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- [发明专利]基板镀敷装置-CN201480026900.1在审
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吉冈润一郎;村山隆史
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株式会社杰希优
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2014-03-27
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2015-12-30
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C25D21/10
- 本发明的目的在于提供一种镀敷装置,其无须在镀敷槽外设置循环泵,而可提高镀敷液的流速,并可使流速从镀敷槽的底部至液面相同,其结果,可遍及基板全部区域地,进行镀敷膜厚均匀且析出速度快速的镀敷,镀敷装置具备:收容镀敷液的镀敷槽;拆装自如地保持基板的基板保持件;与基板保持件所保持的基板相对置地配置的阳极;以与基板保持件平行的方式架设在镀敷槽的上方的轨道部;以及悬垂支持于该轨道部且可沿轨道部往返移动的桨叶,其特征在于
- 基板镀敷装置
- [发明专利]半导体基板及其制造方法-CN201880072855.1有效
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渡边拓人;土田克之
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JX金属株式会社
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2018-10-25
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2022-07-08
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C23C18/16
- 本发明的实施方式的目的在于提供在具有Au电极焊盘的半导体基板中生产性优异的半导体基板及其制造方法。本发明的实施方式涉及的半导体基板,在Au电极焊盘上具有无电解Ni镀敷皮膜/无电解Pd镀敷皮膜/无电解Au镀敷皮膜、或者无电解Ni镀敷皮膜/无电解Au镀敷皮膜。本发明的实施方式涉及的半导体基板的制造方法通过以下的(1)~(6)所记载的工序,在Au电极焊盘上形成无电解Ni镀敷皮膜/无电解Pd镀敷皮膜/无电解Au镀敷皮膜、或者无电解Ni镀敷皮膜/无电解Au镀敷皮膜,(1)脱脂工序;(2)蚀刻工序;(3)预浸渍工序;(4)施加Pd催化剂的工序;(5)无电解Ni镀敷工序;(6)无电解Pd镀敷工序以及无电解Au镀敷工序、或者无电解Au镀敷工序。
- 半导体及其制造方法
- [发明专利]基板镀敷夹具-CN201180074160.5在审
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吉冈润一郎;村山隆史
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株式会社JCU
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2011-10-19
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2014-06-18
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C25D17/08
- 本发明的目的在于提供一种在半导体晶片、玻璃板、陶瓷板等基板的镀敷中,通电销、通电部件不暴露在镀敷液中,并能够可靠地向基板通电,且通电销、通电部件、密封封装也容易更换的镀敷夹具。该镀敷夹具构成为具备板状的第一保持部件和设置有具有内周部和外周部的环状的密封封装、且在环状的密封封装的中心侧形成有开口的第二保持部件,通过将被镀敷基板插在第一保持部件与第二保持部件之间并夹住保持,所述环状的密封封装的内周部和外周部的顶端分别与被镀敷基板的被镀敷面以及第一保持部件紧贴,且被镀敷基板的端部被保持在环状的密封封装的内周部与外周部之间,被镀敷基板的被镀敷面在所述开口露出,其特征在于,在环状的密封封装的内部设置具有多个突出触点的环状的第一通电部件,通过将被镀敷基板插在第一保持部件与第二保持部件之间并夹住保持,被镀敷基板的被镀敷面与突出触点在环状的密封封装的内部接触。
- 基板镀敷夹具
- [发明专利]基板镀敷夹具-CN201280076998.2有效
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吉冈润一郎;村山隆史
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株式会社JCU
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2012-11-14
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2015-07-15
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C25D17/06
- 本发明的目的在于提供一种仅通过一次镀敷处理就可以在半导体晶片的双面同时形成金属镀敷膜并且与保持部相比更薄的具有简单的结构的镀敷夹具。该镀敷夹具具备:形成为能够保持被镀敷基板的基座部和盖部、以及被基座部与盖部夹持而将被镀敷基板定位的中心部,其特征在于,该基座部、该盖部以及该中心部都具有在中央具有开口的环状部,在基座部环状部以及盖部环状部安装有在彼此对置的面上配设有通电环的密封垫,被镀敷基板配置在中心部的开口内,利用安装于盖部以及中心部的上述密封垫从正反两面夹持被镀敷基板。
- 基板镀敷夹具
- [发明专利]电路基板及其制造方法-CN200880114840.3有效
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中原阳一郎;池川直人;上村恭平;内野野良幸
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松下电工株式会社
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2008-11-04
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2010-09-29
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H05K3/24
- 本发明提供一种电路基板及其制造方法。电路基板具备绝缘性基板(1)和形成在该绝缘性基板(1)上的电路(3),该电路具有镀敷基底层(4)、镀铜层(5)、镀镍层(6)及镀金层(7),所述镀敷基底层(4)是通过沿电路(3)的轮廓对覆盖在该绝缘性基板(1)表面上的金属薄膜(2)照射激光(L)而按电路(3)的轮廓局部除去金属薄膜(2),从而形成电路图案而成的,所述镀铜层(5)、镀镍层(6)及镀金层(7)是在镀敷基底层(4)表面上从镀敷基底层侧开始依次利用金属镀敷而形成的在镀镍层(6)与镀金层(7)之间,具有标准电极电位比Au低的金属的第一中间镀敷层(8)与镀金层相接形成,具有标准电极电位比第一中间镀敷层的金属高的金属的第二中间镀敷层(9)与第一中间镀敷层相接(8)而形成
- 路基及其制造方法
- [发明专利]镀敷装置及电阻体-CN202110032620.3在审
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社本光弘;张绍华;富田正辉;下山正
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株式会社荏原制作所
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2021-01-11
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2021-09-07
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C25D21/12
- 本发明提供一种镀敷装置及电阻体。所述镀敷装置对具有圆形的镀敷区域的基板实施镀敷处理。所述镀敷装置包括:阳极,配置于镀敷槽;基板固持器,保持基板并以与阳极相向的方式配置;基板接点,与基板的周缘部接触并向基板供给电流;电阻体,以与基板固持器相向的方式配置于阳极与基板固持器之间,用于调整阳极与基板之间的离子移动;以及旋转驱动机构,使电阻体与基板固持器绕轴线相对地旋转。电阻体包括:遮蔽区域,其形成外框,阻断阳极与基板之间的离子移动;以及电阻区域,形成于遮蔽区域的径向内侧,具有允许离子通过的多孔结构。
- 装置电阻
- [发明专利]镀敷处理方法、镀敷处理装置、及感测器装置-CN201780021517.0有效
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奈良圭;杉崎敬;堀正和
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株式会社尼康
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2017-03-28
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2020-08-04
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C25D5/02
- 本发明是一面于长度方向搬送基板(FS)一面对利用导电体形成于基板(FS)的表面的导电图案(PT)的一部分选择性地实施镀敷的镀敷处理方法,且包括:利用导电材料于基板(FS)上形成连接于导电图案(PT)中的特定图案部分(SPT)且沿长度方向延伸的辅助图案(APT);使基板(FS)的表面沿长度方向遍及既定距离地接触于电解镀敷液(LQ1);于基板(FS)上的至少特定图案部分(SPT)与电解镀敷液(LQ1)接触的期间,使设置于基板(FS)的表面自电解镀敷液(LQ1)分离的位置的电极构件(19)与辅助图案(APT)接触,且经由电极构件(19)对电解镀敷液(LQ1)施加电压。
- 处理方法装置感测器
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