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- [发明专利]异方性导电胶膜及异方性导电胶膜的剥离方法-CN201610954498.4有效
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黄添旺;崔磊
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武汉华星光电技术有限公司
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2016-10-27
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2018-07-20
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H01L51/52
- 本发明公布了一种异方性导电胶膜,所述异方性导电胶膜包括层叠设置的缓冲层和异方性导电胶层,所述缓冲层包括相对设置的第一表面与第二表面,所述第一表面用于直接粘贴于所述基板上,所述第二表面粘贴于所述异方性导电胶层上并完全覆盖所述异方性导电胶层在所述第二表面上的正投影,所述缓冲层包括氢化硅,用于被激光照射后产生气泡分离所述异方性导电胶层与所述基板,所述异方性导电胶层包括导电粒子,用于导通所述驱动芯片与所述基板。本发明还公布了一种异方性导电胶膜的剥离方法。激光照射异方性导电胶膜使缓冲层的氢化硅分解产生氢气气泡分离异方性导电胶层与基板,使异方性导电胶膜易于刮除干净,提高不良品的返工成功率。
- 异方性导电胶膜剥离方法
- [发明专利]电致发光元件的制造方法-CN03800011.3无效
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伊藤范人;立川智之
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大日本印刷株式会社
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2003-01-08
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2004-05-12
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H05B33/10
- 本发明的主要目的在于,提供一种在采用光刻法形成发光部时可以避免在已形成为图案形状的各发光部上层压有多层多余的层的状态,且在该多余层的剥离工艺中可以容易且迅速地进行剥离处理的EL元件的制造方法。为了达到上述目的,本发明提供具有下述特征的EL元件的制造方法,即,在采用光刻法的EL元件的制造方法中,具有:在设有表面具有光致抗蚀剂层的至少1色的发光部的基板上,涂布呈不同于所述发光部的颜色的异色发光层形成用涂布液,并形成异色发光层的工艺;在所述异色发光层上涂布光致抗蚀剂,形成异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺;对所述异色发光层用光致抗蚀剂层进行图案曝光后,通过进行显影形成图案,留下形成异色发光部的部分的异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺;和通过除去已除去所述异色发光层用光致抗蚀剂层的部分的异色发光层,形成在表面具有异色发光层用光致抗蚀剂层的图案形状的异色发光部的工艺。
- 电致发光元件制造方法
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