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[发明专利]氧化铈抛光粉及其制备方法-CN201410010748.X有效
发明人：赵月昌;高玮;蒙素玲;郝祥;杨晓琼;贾长征 -专利权人：上海华明高纳稀土新材料有限公司
申请日： 2014-01-09 - 公布日： 2014-04-23 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种氧化铈抛光粉及其制备方法，所述氧化铈抛光粉，其特征在于，是由氧化铈和磷酸盐组成，磷酸盐的重量含量为氧化铈用量的0.3-1.5‰。与现有制备方法相比，本发明制备的抛光粉为氧化铈抛光粉，在制备过程中无需引入F，具有工艺简单，成本低，无废水的优点；氧化铈抛光粉对制品的抛光过程中无划伤、抛光精度高等优点。
氧化抛光及其制备方法

[发明专利]钐铈稀土抛光粉及其制备方法-CN201710957265.4有效
发明人：李炳伟;牟元璋;彭欢;董云;王德兴;龚丽华 -专利权人：淄博包钢灵芝稀土高科技股份有限公司
申请日： 2017-10-16 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种钐铈稀土抛光粉及其制备方法，以质量百分数计，氧化铈的含量是50％‑98％，氧化钐的含量是2％‑50％；其前驱体是以钐和铈的氯化物、硫酸盐、硝酸盐、碳酸盐或氧化物的形式组成的混合物；本发明同时提供其制备方法经过本发明制备的钐铈稀土抛光粉在RL‑13B抛光机上进行抛光实验，抛光速率比正常的镧铈抛光粉高30％左右，抛光的良率与对比的镧铈抛光粉相当，玻璃的易清洗程度优于其它稀土抛光粉，使用寿命优于其它稀土抛光粉本方法通过制备钐铈稀土抛光粉，达到了开拓氧化钐应用的目的，同时利用了氧化钐在稀土抛光粉中相比于氧化镧的优势，大大提升了抛光粉的性能。
抛光粉制备铈稀土稀土抛光粉抛光氧化钐镧铈碳酸盐硝酸盐氯化物抛光实验使用寿命混合物硫酸盐前驱体速率比氧化铈氧化镧易清洗氧化物良率玻璃应用

[发明专利]制备氧化铈抛光粉的方法-CN201310009515.3无效
发明人：李炳伟;江勇;牟元璋;李建飞;饶向东;任国华 -专利权人：淄博包钢灵芝稀土高科技股份有限公司
申请日： 2013-01-10 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： C01F17/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种制备氧化铈抛光粉的方法，属于抛光粉的生产技术领域，在铈系抛光粉沉淀过程前，铈系抛光粉的前驱体内引入Ce4+的方法，铈系抛光粉的前驱体制备过程中加入占总氧化铈质量比为0.01-10%的Ce4经过本发明制备得到的氧化铈抛光粉，采用RL-13B高精密双面研磨机进行抛光实验（抛光条件：压力200公斤，转速：20rpm、抛光圈数：500r；氧化铈抛光液比重：1.06；抛光皮：合成革；抛光用玻璃：5英寸LCD盖板玻璃；）抛削率可达3.8μm/min，抛光良率：97.22%。
制备氧化抛光方法

[发明专利]一种镧铈改性氧化铝复合抛光粉的制备方法-CN202010316565.6有效
发明人：于长江;路朋;王兆敏 -专利权人：山东麦丰新材料科技股份有限公司
申请日： 2020-04-21 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明属于抛光粉制备技术领域，具体涉及一种镧铈改性氧化铝复合抛光粉的制备方法。其包括如下步骤：S1将氯化铝和氯化镧铈的混合溶液以含氟的强碱溶液为沉淀剂进行沉淀、陈化后过滤，得到氟化的氢氧化铝镧铈共晶化合物；S2将步骤S1得到的沉淀进行干燥、焙烧、筛选、粉碎分级得到镧铈改性氧化铝复合抛光粉本发明提供的抛光粉颗粒度为0.8‑1.2um，符合手机盖板、TFT液晶面板玻璃领域的使用标准；而且该抛光粉抛光效率和稀土抛光粉相当，抛光效率可以达到6.8‑7.5um/10min(现有技术中氧化铈抛光粉的抛光效率为7‑8um/10min)；而且，采用本发明的抛光粉抛光后的表面亮度要好于稀土抛光粉。
一种改性氧化铝复合抛光制备方法

[发明专利]氧化铈抛光粉及其制备方法-CN201310542032.X有效
发明人：赵月昌;高玮;陈曦;蒙素玲;郝祥;杨筱琼 -专利权人：上海华明高纳稀土新材料有限公司
申请日： 2013-11-05 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种氧化铈抛光粉。氧化铈的纯度CeO2/TREO≥99.95%；氧化铈为晶型为单相立方晶系的CeO2粉末；氧化铈的形貌为圆饼状，平均粒径为1μm。还公开了其制备方法，包括氯化铈水溶液的制备、沉淀、脱水、焙烧、粉碎等。与现有制备方法相比，本发明制备的抛光粉为氧化铈抛光粉，在制备过程中无需引入F，具有工艺简单，成本低，无废水的优点；氧化铈抛光粉对制品的抛光过程中无划伤、抛光精度高等优点。
氧化抛光及其制备方法

[发明专利]一种平均粒径可调的超细氧化铈抛光粉的制备方法-CN201510966080.0在审
发明人：李静;常民民;孙明艳;王爱琴;汤光平;李晓媛;李永绣;周新木 -专利权人：南昌大学;中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2015-12-22 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： C01F17/00 文献下载
摘要：一种平均粒径可调的微纳米氧化铈抛光粉的制备方法，采用水热-煅烧法制备微纳米氧化铈抛光粉，首先水热合成氧化铈Ce(IV)作为前驱体，然后对前驱体进行煅烧和后处理得到抛光粉产品。通过调节水热反应参数（体系pH值）控制氧化铈前驱体的尺寸和形态，从而实现对成品抛光粉形态和粒度的控制。所制备的氧化铈抛光粉形貌为类球形，中位粒径d50在100nm~1.5µm之间可调，0＜粒度分布R＜0.8。该方法制备的粉体对K9玻璃具有良好的抛光效果。
一种平均粒径可调氧化抛光制备方法

[发明专利]一种抛光液的制备方法-CN201811036191.1在审
发明人：汪条英 -专利权人：汪条英
申请日： 2018-09-06 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开一种抛光液的制备方法，包含球形氟氧化镧铈抛光粉、分散剂、抛光助剂与pH调节剂，球形氟氧化镧铈抛光粉中氟的质量分数为球形氟氧化镧铈抛光粉总质量的2～8wt％，铈的质量分数为球形氟氧化镧铈抛光粉总质量的63～67wt％；依次通过通过沉淀、氟化、脱水与干燥、焙烧、粉碎以及抛光液配制的步骤制得，采用急冷的降温方式，得到的氟氧化镧铈抛光粉尺寸小、粒径分布曲线窄，中位粒度在0.7um～0.9um之间，配置成抛光液抛光时不会产生划伤和刺激性气味，且粉末中无需加入氧化镨，降低成本。
氟氧化镧铈抛光粉抛光液质量分数制备焙烧粒径分布曲线刺激性气味降温方式抛光助剂中位粒度分散剂氧化镨抛光氟化划伤急冷脱水配制沉淀配置

[发明专利]一种稀土抛光粉的制备工艺-CN201510072924.7在审
发明人：易鉴荣;林荔琍;唐臻;吴坚 -专利权人：柳州豪祥特科技有限公司
申请日： 2015-02-12 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及抛光粉的制备领域，具体说是一种稀土抛光粉的制备工艺，其包括将水合碳酸铈置于容器内，加入冰醋酸和去离子水，边搅拌边加热，直至水合碳酸铈溶解；再搅拌加热浓缩结晶，冷后过滤、干燥，得到白色粉状水合醋酸铈晶体；将晶体煅烧，得到氧化铈粉体；向氧化铈粉体中加入去离子水调成浆状，置于球磨机中研磨；将研磨后的产物经抽滤、洗涤、烘干，得到超细氧化铈稀土抛光粉。本发明以水合碳酸铈和醋酸为基本原料，低成本合成了水合醋酸铈，并通过煅烧醋酸铈制得氧化铈粉体，再对粉体进行研磨，从而得到超细的抛光粉，该工艺制备的稀土抛光粉不仅粒径均匀、粒径小，而且操作简单、成本低，适用于抛光高档产品
一种稀土抛光制备工艺

[发明专利]一种氧化镧铈稀土抛光粉及其制备方法-CN201310184331.0无效
发明人：郭尧;郭栋;周玉林 -专利权人：郭尧
申请日： 2013-05-19 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公布了一种氧化镧铈稀土抛光粉及其制备方法，属于化学领域。该抛光粉组成包括稀土氧化物CeO2、La2O3以重量计，抛光粉中含有0.1-3%的膨润土，0.2-5%的六偏磷酸钠。一种氧化镧铈稀土抛光粉的制备方法，包括：研磨、过滤烘干、煅烧、添加剂混合既得氧化镧铈稀土抛光粉。本发明在氧化镧铈稀土抛光粉中加入膨润土、六偏磷酸钠，可以使研磨剂颗粒能保持良好分散、悬浮性，降低沉淀固化的硬度，稳定生产工艺，提高研磨质量和生产效率。
一种氧化稀土抛光及其制备方法

[发明专利]稀土抛光粉及其制备方法-CN201710970171.0有效
发明人：李炳伟;董云;牟元璋;彭欢;王德兴;龚丽华 -专利权人：淄博包钢灵芝稀土高科技股份有限公司
申请日： 2017-10-16 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种稀土抛光粉及其制备方法，稀土抛光粉为镧铈稀土抛光粉或镧铈镨稀土抛光粉，以质量百分数计，氧化镧铈稀土抛光粉的组成是La₂O₃/TREO＝0‑49.5％，Sm₂O₃/TREO＝0.5‑50％，CeO₂/TREO＝95‑50％；氧化镧铈镨稀土抛光粉的组成是La₂O<本发明抛光速率比正常的镧铈抛光粉高10％以上，抛光的良率与对比镧铈抛光粉相当，玻璃的易清洗程度和使用寿命优于未取代的稀土抛光粉。
稀土抛光及其制备方法

[发明专利]无氟稀土抛光粉组合物及其制备方法-CN201710957300.2有效
发明人：李炳伟;彭欢;董云;牟元璋;王德兴;龚丽华 -专利权人：淄博包钢灵芝稀土高科技股份有限公司
申请日： 2017-10-16 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种无氟稀土抛光粉组合物及其制备方法，以质量百分数计，氧化铈的含量是90％‑99.5％，氧化钐的含量是0.5％‑10％。本发明是将氧化铈和氧化钐的组合物通过沉淀剂进行共沉淀，并进行脱水和水洗后再进行后处理，所用的沉淀剂是碳酸盐、草酸盐或者氢氧化物中的一种或多种。本发明制备的无氟稀土抛光粉在RL‑13B抛光机上进行手机玻璃抛光实验，抛光速率比市场上其它的稀土抛光粉高15％左右，优于无氟铈基抛光粉，改善了无氟铈基稀土抛光粉的性能，提升了稀土抛光粉的品质，降低了稀土价格波动造成的稀土抛光粉价格的波动
稀土抛光组合及其制备方法

[发明专利]一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法-CN201210441638.X有效
发明人：黄小卫;于瀛;龙志奇;王良士;崔大立;侯永可;崔梅生 -专利权人：有研稀土新材料股份有限公司
申请日： 2012-11-07 - 公布日： 2013-11-06 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法，该氧化铈基复合抛光粉中含有镁元素，其含量以氧化镁计为0.005wt％～5wt％。其制备方法为：(1)将含有抛光粉主体成分铈的盐溶液混合均匀；(2)以碳酸氢镁水溶液为沉淀剂，将沉淀剂与步骤(1)的混合溶液混合均匀得到浆液；(3)将步骤(2)的浆液在30℃～90℃下保温陈化0～48h；过滤得到抛光粉的前驱体粉体；(4)将前驱体粉体在600℃～1000℃下灼烧，得到的粉体经过分散、分选后处理，得到氧化铈基复合抛光粉产品。本发明大大提高了抛光粉的抛光性能，改善了抛光粉的悬浮性能，避免抛光浆液中颗粒分布不均匀、产生团聚颗粒。其制备方法简单，降低了抛光粉的生产成本。
一种氧化复合抛光及其制备方法

[发明专利]一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法-CN201380058403.5在审
发明人：黄小卫;于瀛;龙志奇;王良士;崔大立;候永可;崔梅生 -专利权人：有研稀土新材料股份有限公司
申请日： 2013-11-07 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法，该氧化铈基复合抛光粉中含有镁元素，以氧化镁计为0.005wt％～5wt％。其制备方法为：(1)将含有抛光粉主体成分铈的盐溶液混合均匀；(2)以碳酸氢镁水溶液为沉淀剂，将沉淀剂与步骤(1)的混合溶液混合均匀得到浆液；(3)将步骤(2)的浆液在30℃～90℃下保温陈化0～48h；过滤得到抛光粉的前驱体粉体；(4)将前驱体粉体在600℃～1000℃下灼烧，得到的粉体经过分散、分选后处理，得到氧化铈基复合抛光粉产品。本发明提高了抛光粉的抛光性能，改善了抛光粉的悬浮性能，避免抛浆液中颗粒分布不均匀、产生团聚颗粒。其制备方法简单，降低了抛光粉的生产成本。
一种氧化复合抛光及其制备方法

[发明专利]一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法-CN201110416665.7无效
发明人：周利虎 -专利权人：德米特（苏州）电子环保材料有限公司
申请日： 2011-12-14 - 公布日： 2012-06-27 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法，包括以下步骤：a、将杂质含量小于等于0.5%的碳酸铈在高温下进行煅烧，得到氧化铈粉末；b、将氧化铈粉末通过气流进行粉碎；c、在粉碎后的氧化铈粉末内添加氧化铝进行混合，得到氧化铈抛光粉。本发明的优点是，这种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法所制备的玻璃镜片抛光粉粒度细，分布均匀，抛光效果比较明显，而且抛光速度快，能够适应光学玻璃镜片和液晶屏幕等精密光学表面的抛光，对环境无污染，使用寿命也很长
一种氧化基质玻璃镜片抛光制备方法

[发明专利]一种球形氟氧化镧铈稀土抛光液及其制备方法-CN201611188405.8在审
发明人：王永和;金彦章;宋在芝;韩晖;丁磊;严回;胡石磊 -专利权人：安徽中创电子信息材料有限公司;蚌埠中恒新材料科技有限责任公司;蚌埠玻璃工业设计研究院
申请日： 2016-12-21 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开一种球形氟氧化镧铈稀土抛光液及其制备方法，包含球形氟氧化镧铈抛光粉、分散剂、抛光助剂与pH调节剂，抛光液的固含量为10～20wt％，分散剂占抛光液总量的0.3%～1.5%wt％，抛光助剂占抛光液总量的0.2%～0.8%wt％；pH调节剂的用量以抛光液pH值达到8～11为准，球形氟氧化镧铈抛光粉中氟的质量分数为球形氟氧化镧铈抛光粉总质量的2～8wt％，铈的质量分数为球形氟氧化镧铈抛光粉总质量的63～67wt％；依次通过通过沉淀、氟化、脱水与干燥、焙烧、粉碎以及抛光液配制的步骤制得，采用急冷的降温方式，得到的氟氧化镧铈抛光粉尺寸小、粒径分布曲线窄，中位粒度在0.7um～0.9um之间，配置成抛光液抛光时不会产生划伤和刺激性气味，且粉末中无需加入氧化镨，降低成本。
一种球形氧化稀土抛光及其制备方法

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