专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种多孔α-氧化膜的制备方法-CN201410626992.9在审
  • 常毅 - 常毅
  • 2014-11-10 - 2015-03-11 - C25D11/08
  • 一种多孔α-氧化膜的制备方法,包括如下步骤:对高纯铝箔进行退火、电抛光预处理;将预处理后的铝箔作为阳极,以石墨为阴极,在磷酸、草酸铝混合溶液中进行两步法阳极氧化得到带铝基多孔阳极氧化膜;将制备的带铝基多孔阳极氧化膜进行扩孔处理;将扩孔处理后的带铝基多孔阳极氧化膜进行水煮或者水热处理;将水煮或者水热处理后的带铝基多孔阳极氧化膜去除铝基;去除铝基的多孔阳极氧化膜利用柠檬酸钠溶液去除阻挡层以及多孔氧化外层氧化水合物,最终形成周期性六方密排的氧化通孔结构;将所制备具有周期性六方密排通孔结构的氧化膜放入马弗炉中进行高温烧结,制备得到多孔α-氧化膜。
  • 一种多孔氧化铝制备方法
  • [发明专利]用于LED芯片中的衬底制造工艺-CN201210128677.4无效
  • 顾建祖 - 顾建祖
  • 2012-04-27 - 2012-09-05 - H01L33/00
  • 本发明公开一种用于LED芯片中的衬底制造工艺,选取多孔氧化膜板;将多孔氧化膜板表面进行灌涂一光刻胶层,此多孔氧化膜板表面的微孔内填覆有光刻胶,且此多孔氧化膜板表面覆盖光刻胶;通过一压板将光刻胶层压平后固化处理;根据所述多孔氧化膜板的落差值将位于所述多孔氧化膜上方的光刻胶分为若干分段,并将此光刻胶由表面往下去除一分段厚度的光刻胶;将多孔氧化膜板进行一分段化学机械研磨;依次完成所述若干分段中各个分段,从而获得修正后多孔氧化膜板本发明衬底制造工艺利用现有多孔纳米氧化板,作为LED的蓝宝石衬底压印模板,采用光刻胶和研磨结合实现了将表面峰谷之间的落差值分为若干分段研磨,有效保护了多孔纳米氧化板表面微孔形态。
  • 用于led芯片中的衬底制造工艺
  • [发明专利]一种高孔隙率氧化多孔陶瓷的制备方法-CN201510683979.1在审
  • 吕钢;周国泰 - 哈尔滨工业大学
  • 2015-10-20 - 2016-01-27 - C04B38/08
  • 一种高孔隙率氧化多孔陶瓷的制备方法,涉及一种氧化多孔陶瓷的制备方法。本发明是要解决现有方法制备的氧化多孔陶瓷的孔隙率较低的问题。方法:一、氧化陶瓷浆料的配制;二、冷冻注模法制备氧化多孔陶瓷坯体;三、干燥及烧结,即得到高孔隙率氧化多孔陶瓷。本发明在不改变内部三维网络结构的前提下,提高多孔陶瓷制品开气孔率。制备的氧化多孔陶瓷不仅具有较高的开孔孔隙率及较低的体积密度,使其表现出更高的过滤、吸附性能,而且具有较高的机械强度,使其力学性能显著提高。本发明用于多孔陶瓷材料领域。
  • 一种孔隙率氧化铝多孔陶瓷制备方法
  • [发明专利]一种超薄多孔氧化模板的转移方法-CN201310102327.5无效
  • 邓晨华;许小红;丁古巧;王芳;秦秀芳 - 山西师范大学
  • 2013-03-27 - 2013-07-10 - C25D11/12
  • 本发明公开了一种超薄多孔氧化模板的转移方法。包括如下步骤:(1)将铝片置于电解液中进行第一次氧化;(2)去除经所述第一次氧化处理后的所述铝片上的多孔氧化层,然后再置于所述电解液中进行第二次氧化得到多孔氧化模板;(3)在所述多孔氧化模板的正面旋涂保护胶;(4)将所述多孔氧化模板置于腐蚀液中去除铝基;(5)然后用滤纸或网漏将步骤(4)得到的所述多孔氧化模板转移至浸泡液中去除阻挡层;(6)将步骤(5)得到的所述多孔氧化层模板转移至基底上即完成对所述多孔氧化模板的转移本发明中的超薄多孔氧化模板与其它物理溅射方法结合可以较廉价的制备出各种材料的纳米点阵列结构,而且可以通过调节模板的孔径和孔间距来改变纳米单元的大小和间距,从而改变纳米材料的性能。
  • 一种超薄多孔氧化铝模板转移方法

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