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[发明专利]去微弧氧化膜层药剂、去微弧氧化膜层方法-CN201710333096.7在审
发明人：李连成 -专利权人：昆山汉鼎精密金属有限公司
申请日： 2017-05-12 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明涉及微弧氧化技术领域，具体是涉及一种去微弧氧化膜层药剂、去微弧氧化膜层方法，用于对不良品工件进行去微弧氧化膜层处理。该去微弧氧化膜层药剂，以浓度计，包括：有机酸，45g/L‑60g/L，溶剂是去离子水。去微弧氧化膜层的方法包括：首先，将不良品工件浸没在所述去微弧氧化膜层药剂中；同时，用铜刷刷洗不良品工件的表面；其后，清除掉表面由灰白变黑的微弧氧化膜层，清洗烘干之后即可进行再次微弧氧化。本发明的去微弧氧化膜层药剂能够去除微弧氧化膜层，去除掉后，相关工件可以重新进行微弧氧化，并且其性能不会受到影响。
微弧氧化膜层微弧氧化不良品清洗烘干去离子水浓度计有机酸浸没溶剂变黑除掉去除

[发明专利]去微弧氧化膜层药剂及其方法-CN201710778217.9在审
发明人：李连成 -专利权人：昆山汉鼎精密金属有限公司
申请日： 2017-09-01 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明涉及微弧氧化技术领域，具体是涉及一种去微弧氧化膜层药剂及其方法。该去微弧氧化膜层药剂，以浓度计，包括：乳酸、a‑氨基酸、柠檬酸、植酸钠、己二酸中的至少一种，2‑5g/L；溶剂是去离子水。去微弧氧化膜层的方法包括：将工件放置在所述去微弧氧化膜层药剂中反应一段时间；反应过程中不断刷洗工件的微弧氧化膜层处，使其与去微弧氧化膜层药剂充分反应；反应时间到后，将工件的微弧氧化膜层剥除；对工件进行后处理相较于现有技术，本发明的去微弧氧化膜层药剂能够去除微弧氧化膜层，去除掉后的工件可以再次微弧氧化。本发明的污染小、成本低，清除微弧氧化膜层彻底。由此解决了微弧氧化工件剥除微弧氧化膜层效果不佳的问题。
微弧氧化膜层微弧氧化剥除工件放置去离子水后处理柠檬酸己二酸浓度计植酸钠氨基酸除掉去除溶剂乳酸污染

[发明专利]一种实时监控去氧化层时间以制备优质阳极氧化铝模板的方法-CN201510102016.8有效
发明人：陈清明;杨盛安;李东麒;罗均美;王加杰;刘翔 -专利权人：昆明理工大学
申请日： 2015-03-09 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C25D11/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种实时监控去氧化层时间以制备优质阳极氧化铝模板的方法，属于材料制备技术领域。该实时监控去氧化层时间以制备优质阳极氧化铝模板的方法，其步骤如下：首先铝片经退火、抛光处理、一次氧化、去除氧化层、二次氧化后得到阳极氧化铝模板，在去除氧化层过程中用电流‑时间监控系统对该阶段进行监测，以实时得到的I‑T曲线图来判断反应终止点以期达到最佳去除氧化层效果。该方法解决了现有技术中在去氧化层阶段实时判断反应程度进而保障其效果的问题，经试验证明，直接采用本发明实时监控获得的I‑T曲线变化可获得最佳去氧化层时间。
一种实时监控氧化时间制备优质阳极氧化铝模板方法

[实用新型]一种套筒去氧化层装置-CN201921213511.6有效
发明人：李书益;肖长慎;张宏静;郑大林;周晋华 -专利权人：宜昌华益工具制造股份有限公司
申请日： 2019-07-30 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： B24B27/033 文献下载
摘要：一种套筒去氧化层装置,包括研磨机主体，研磨机主体内装有打磨石和套筒，所述研磨机主体两侧设有进液管和出液管，其中进液管通过泵体与去氧化层研磨液罐连接。本实用新型提供的一种套筒去氧化层装置，可快速批量去除套筒表层的氧化层。
一种套筒氧化装置

[发明专利]半导体处理工艺及半导体器件的制备方法-CN201410110061.3在审
发明人：李全波;黄君;孟祥国;张瑜 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-03-24 - 公布日： 2014-06-18 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：本发明揭示了一种半导体处理工艺，包括：提供一基底，对所述基底进行最少一次氧化-去氧化层处理，其中，所述氧化-去氧化层处理包括：对所述基底的表面进行氧化处理，在所述基底的表面形成一氧化层；去除所述氧化层，通过所述氧化-去氧化层处理，可以减少或消除所述基底表面的缺陷，使得所述基底表面平整有利于下一步工序的进行。
半导体处理工艺半导体器件制备方法

[发明专利]一种杀菌去油厨房多用布-CN200910243045.0无效
发明人：高源;王婷婷 -专利权人：北京欧凯纳斯科技有限公司
申请日： 2009-12-22 - 公布日： 2010-08-25 - 主分类号： A61L2/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种杀菌去油厨房多用布，其依次包括海绵层、二氧化氯微胶囊层和吸水去油纤维层，各层之间通过粘合剂粘合，所述二氧化氯微胶囊层为涂覆有二氧化氯微胶囊的非织造布。本发明的杀菌去油厨房多用布，不但具有良好的吸水，去油功能，而且能在较短时间内杀死在餐具及各种台面上的常见细菌和病毒，并且有除臭去味功能。本发明的杀菌去油厨房多用布质地柔软，对皮肤没有任何刺激，杀菌成分二氧化氯对人也没有任何毒副作用，安全，环保，使用方便。
一种杀菌厨房多用

[发明专利]平坦化层去残留的方法-CN201610156306.5有效
发明人：李伟华 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2016-03-18 - 公布日： 2018-07-13 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明提供一种平坦化层去残留的方法，利用氧气和六氟化硫的混合气体作为制程气体对平坦化层进行干法刻蚀去残留处理，其中，氧气在等离子状态下与平坦化层过孔内残留的有机光阻屑反应使其消除，六氟化硫在等离子状态下与金属层上由氧化反应而产生的钛氧化物发生反应使其消除，从而使干法刻蚀去残留处理后，金属层上不存在钛氧化物层，与现有技术相比，制程气体中加入六氟化硫，不仅能够提升去残留制程的反应速率，并且还能够去除顶部钛层表面经氧化形成的钛氧化物，从而在清除了残留的有机光阻屑的同时，使后续形成的电极层与顶部钛层通过过孔搭接后不产生过高的阻抗，避免产生暗点等不良现象，提升液晶显示面板的品质。
残留平坦化层六氟化硫制程等离子状态干法刻蚀钛氧化物金属层氧气液晶显示面板钛氧化物层不良现象混合气体氧化反应钛层表面电极层暗点搭接阻抗钛层去除

[发明专利]绝缘体上覆硅基板的制造方法及半导体装置-CN201811481775.X有效
发明人：陈步芳;林诗杰;卢一斌;杜友伦 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-12-05 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种绝缘体上覆硅(SOI)基板的制造方法，包括：沉积一蚀刻停止层于一虚设晶圆之上；生长一外延硅层于蚀刻停止层之上；形成一去疵层于外延硅层之上；接合一主要晶圆的一埋藏氧化层至去疵层；以及在移除虚设晶圆和蚀刻停止层以暴露外延硅层SOI基板具有与去疵层连接的一外延硅层，其中去疵层中介于埋藏氧化层和外延硅层之间。
绝缘体上覆硅基板制造方法半导体装置

[发明专利]制作图案化氧化物导电层的方法及蚀刻机台-CN201110330194.8有效
发明人：刘光泽;陈庆育;游江津;邱奕昇 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2011-10-24 - 公布日： 2012-06-20 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种制作图案化氧化物导电层的方法及蚀刻机台，方法包含下列步骤：于基板上形成氧化物导电层与图案化光阻层，其中该图案化光阻层部分暴露出该氧化物导电层。之后再利用蚀刻液蚀刻该图案化光阻层暴露出的该氧化物导电层，以及利用化学药剂除去该氧化物导电层上的该图案化光阻层，其中蚀刻该氧化物导电层的步骤与利用化学药剂除去图案化光阻层的步骤之间不包括对该基板进行水洗步骤蚀刻机台包含蚀刻单元与去光阻单元。蚀刻单元用以蚀刻基板上的图案化光阻层暴露出的氧化物导电层；去光阻单元用以除去氧化物导电层上的图案化光阻层，其中蚀刻单元与去光阻单元之间不包括水洗单元。
制作图案氧化物导电方法蚀刻机台

[实用新型]一种气相色谱仪载气净化装置-CN202022860579.2有效
发明人：柳卧虎;杨帆;张国瑜 -专利权人：柳卧虎
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： G01N30/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气相色谱仪载气净化装置，所述导气管分别连接去CO装置、去O2装置、去CO2装置、去水装置和气相色谱仪上设有的管口，所述管口内设有密封垫一，所述去CO装置上设有点燃装置，所述点燃装置包括点燃器和助燃管，所述点燃装置上设有密封垫二，所述去O2装置内壁设有电热丝，所述去O2装置内设有电热片，所述去CO2装置内设有氢氧化钙水溶液，所述去水装置内设有吸附树脂层，所述吸附树脂层下端设有海绵层，所述海绵层下端设有棉布层，所述去水装置内底端设有浓硫酸，此装置可以吸收氧气、一氧化碳、二氧化碳和水，并且整个装置结构稳定，不会泄漏气体，而污染了外部环境，外部空气也不会进入到装置中，导致气体不纯。
一种色谱仪净化装置

[发明专利]金属丝去氧化层装置-CN201310385798.1无效
发明人：张波;张伟杰 -专利权人：江苏中江焊丝有限公司
申请日： 2013-08-30 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： B24B27/033 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属丝去氧化层装置，其包括工作台及设置在工作台的粗磨机构和细磨机构，所述的粗磨机构设置在工作台前侧，其包括粗砂纸和夹持部件，在粗磨机构的上方设置有弱酸滴液管，所述的细磨机构包括细砂纸和夹持部件本发明的金属丝去氧化层装置结构简单，成本低，使用效果好，能够彻底清除金属丝表面的氧化层，同时砂纸更换方便，便于操作。
金属丝氧化装置

[发明专利]金属丝去氧化层装置-CN201310396175.4无效
发明人：张伟杰;张波 -专利权人：常州市正阳焊接材料有限公司
申请日： 2013-09-04 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： B24B27/033 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属丝去氧化层装置，其包括固定架，固定架中部具有焊丝通道，焊丝通道的上下两侧间隔设置有多个竖直摩擦轮，焊丝通道的内外两侧间隔设置有多个水平摩擦轮，竖直摩擦轮和水平摩擦轮的轮面上均设置有弧形槽
金属丝氧化装置

[实用新型]电工用金属去氧化层工具-CN201520101202.5有效
发明人：石磊;魏光;张天冉;潘光午 -专利权人：国家电网公司;国网山东禹城市供电公司
申请日： 2015-02-12 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： B24B27/033 文献下载
摘要：一种电工用金属去氧化层工具，包括支架，支架的一侧安装导轨，导轨上安装电机架，电机架上安装电机，电机架的一侧安装螺母，支架的上部一侧安装上固定板。本实用新型提供了一种高效去除导电片或接线柱氧化层的装置。将被打磨的导电片或接线柱放置在台板上，旋转螺栓，螺栓转动带动螺母向下移动，从而使打磨块与被打磨的导电片或接线柱接触，开启电机，电机带动打磨块转动，打磨块对导电片或接线柱进行打磨，由于电机具有高转速，使打磨块可以快速将导电片或接线柱上的氧化层打磨干净
工用金属氧化工具

[实用新型]金属丝去氧化层装置-CN201320545911.3有效
发明人：张伟杰;张波 -专利权人：常州市正阳焊接材料有限公司
申请日： 2013-09-04 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： B24B27/033 文献下载
摘要：实用新型涉及一种金属丝去氧化层装置，其包括固定架，固定架中部具有焊丝通道，焊丝通道的上下两侧间隔设置有多个竖直摩擦轮，焊丝通道的内外两侧间隔设置有多个水平摩擦轮，竖直摩擦轮和水平摩擦轮的轮面上均设置有弧形槽
金属丝氧化装置

[实用新型]金属丝去氧化层装置-CN201320535157.5有效
发明人：张波;张伟杰 -专利权人：江苏中江焊丝有限公司
申请日： 2013-08-30 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： B24B27/033 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种金属丝去氧化层装置，其包括工作台及设置在工作台的粗磨机构和细磨机构，所述的粗磨机构设置在工作台前侧，其包括粗砂纸和夹持部件，在粗磨机构的上方设置有弱酸滴液管，所述的细磨机构包括细砂纸和夹持部件本实用新型的金属丝去氧化层装置结构简单，成本低，使用效果好，能够彻底清除金属丝表面的氧化层，同时砂纸更换方便，便于操作。
金属丝氧化装置

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