专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种卫星分离装置-CN201811642623.3有效
  • 马卫华;卫宣伯;侯成刚;徐晨;王明明;罗建军;袁建平 - 西北工业大学
  • 2018-12-29 - 2022-04-05 - B64G1/64
  • 本发明提供了一种卫星分离装置,包括基板、针脚和用于对卫星提供旋动能的弹射装置;所述基板的拐角处分别设置有用于连接卫星的支撑柱,针脚安装在卫星的底部,两个弹射装置分别倾斜设置在基座的对角位置,且两个弹射装置相互平行,弹射装置的下端与基板连接;当接卫星位于发射状态,针脚的下端设置在支撑柱的顶部,弹射装置的上端顶在针脚上,且弹射装置处于压缩状态。该分离装置提高了星卫星与母体分离的成功率,且分离装置适用于现有的星卫星及母星,具有较强的兼容性。
  • 一种可起旋微纳卫星分离装置
  • [实用新型]一种火箭状的超晶美容仪-CN201620069151.7有效
  • 陈家骊;陈彦彪 - 陈彦彪
  • 2016-01-25 - 2016-06-29 - A61M37/00
  • 本实用新型涉及一种火箭状的超晶美容仪,包括底座和置于底座上的超晶美容笔,超晶美容笔包括外壳、转接头和驱动机构,驱动机构置于外壳内,与转接头驱动连接,转接头置于外壳的一端,与外壳接,外壳的另一端,未与转接头连接的一端倒置于底座内。由于超晶美容仪有一个底座,使用时或者使用后都可将美容笔倒置于底座上,防止美容液体流出污染美容笔;由于转接头通过凹陷的螺旋卡槽与外壳接,方便调节转接头的高度,转接头上有刻度,可让调节精准。
  • 一种火箭超纳微晶美容
  • [发明专利]一种制备蝴蝶翅膀仿生结构的方法-CN201510327352.2有效
  • 陈宜方;张思超;邵金海;陆冰睿 - 复旦大学
  • 2015-06-15 - 2017-11-17 - H01L21/027
  • 本发明属于加工技术领域,具体为一种制备蝴蝶翅膀仿生结构的方法。本发明首先在硅基底上采用涂法依次交替涂两种不同灵敏度的光刻胶若干层,然后利用电子束光刻对光刻胶进行曝光,再利用两种显影液对曝光后的样品进行交替显影,最终制备得到具有优异特性的分级层次周期或准周期仿生结构,如仿闪蝶磷翅结构等。本发明结合多层胶技术与电子束光刻技术,制备过程中不需要生物模板,并且能够控制每层胶的涂厚度,实现对纵向树枝状周期和占空比的精确控制,制备工艺简单,能得到不同结构参数的蝴蝶磷翅仿生结构。
  • 一种制备蝴蝶翅膀仿生结构方法
  • [发明专利]基于偏器及F-P腔结构的彩色纳米印刷器件-CN201910729181.4有效
  • 戴琦;郑国兴;李子乐;邓联贵;邓娟;付娆;陈奎先 - 武汉大学
  • 2019-08-08 - 2020-08-25 - G02B1/00
  • 本发明公开了一种基于偏器及F‑P腔结构的彩色纳米印刷器件,叠层超表面包括衬底、金属纳米砖阵列及F‑P腔阵列。基于金属表面等离子共振效应,通过特定的金属纳米砖尺寸可设计出偏振分离的金属纳米砖结构;基于F‑P腔的波长选择机理可设计具有窄带滤光作用的F‑P阵列结构。金属纳米砖阵列在不同的工作状态下可作为蓝光、绿光及红光波段的偏器,具有宽带的光谱响应及强度调制功能,叠加具有波长选择作用的F‑P腔阵列,构建超窄带偏器,并用于实现彩色纳米印刷功能。本发明实现广色域、连续灰度调制及高分辨率的彩色图像印刷/显示,可广泛用于信息加密、光学防伪、复制画等领域,具有设计灵活、加工简单、结构紧凑等突出优点。
  • 基于微纳起偏器结构彩色纳米印刷器件
  • [发明专利]大面积结构软压印方法-CN200710099102.3无效
  • 董小春;杜春雷;史立芳;罗先刚 - 中国科学院光电技术研究所
  • 2007-05-11 - 2007-10-10 - G03F7/00
  • 大面积结构软压印方法:首先采用光刻方法在硬质基底表面加工需要图形结构,在加工完成的硬质模板表面涂预聚的有机材料PDMS,完成软质模板的制作;将软质模板的非图形面黏附于经过双面抛平的基片表面,并滴加有机材料抗蚀剂进行涂,涂后从基片表面取下,并将软质模板的结构面与基片的抛光面进行紧密接触;将软质模板从基片表面掀掉,有机材料抗蚀剂材质的结构将被遗留在基片表面,进行热烘焙固化处理,并通过干法刻蚀工艺即可去除底胶或将图形转移至基底表面本发明不仅解决了大面积范围内图形的高保真度、高一致性压印复制问题,减小了压印图形性的留膜量,可以实现特征尺寸从几十微米到几十纳米范围内结构的高精度复制。
  • 大面积结构压印方法

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