Q最大;并且根据所测量电荷和所测量Q
  • 具有改进温度范围模拟存储器
  • [发明专利]一种薄膜材料I-V特性的测量方法及测量装置-CN200610024706.7有效
  • 曹菲;董显林;王根水;李建潼 - 中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 2006-03-15 - 2006-08-16 - G01R31/00
  • 本发明提供一种薄膜材料I-V特性的测量方法及装置,属于薄膜材料测试领域。本发明的装置包括样品台(1)、探针台(2)、静电计(3)、屏蔽罩(4)、计算机及自动控制和数据处理软件(5),本发明的测量方法采用自编软件实现自动控制测量以及数据采集和处理,测得的薄膜材料在不同电压下的漏电流值更接近于样品的真实漏电流值本发明综合考虑了薄膜材料的自发极化电流、介质极化电流、漏电流以及老化电流对I-V特性测量的影响,设计了一套简便易行的、能够准确测量薄膜材料I-V特性的方法及装置,既可以适用于SrTiO3等室温为顺相的薄膜材料,也可以适用于PZT、SBT等室温为相的薄膜材料。
  • 一种薄膜材料特性测量方法测量装置
  • [发明专利]一种绝缘/漏电薄膜畴反转电流测量与转换为滞回线的方法-CN201110203557.1无效
  • 江安全;刘骁兵 - 复旦大学
  • 2011-07-20 - 2011-12-14 - G01R19/00
  • 本发明属于固态电介质性能测试技术领域,具体为一种绝缘/漏电薄膜畴反转电流测量与转换为滞回线的方法。本发明首先在漏电的薄膜上施加同极性的不同外加电压,由示波器记录并通过多项式/指数函数拟合求得薄膜的漏电流和施加在薄膜上的电压的函数关系。而后对薄膜施加双极性连续脉冲,利用漏电流与薄膜两端电压函数关系扣除漏电流,得到畴反转电流曲线。在任意时刻将畴反转电流曲线对时间积分即得到对应该时刻薄膜的极化值,与该时刻对应薄膜两端电压逐点作图即得漏电薄膜的滞回线。本发明方法采用标准电阻取代了传统方法中的参考电容,测量速度更快,并且可以正确地测量漏电薄膜的滞回线。
  • 一种绝缘漏电薄膜反转电流测量转换电滞回线方法
  • [发明专利]一种测量膜残余应力的方法-CN200710035951.2无效
  • 郑学军;吴勤勇;吴波;周益春 - 湘潭大学
  • 2007-10-23 - 2008-06-25 - G01N23/207
  • 本发明公开了一种测量膜残余应力的方法,基于X射线衍射(XRD)技术,考虑膜/基界面晶格失配的薄膜残余应力的测量方法。用XRD来测量膜/基界面处晶粒晶格常数的变化得到晶粒单胞残余应变;用XRD测量薄膜取向畴相对衍射密度,利用坐标转换将此应变从晶体坐标系转到样品坐标系,并作取向平均得到薄膜样品的残余应变;在膜/基界面上的不导通的情况下,根据压电本构关系计算出铁薄膜界面处的面内和离面残余应力。基于XRD技术测量残余应力的传统方法模型,只适用于各向同性、线弹性材料宏观表面残余应力的测量。而本发明可以测量出薄膜的界面残余应力,从而指导薄膜材料的设计。另一方面,界面残余应力可用来分析薄膜皱褶和剥落现象,因此本发明还可以用于进一步指导完善薄膜器件的结构,提升器件性能。
  • 一种测量铁电膜残余应力方法
  • [发明专利]一种二维材料在速度传感器中的应用-CN202010796653.0有效
  • 邓俊楷;徐博;刘哲 - 西安交通大学
  • 2020-08-10 - 2021-11-23 - G01P3/42
  • 本发明公开了一种二维材料在速度传感器中的应用,这种二维材料具有面内自发极化,该二维材料的双层堆垛结构能够在机械运动下产生铁‑反相变,基于这种双层二维材料的‑反相变的应用,还公开了包括双层二维材料的速度传感器本发明利用二维材料的相变,提高纳米尺度的机械位移测量精度,通过外界作用驱动双层二维材料层间滑移,实现双层二维材料从相和反相的相互转化,将二维材料层间滑移的机械能转化为双向脉冲电流,同时适用于单向和往返形式的机械运动,可通过测量脉冲电流的大小和频率来反映层间机械滑移速度,输出电流较大,便于测量层间相对运动速度,且测量的速度范围广。
  • 一种二维材料速度传感器中的应用
  • [发明专利]一种薄膜成核可逆畴极化强度的测量方法-CN201310304913.8在审
  • 江安全;陈志辉 - 复旦大学
  • 2013-07-19 - 2013-11-27 - G01R31/00
  • 本发明属于固态电介质应用技术领域,具体为一种薄膜成核可逆畴极化强度的测量方法。预极化铁薄膜畴极化方向至外加电压的反平行方向,通过施加不同脉冲宽度的电压后,测得不同电容器电压时电容器放电电荷面密度及薄膜反转畴极化强度;预极化铁薄膜畴极化方向至外加电压的平行方向,通过施加不同脉冲宽度的电压后,测得不同电容器电压时电容器放电电荷面密度;最终可计算出铁薄膜成核可逆畴极化强度。本发明方法可适应各种情况,而且测量精度高,便于深入了解薄膜成核电畴生长运动的动力学机理,可应用在超高介响应等新型器件中。
  • 一种薄膜成核可逆极化强度测量方法
  • [发明专利]一种测量漏电薄膜滞回线的方法-CN200910199381.X有效
  • 江安全;刘骁兵 - 复旦大学
  • 2009-11-26 - 2010-06-02 - G01R19/00
  • 本发明属于固态电介质性能测试技术领域,具体为一种测量漏电薄膜滞回线的方法。本发明方法首先在漏电极化的薄膜上施加同极性的外加电压,测定并记录薄膜两端不同电压下通过薄膜的漏电流,经曲线拟合,得到漏电流和施加电压的函数方程,进而计算得到畴翻转的极化电流随时间的变化关系。最后将位移电流对时间积分,计算出该外加电压下薄膜产生的位移电荷密度。重复以上的测量和计算过程,得到该薄膜的不同电压下所对应的电位移,从而测得整个漏电薄膜的滞回线。本发明解决了漏电薄膜电学表征的难题,特别是为超薄漏电薄膜电学性能研究提供了有力手段。
  • 一种测量漏电薄膜电滞回线方法
  • [发明专利]一种快速测量薄膜印刻效应的方法-CN200910054686.1有效
  • 江安全;翁旭东 - 复旦大学
  • 2009-07-10 - 2011-01-12 - G01R31/00
  • 本发明属微电子技术领域,涉及薄膜印刻效应的测试方法。本发明通过测量薄膜极化反转电流快速测量薄膜印刻效应,其包括:(1)加一个产生印刻效应的脉冲电压后,立刻再加一个与此印刻电压相反极性的脉冲电压并测量薄膜的反转电流;(2)加预置极化方向的脉冲电压,等待一段弛豫时间后加一个起印刻作用的正负双极性的脉冲电压,再等待一段时间以产生印刻效应,最后加一个与之前正负双极性脉冲电压完全相同的正负双极性电压以测量反转电流。本发明能代替传统的通过测量滞回线得出Vc的方法,能大幅降低测试印刻效应所需时间,具有很好的应用前景。
  • 一种快速测量薄膜印刻效应方法

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