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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种钨化学机械抛光液及其应用-CN202310558801.9在审
发明人： 王瑞芹;王永东;卞鹏程;王庆伟;徐贺;李国庆;张宏源;卫旻嵩;崔晓坤 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种钨化学机械抛光液及其应用，所述钨化学机械抛光液包括磨料、催化剂、氧化剂、稳定剂、腐蚀抑制剂、速率抑制剂和水；其中，所述速率抑制剂为含氮的大环共轭分子且氮原子全部位于共轭环上。本发明的钨化学机械抛光液采用特定的速率抑制剂分子，可以使钨的化学机械抛光停止在阻挡层上，实现更高级制程节点的CMP应用。
一种化学机械抛光及其应用

[发明专利]一种多晶硅抛光组合物及其应用-CN202210690202.8有效
发明人：王永东;卞鹏程;徐贺;王庆伟;王瑞芹;崔晓坤;李国庆;卫旻嵩 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司
申请日： 2022-06-17 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C11D1/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种多晶硅抛光组合物及其应用，所述多晶硅抛光组合物以纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加有高哌嗪类物质和酮酸类物质作为助剂。本发明的抛光组合物中同时添加高哌嗪类物质和酮酸类物质分别作为速率促进剂和选择性抑制剂，绿色低毒，对多晶硅材料去除速率高，对氧化硅、氮化硅选择性大，抛光缺陷少，与现有技术相比，具有明显优势。
一种多晶抛光组合及其应用

[发明专利]一种用于硅晶圆的化学机械精抛液、制备方法及其应用-CN202210756342.0有效
发明人：徐贺;卫旻嵩;卞鹏程;王庆伟;王永东;李国庆;崔晓坤;王瑞芹 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-06-29 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C11D1/66 文献下载
摘要：本发明提供一种用于硅晶圆的化学机械精抛液、制备方法及用途，所述精抛液包括以下质量百分数的组分：5%~15%的高纯硅溶胶、0.01%~0.5%的粘度调节剂、0.1%~0.5%的pH调节剂、0.001%~0.05%的表面活性剂，余量为水。本发明的精抛液通过粘度调节剂可有效提高精抛液粘度，抛光时形成较厚压力膜，降低晶圆表面缺陷数和粗糙度。
一种用于硅晶圆化学机械精抛液制备方法及其应用

[发明专利]一种适用于硅晶圆再生的抛光组合物、制备方法及其应用-CN202211005506.2有效
发明人：王庆伟;卞鹏程;崔晓坤;王瑞芹;徐贺;王永东;李国庆;卫旻嵩 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-08-22 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C11D7/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于硅晶圆再生的抛光组合物、制备方法及其应用，所述抛光组合物以二氧化硅水溶胶及有机碱为主要抛光组分，额外添加有三价金属铈盐、金属亚铁盐及有机酸稳定剂。本发明通过在硅片抛光组合物中额外加入三价金属铈盐、金属亚铁盐及有机酸稳定剂可以在高硅片去除速率的基础上，进一步提高对硅氧化物的去除速率。本发明的方法不仅可以加快硅晶圆的再生效率，而且能够有效简化晶圆再生加工工艺流程、降低硅片再生成本，与现有技术相比，具有显著优势。
一种适用于硅晶圆再生抛光组合制备方法及其应用

[发明专利]一种二氧化硅介电层化学机械抛光液及其应用-CN202210192100.3在审
发明人：崔晓坤;卞鹏程;王庆伟;徐贺;李国庆;王瑞芹;王永东;卫旻嵩 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-03-01 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种二氧化硅介电层化学机械抛光液及其应用，所述化学机械抛光液包含如下质量百分含量的组分：0.1%‑2%的氧化铈磨料、0.01%‑0.5%的抗氧化剂，其余部分为去离子水。本发明的化学机械抛光液具有高的二氧化硅去除速率、表面质量好、稳定性优异等特点。
一种二氧化硅介电层化学机械抛光及其应用

[发明专利]一种硅晶圆化学机械抛光液、制备方法及其应用-CN202310729630.1在审
发明人：徐贺;卫旻嵩;卞鹏程;王庆伟;王永东;王瑞芹;李国庆;朱林君;张宏源 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司
申请日： 2023-06-20 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种硅晶圆化学机械抛光液、使用方法及其应用，其质量百分数组成包括10％～30％的高纯硅溶胶、0.1％～0.5％的pH调节剂、0.1％～1％的乙烯基吡咯烷酮‑季铵盐共聚物，余量为水。本发明的抛光液稀释20～39倍可应用于硅晶圆中抛光，抛光后晶圆表面无亲水性，可修复表面微划伤；抛光液稀释1～19倍可应用于硅晶圆精抛光，抛光后晶圆表面强亲水性，避免磨料粒子与空气杂质的沾污，从而获得低表面缺陷。
一种硅晶圆化学机械抛光制备方法及其应用

[发明专利]一种硅片抛光组合物及其应用-CN202310558803.8在审
发明人：王庆伟;卞鹏程;王永东;徐贺;李国庆;王瑞芹;崔晓坤 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片抛光组合物及其应用，所述硅片抛光组合物以二氧化硅水溶胶为抛光磨料、有机碱为速率促进剂，并添加有芳基正离子化合物及水溶性改性硅油。本发明通过在硅片抛光组合物中同时加入芳基正离子化合物及水溶性改性硅油，能够快速去除硅片表面腐蚀产物、减少硅片表面腐蚀残留、降低硅片表面刻蚀速率、更有利于后期清洗。
一种硅片抛光组合及其应用

[发明专利]一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液及其应用-CN202310558804.2在审
发明人： 王瑞芹;崔晓坤;卞鹏程;王庆伟;徐贺;李国庆;王永东;韩翠婷;卫旻嵩 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液及其应用，所述钨抛光液包括二氧化硅磨料、铁盐催化剂、氧化剂、稳定剂、嵌段共聚物和水。本发明中的嵌段共聚物由两种具有特定结构的物质共聚而成，利用该嵌段共聚物可以降低钨抛光中的EOE现象，提高抛光表面质量。
一种减少 eoe 现象化学机械抛光及其应用

[实用新型]一种可调式多钻头固定装置-CN202320548804.X有效
发明人：张成;王毅;李班;赵晓杰;李相君;王瑞芹;陈婷;李孟;张增辉;邢潇天 -专利权人：山东力久特种电机股份有限公司
申请日： 2023-03-16 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： B23Q1/26 文献下载
摘要：一种可调式多钻头固定装置，包括底座，底座上设有若干圆周径向分布的滑槽，滑槽上滑动连接有滑块，滑块内转动连接有贯穿滑块的钻头连接头，钻头连接头的外端设置钻头，滑槽的两侧均设有与滑槽平行设置的导向槽，滑块上位于钻头连接头的两侧分别设有导向杆，导向杆与导向槽滑动连接，其解决了现有的多钻头固定装置存在着因其结构的缺陷，从而导致多孔之间的间距精度较低的技术问题，可广泛应用于机械加工设备技术领域。
一种调式钻头固定装置

[实用新型]一种地质勘探防塌预警器-CN202222536034.5有效
发明人：彭余新;王加强;刘小生 -专利权人： 王瑞芹
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G08B21/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及防塌预警技术领域，公开了一种地质勘探防塌预警器，包括底座和工作台；所述底座顶端中部固定安装有支柱，所述支柱顶部固定安装有工作台，所述支柱两侧固定安装有卷线器，所述卷线器上缠绕有数据线；所述数据线末端安装有震动传感器，所述工作台底部两侧固定安装有数据接口。本实用新型技术方案通过数据线位于卷线器上展开，再将两组震动传感器贴合于合适的坡体上，此时通过震动传感器可实时监测微小的震动，出现震动时可通过自动控制蜂鸣器以及警示灯亮起发出警报，此时可及时的提醒工作人员及时撤离，其数据线能够位于卷线器上自由收放，因此震动传感器能够灵活的安装于合适位置，大大提高安装便捷性，其预警效果更为可靠。
一种地质勘探预警

[发明专利]一种硅钢片冲压设备及其使用方法-CN202310336460.0在审
发明人：张成;李班;李文洋;于好;张佳玮;张增辉;陈婷;杨增玉;王瑞芹;李希耀 -专利权人：青岛力久电机科技有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： B21D22/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅钢片冲压设备及其使用方法，其包括支撑架，支撑架滑动连接有进给箱，支撑架设有用于驱动进给箱运动的驱动件，支撑架滑动连接有承载板，承载板固定连接有推送板，支撑架固设有两个送料斜板，进给箱设有用于驱动承载板运动的运动机构，支撑架设有用于对硅钢片进行取料的取料机构和用于对硅钢片进行限位的限位机构。本申请便于实现对硅钢片进行运送的效果，有利于提升硅钢片的冲压效率。
一种硅钢片冲压设备及其使用方法

[发明专利]一种钨化学机械抛光液及其应用-CN202310477179.9在审
发明人：韩翠婷;崔晓坤;王瑞芹;卞鹏程;卫旻嵩;王庆伟;李国庆;王永东;徐贺 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种钨化学机械抛光液，该抛光液包含研磨颗粒、催化剂、稳定剂、氧化剂、腐蚀抑制剂，还包含取代的硼酸频哪醇酯，余量为水。本发明的钨化学机械抛光液使用的取代的硼酸频哪醇酯能够增加抛光液稳定性，提高去除速率。
一种化学机械抛光及其应用

[实用新型]一种可调式定转子冲片吊具-CN202320477176.0有效
发明人：张成;李班;吕文杰;王瑞芹;宋锦锦;孙静;张顺利;于怡;张增辉;杜善洪 -专利权人：山东力久特种电机股份有限公司
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： B66C1/42 文献下载
摘要：一种可调式定转子冲片吊具，包括支撑杆，支撑杆的左右两端均滑动连接有滑套，滑套的底端设有竖杆，竖杆的底端设有支撑板，支撑杆上于两个滑套之间设有滑环，滑环上设有吊环，竖杆设置成可伸缩结构，竖杆上滑动连接有固定环，固定环上设有固定板，其解决了现有的定转子冲片吊具存在着因其结构的缺陷，从而导致吊运效率较低、定转子冲片易跳动移位的技术问题，可广泛应用于吊具技术领域。
一种调式转子冲片吊具

[发明专利]一种耐低温型硅抛光组合物及其应用-CN202310409167.2在审
发明人：王永东;卞鹏程;徐贺;王瑞芹;王庆伟;李国庆;朱林君;张宏源;崔晓坤 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司
申请日： 2023-04-18 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种耐低温型硅抛光组合物及其应用，所述耐低温型硅抛光组合物以纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加有防冻剂和氨基酸型表面活性剂。本发明的耐低温型硅抛光组合物中同时添加防冻剂和氨基酸型表面活性剂作为耐低温助剂，可有效抑制组合物在低温环境下容易发生的冻结凝胶和平均粒径、大颗粒数显著上升的问题，可防止组合物在低温下变质失效，与现有技术相比，具有明显优势。
一种低温抛光组合及其应用

[发明专利]一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用-CN202310409168.7在审
发明人：王永东;卞鹏程;徐贺;王瑞芹;王庆伟;李国庆;朱林君;张宏源;卫旻嵩;崔晓坤 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司
申请日： 2023-04-18 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用，所述抛光组合物以表面固定有有机酸的纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加含有椰油基的疏水性表面活性剂和聚氧乙烯‑聚氧丙烯亲水性共聚物作为选择比调节剂，还添加有由丙烯酸单体聚合形成的重均分子量约1000～200000的丙烯酸均聚物及其盐以及丙烯酸共聚物。本发明的抛光组合物包括由两种表面活性剂组成的选择比抑制剂和水溶性聚合物，绿色低毒，能够实现更宽的氮化硅、氧化硅对多晶硅材料的抛光选择性，同时也能有效地抑制抛光缺陷的产生。
一种去除速率选择抛光组合及其应用

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