专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多点均匀布料器-CN202110847355.4在审
  • 辅玲;柏林霞;朱汉卿 - 江苏火焰山干燥技术有限公司
  • 2021-07-27 - 2021-10-08 - B65G65/46
  • 本发明提供一种多点均匀布料器,包括底部敞口的存料仓,存料仓的底部可拆卸的安装有下料机构,下料机构包括上固定块和下固定块,上固定块上沿周均匀间隔的设有若干下料孔,下固定块上沿周均匀间隔的连接有若干下料管,上固定块和下固定块之间设有转动块,转动块上沿周均匀间隔的开设有若干料孔,若干下料孔、料孔及下料管的管口一一相互对应。本发明存料仓内的物料均匀的下料,保证物料均匀分配,物料均匀分布的效率高,物料均布的效果好。
  • 多点均匀布料
  • [发明专利]均匀缓释型胶囊-CN202111481651.3在审
  • 徐斌 - 徐斌
  • 2021-12-07 - 2022-03-25 - A61J3/07
  • 本发明提供一种均匀缓释型胶囊,包括两端呈半球状、中段呈圆柱状的外壳;所述外壳内部填充一个由可消化薄片卷制而成的、从所述外壳的轴线开始向外旋转的螺旋卷,所述螺旋卷的两端延伸到所述外壳的中段的两端;所述外壳内包括有填充于所述螺旋卷的各圈螺旋壁之间的药物颗粒该胶囊可以均匀地释放药效,直到消耗完毕。
  • 均匀缓释型胶囊
  • [发明专利]均匀立体渲染-CN202080089379.1在审
  • J·C·小鲍鲁斯;M·H·利本诺 - 奇跃公司
  • 2020-10-23 - 2022-08-02 - G06F3/01
  • 本公开的示例描述了用于记录增强现实和混合现实体验的系统和方法。在示例方法中,真实环境的图像经由可穿戴头部设备的相机来接收。估计可穿戴头部设备的姿势,并基于姿势生成虚拟环境的第一图像。基于姿势生成虚拟环境的第二图像,其中虚拟环境的第二图像包括比虚拟环境的第一图像的视场更大的视场。基于虚拟环境的第二图像和真实环境的图像生成组合图像。
  • 均匀立体渲染
  • [发明专利]均匀配棉装置-CN201510103596.2有效
  • 杨军艳;周启龙 - 青岛宏大纺织机械有限责任公司
  • 2015-03-10 - 2017-01-04 - D01G23/08
  • 本发明提供一种均匀配棉装置,其特点是:在储棉仓原料入口的管道中设置均匀配棉装置,该均匀配棉装置设置有第一摇板和第二摇板,在均匀配棉装置顶部宽度方向各设置第一轴套、第二轴套,第一摇板和第二摇板的一端分别与第一轴套和第二轴套活动连接;有一连杆的两端分别固定在第一摇板和第二摇板中部;有一气缸固定均匀配棉装置宽度方向的一侧,并使气缸的活塞杆与均匀配棉装置宽度平行,所述活塞杆的顶端与所述的连杆的一端铰接;气缸的进出气端口与一控制阀连接利用气缸活塞杆的伸缩控制摇板来回摆动,摇板拨动原料横向散布,使原料在储棉仓内横向均匀分布。
  • 均匀装置
  • [发明专利]热缩管均匀扩张模具-CN200910104838.4有效
  • 李昌;陈鹏;赵成刚;李可涛 - 东莞三联热缩材料有限公司
  • 2009-01-07 - 2009-07-15 - B21D39/08
  • 一种热缩管均匀扩张模具,其包括一定径管、一模嘴、一真空套、一冷却套;该定径管是两端开口的直筒体;该模嘴安装在该定径管的前端部,该模嘴的中央开设有一进管口;该真空套环绕地固定在该定径管外部,其位于靠近该模嘴的一侧,该真空套包括一真空室;该冷却套环绕地固定在该定径管外部,其位于该真空套的后侧;该定径管位于真空室处的管壁上开设有至少一个环形的真空狭槽,所述真空狭槽将该定径管完全切断。
  • 热缩管均匀扩张模具
  • [发明专利]均匀CMP抛光方法-CN201810448097.0有效
  • J·V·阮;T·Q·陈;J·J·亨德伦;J·R·斯塔克 - 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
  • 2018-05-11 - 2021-05-14 - B24B1/00
  • 本发明提供一种用于抛光或平坦化半导体、光学和磁性衬底中的至少一种的晶片的方法。所述方法包括旋转抛光垫,所述抛光垫在抛光层中具有径向进料槽,所述径向进料槽将所述抛光层分成抛光区域。所述径向进料槽从邻近于所述中心的位置至少延伸至邻近于所述外边缘的位置。各抛光区域包括连接一对相邻径向进料槽的一系列偏置沟槽。所述系列偏置沟槽分隔着落区域且具有更接近所述中心的内壁和更接近所述外边缘的外壁。在多次旋转的情况下,使所述晶片抵压在所述旋转抛光垫上旋转,从而利用所述溢流抛光液所润湿的着落区域抛光或平坦化所述晶片。
  • 均匀cmp抛光方法
  • [发明专利]均匀进米装置-CN201310445845.7有效
  • 许小平;许雪峰;赵智杰 - 杭州博达设计咨询有限公司
  • 2013-09-27 - 2014-01-01 - A47J27/00
  • 本发明公开了一种均匀进米装置,包括锅体、锅盖和电控装置,在所述锅盖上面均布有至少两个相同的、且自中心向外沿径向延伸的进米管道,各所述进米管道的里端与设置于锅盖中心的进米进风口连通,各进米管道的外端均设有与锅体贯通的进米口本发明能够将干净的大米均匀的铺洒在锅底并注水,把人们从繁琐的劳动中解放出来,实现了米粥、米饭的全自动化加工,而且效率更高。
  • 均匀装置

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